.Pretratamiento del material a revestir (14/04 tiene prioridad) [4]

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CIP: C23C14/02, .Pretratamiento del material a revestir (14/04 tiene prioridad) [4]

Entorno:
  • Revestimiento por evaporación en vacío, por pulverización catódica o implantación de iones [4]

Inventos patentados en esta categoría

1.-

Un aparato de tratamiento de bombardeo de iones para limpiar una superficie de un material (W) base colocado en una cámara de vacío irradiando iones de gas generados en la cámara de vacío, que comprende: un electrodo de emisión de electrones térmicos de tipo de calentamiento colocado en una superficie interior de la cámara de vacío y formado por un filamento; un ánodo colocado en otra superficie interior de la cámara de vacío, recibiendo el ánodo un electrón térmico desde dicho electrodo de emisión de electrones térmicos; una herramienta 10 de retención de material...

2.-

Máquina para revestir un artículo óptico con una composición de revestimiento antisuciedad, que comprende: - una cámara de vacío que presenta un especio interior configurado para recibir el artículo óptico ; - una bomba de vacío conectada a la cámara de vacío ; - un generador de plasma configurado para llevar a cabo un tratamiento de plasma al vacío del artículo óptico en la cámara de vacío ; - un dispositivo de evaporación configurado para llevar a cabo un tratamiento de evaporación al vacío de la composición de revestimiento antisuciedad para su depósito sobre el artículo óptico en la cámara de vacío ; y - una unidad de control configurada para controlar tanto el generador de plasma como el dispositivo...

3.-

Un artículo recubierto que tiene un color negro que comprende un sustrato que tiene una superficie y que tienesobre al menos una porción de la superficie un recubrimiento en multi-capas que comprende, por orden: una primera capa de oxicarburo de un metal refractario que tiene un contenido de oxígeno y un contenido decarbono en donde el contenido de oxígeno es mayor que el contenido de carbono, una segunda capa de color encima de la primera capa de color, en donde la segunda capa de color comprende unacapa de oxicarburo de metal refractario que tiene un contenido de oxígeno y un contenido de carbono en...

4.-

Una estructura estratificada que comprende - una primera capa intermedia, estando seleccionada dicha primera capa intermedia entre el grupo queconsiste en una capa de titanio, una capa de cromo, una capa de TiC, una capa de TiN, una capa de TicN, unacapa de CrN y una capa de Cr3C2. - una segunda capa intermedia depositada sobre la parte superior de dicha primera capa intermedia,comprendiendo dicha segunda capa intermedia una composición nanocompuesta de tipo diamante; - una capa de carbono de tipo diamante depositada sobre la parte superior de dicha segunda capa intermedia.

5.-

Un proceso para revestir un substrato con un acabado cromado estable e uniforme, comprendiendo dicho proceso la secuencia siguiente: a) proporcionar un substrato; b) preparar una superficie de dicho substrato; c) aplicar un revestimiento de base; d) aplicar una primera capa metálica estabilizadora a dicho substrato por medio de una deposición con vapor a vacío, comprendiendo dicha primera capa metálica una mezcla de 50-80% de Níquel y 50-20% de cromo; y e) aplicar una segunda capa metálica sobre dicha primera capa metálica por medio de un método de deposición con vapor a vacío, estando dicha segunda capa metálica por aproximadamente 99% de cromo.

6.-

Un método de fabricación de un artículo recubierto, el método que consiste en: producir un sustrato de vidrio; utilizar pirólisis de llama para depositar al menos una capa sobre el sustrato de vidrio;y formar una capa antigrabado encima del sustrato de vidrio sobre la capa depositadapor pirólisis de llama, en la que la pirólisis de llama se utiliza para depositar una capaque comprende óxido de silicio sobre el sustrato de vidrio, y en la que la pirólisis dellama utiliza gas TEOS que se introduce al menos en un quemador para depositar lacapa que comprende óxido de silicio y donde el artículo recubierto es una ventana, enla que la capa antigrabado comprende oxicarburo de circonio.

7.-

Un procedimiento para recubrir artículos cerámicos vitrificados con materiales a base de metales por la técnica dedeposición física en fase vapor (PVD), en el que después de situar en el ánodo los artículos cerámicos a recubrir,mientras que los materiales a base de metales son situados en el cátodo, en la cámara de vacío, el procedimientorespectivamente comprende las etapas de: evacuar el aire en la cámara de vacío en las fases primera y segunda; limpiar la superficie catódica por el plasma depositado en la cámara de vacío en la tercera fase; someter lasuperficie cerámica a un procedimiento de ataque químico por iones en las fases cuarta y quinta; recubrir de manerano reactiva la superficie cerámica mediante el plasma en la sexta fase; recubrir de manera reactiva la superficiecerámica...

8.- PROCEDIMIENTO PARA LA METALIZACIÓN DE FIBRAS DE NYLON Y CEPILLO PARA EL CABELLO DE FIBRAS DE NYLON METALIZADAS

. Solicitante/s: DOLS INDUSTRIAL DE PELUQUERIA, S.A.. Inventor/es:

Procedimiento para la metalización de fibras de nylon, basado en la deposición de una fina capa de metal a nivel nanométrico sobre dichas fibras. La presente invención se aplica en concreto a las fibras de nylon presentes en los cepillos para el cabello, con el fin de eliminar la acumulación de electricidad estática durante el peinado y, con ello, el encrespamiento del cabello.

9.-

Un método que comprende: proporcionar un substrato que comprende un material compuesto de partículas de un materialconstitutivo duro incluyendo tungsteno y carbono unidos entre sí por una fase ligante que incluyecobalto, y mordentado una superficie de dicho sustrato en donde dicha etapa de mordentado comprendeponer en contacto dicha superficie con un flujo gaseoso sustancialmente libre de hidrógeno gaseosoy que comprende un gas mordentador y un segundo gas por un período de tiempo que eliminaráuna porción de dicha fase ligante, dicho segundo gas comprendiendo uno o más gases que noreaccionarán con dicho substrato o dicha porción y que no cambiará el estado de oxidación de dichosustrato durante dicha etapa de mordentado.

10.-

Procedimiento de fabricación de una lámina parcialmente metalizada destinada a ser usada como hilo, banda oparche para billetes de banco, papeles negociables y tarjetas de crédito, como antena de RF paratranspondedores, tarjetas inteligentes, etiquetas inteligentes y marbetes, como antena de RF en etiquetasantirrobo, o como etiquetas de control para el aseguramiento de la calidad, caracterizado por el hecho de quesobre una lámina de soporte se imprime un dibujo con una tinta soluble (tinta eliminable por lavado), una capade tinta pigmentada, una capa puramente de pigmento o pigmentos en suspensión, a continuación la lámina de soporte pretratada es...

11.-

Procedimiento de formación de un revestimiento de un grosor inferior o igual a 200 nm y de unadureza superior o igual a 20 GPa, de un material de estructura nanocompuesta a base de titanio, de zirconio, deboro y de nitrógeno, sabre un soporte caracterizado porque comprende las siguientes etapas: a) depósito par pulverización catódica can magnetr6n de una capa de titanio, sabre al menos una superficiede un soporte a una presión parcial de argón de 1 Pa, b) depósito par pulverización catódica can magnetrón de una capa de nitruro de titanio, sabre la capa obtenida en la etapa a) mediante introducción de nitrógeno en el recinto de pulverización catódica...

12.-

Instalación de procesamiento en vacío con una cámara de vacío para el tratamiento de la superficie de piezas con una fuente de vaporización con arco, que comprende un ánodo y un primer electrodo (5') configurado comoelectrodo de target, estando conectados este ánodo y este electrodo (5') con una fuente de alimentación concorriente continua y con un segundo electrodo dispuesto separado de la fuente de vaporización conarco y de la cámara de vacío, caracterizada porque los dos electrodos (5', 3, 18, 20, 22) están conectados con unafuente bipolar de corriente pulsada para la formación de una vía de descarga adicional.

13.-

Método y aparato para el registro de estructuras ópticas difractivas. La presente invención propone un método para la fabricaciónde elementos ópticos difractivos de una forma simple y económica.Este método incluye los siguientes pasos: (a) situar un substrato transparente próximo a un material blanco, ambos ubicados en elinterior de una cámara, (b) producir la vaporización o sublimación del material blanco, (c) depositar esta fase de vapor sobre elsubstrato, y (d) irradiar de forma concurrente la zona del substrato donde se produce el depósito con una distribución arbitrariade la intensidad luminosa. El depósito presenta funcionalidad...

14.-

- Material compuesto para cojinete liso con una capa de soporte que presenta una aleación de cobre del 0,5 - 5 % en peso de níquel, el 0,2 - 2,5 % en peso de silicio, ≤ 0,1 % en peso de plomo, opcionalmente adicionalmente con el 0,05 al 2 % en peso de manganeso y/o el 0,05 al 0,4 % en peso de elementos de microaleación y el resto cobre y con una capa de deslizamiento aplicada directamente sobre la capa de soporte mediante un procedimiento de PVD

15.-

La presente invención propone un método para la fabricación de elementos ópticos difractivos de una forma simple y económica. Este método incluye los siguientes pasos: (a) situar un substrato transparente próximo a un material de partida, ambos ubicados en el interior de una cámara; (b) modular espacialmente una radiación proveniente de una fuente de radiación según un patrón de difracción requerido; (c) irradiar el substrato de forma que la radiación lo atraviese; (d) exponer el material de partida a la radiación transmitida a través del substrato, de modo que al incidir la radiación sobre el material de partida se produzca su evaporación o sublimación; (e) depositar la fase de vapor del...

16.- PROCESO DE PLASMA PARA EL TRATAMIENTO SUPERFICIAL DE SUBSTRATOS DE SILICONA.

. Solicitante/s: HARTEC GESELLSCHAFT FUR HARTSTOFFE UND DUNNSCHICHTTECHNIK MBH & CO. KG. Inventor/es:

Proceso de plasma para tratar superficies de substratos de silicona, que consiste en introducir en una cámara de proceso el substrato a tratar, desgasificarlo, extraer continuamente los gases residuales de la cámara de proceso mediante bombas de vacío y activar el substrato, exponiendo su superficie a un plasma generado mediante una descarga eléctrica de gas en el vacío, y eligiendo la energía y el tiempo de acción del plasma sobre la superficie del substrato de manera que su energía superficial se incremente significativamente debido a la modificación de las moléculas próximas a la superficie, a fin de que los substratos de silicona tratados superficialmente de esta forma puedan recubrirse directamente, caracterizado porque la activación con el plasma tiene lugar a una presión de 10-3 hasta 10-2 mbar.

17.- ELEMENTO DE SEGURIDAD Y PROCEDIMIENTO PARA SU FABRICACION.

. Solicitante/s: GIESECKE & DEVRIENT GMBH. Inventor/es:

Elemento de seguridad, que presenta como mínimo una capa de material plástico con estructura dotada de embuticiones, ópticamente variable, así como una capa metálica reflectante, caracterizado porque dispone de una capa auxiliar inorgánica entre la capa de material plástico y la capa metálica, que incrementa la adherencia entre la capa metálica y la capa de material plástico.

18.- PROCEDIMIENTO PVD PARA EL REVESTIMIENTO DE SUSTRATOS MEDIANTE PROYECCION CATODICA DE TIPO MAGNETRON.

. Solicitante/s: MUNZ, WOLF-DIETER EHIASARIAN, ARUTIUN P. HOVSEPIAR, PAPKEN EH., DR. Inventor/es:

Procedimiento PVD para el revestimiento de substratos, en el que después de un tratamiento previo se efectúa un revestimiento mediante proyección catódica, caracterizado porque el substrato es tratado previamente en el vapor de una proyección catódica pulsante, ayudada por campos magnéticos, porque durante el tratamiento previo se usa, para la ayuda por campos magnéticos, una disposición de campos magnéticos del tipo del cátodo de un magnetrón con una intensidad de la componente horizontal delante del blanco de 100 a 1.500 Gauss, y porque la densidad de potencia de la descarga pulsante durante el tratamiento previo está situada por.

19.- PROCEDIMIENTO DE RECUBRIMIENTO DE UNA GOMA DE LIMPIAPARABRISAS

. Solicitante/s: ROBERT BOSCH GMBH. Inventor/es:

La invención se refiere a un procedimiento para el revestimiento de una rasqueta limpiaparabrisas de caucho hecha de un material elastomérico. Según el procedimiento de la invención, el revestimiento se lleva a cabo por medio de un proceso CVD y/o por medio de un proceso PVD durante los cuales los vapores que recubren el material se generan y se activan utilizando técnicas térmicas, de plasma y/o láser. Se forman capas protectoras resistentes al desgaste que exhiben buenas características de deslizamiento sobre la superficie de la rasqueta limpiaparabrisas de caucho.

20.- PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN RECUBRIMIENTO EN UNA HERRAMIENTA DE MECANIZACION CON LEVANTAMIENTO DE VIRUTAS, Y HERRAMIENTA DE MECANIZACION.

. Ver ilustración. Solicitante/s: BIHLERIT G.M.B.H. & CO. KG. Inventor/es:

Método para la producción de un recubrimiento sobre una parte o partes de la superficie inmediata al borde o bordes de corte de una herramienta de corte con levantamiento de virutas, caracterizado porque la superficie de la herramienta o sustrato a recubrir es rectificada con una profundidad máxima de perfil RY menor de 8 microm en la sección transversal de la superficie, seguido de una etapa de alisado de las puntas salientes del perfil a una profundidad máxima del perfil RM de 1 a 5 microm y que sobre la superficie del sustrato constituida de este modo se aplica con un grosor de 0, 5 a 5 microm una capa de nitruro, carburo, carbonitruro, según sea el caso, con oxígeno por ejemplo, oxicarburo, como mínimo, de dos elementos de los grupos 4, 5 y 6 de la tabla periódica de elementos.

21.-

Heterociclos bicíclicos de la **fórmula** Ra significa un átomo de hidrógeno o un grupo metilo, Rb significa un grupo fenilo, bencilo ó 1-feniletilo, en los que el núcleo de fenilo está sustituido en cada caso con los radicales R1 a R3, en donde R1 y R2, que pueden ser iguales o diferentes, represen tan en cada caso un átomo de hidrógeno, flúor, cloro, bromo o yodo, un grupo metilo, etilo, hidroxi, metoxi, etoxi, amino, ciano, vinilo o etinilo, un grupo arilo, ariloxi, arilmetilo o arilmetoxi, un grupo metilo o metoxi sustituido con 1 a 3 átomos de flúor, R1 junto con R2, si éstos están unidos a átomos de carbono...

22.- PROCEDIMIENTO PARA FABRICAR PERFILES HUECOS SIN FIN.

. Solicitante/s: I V T INSTALLATIONS-UND VERBINDUNGSTECHNIK GMBH & CO. KG. Inventor/es:

Procedimiento para fabricar perfiles huecos sin fin de plástico, especialmente tubos, de modo que el tubo de plástico primero se suaviza y, a continuación, por evaporación en vacío, se aplica un metal al tubo como capa metálica, caracterizado porque sobre el tubo suavizado primero se aplica un polímero líquido y, a continuación, se aplica la capa de metal estrechamente unida con el polímero líquido en un grosor de capa en conjunto estanco al gas.

23.- PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UN POLIMERO METALICO.

. Solicitante/s: SYMPATEX TECHNOLOGIES GMBH. Inventor/es:

Procedimiento para la preparación de un material compuesto laminar, permeable al vapor de agua, impermeable al agua y termorreflectante, que comprende una capa metálica continua y una lámina de poliéter-éster, poliéter- amida o poliéter-uretano, exenta de poros, permeable al vapor de agua, impermeable al agua e hidrófila, en el que la capa metálica tiene una superficie dirigida hacia la lámina y una superficie que se aleja de la lámina, y en el que la lámina tiene una superficie dirigida hacia la capa metálica y una superficie que se aleja de la capa metálica, que comprende al menos las etapas de a) introducción de la lámina, b) purificación previa la lámina por medio de tratamiento de plasma en oxígeno o en un gas oxigenado, y c) aplicación de la capa metálica sobre la superficie de la lámina dirigida hacia la capa metálica, con un grosor de 10 hasta 200 nm.

24.- CONTENEDOR LIBRE DE CARGA ELECTROSTATICA.

. Solicitante/s: FUSTIPLAST S.P.A. Inventor/es:

Contenedor para el almacenamiento y/o el transporte de líquidos o polvos, en particular inflamables, adecuado para evitar la formación de carga electrostática, que comprende un tanque soportado por un palet , alojado en una jaula metálica y que presenta una superficie externa en contacto con dicha jaula metálica , caracterizado porque dicho tanque comprende: - una capa de base de material de plástico que comprende en el exterior una capa superficial modificada mediante tratamiento por plasma con el fin de mejorar la humectabilidad en la superficie de la capa de base y - una capa de material metálico asociada en superposición con dicha capa superficial 814) mediante la deposición con la técnica de PVD (deposición física en fase de vapor) al vacío, estando dicha capa de material metálico en contacto con dicha jaula metálica para hacer que la jaula y la superficie externa del tanque sean equipotenciales.

25.- METODO PARA FORMAR CAPAS DE METALES, OXIDOS METALICOS Y ALEACIONES METALICAS SOBRE MEMBRANAS POLIMERICAS CONDUCTORAS DE IONES.

. Solicitante/s: DE NORA S.P.A.. Inventor/es:

METODO DE REVESTIMIENTO DE ELECTROLITOS POLIMERICOS SOLIDOS U OTRAS SUPERFICIES POLIMERICAS CONDUCTORAS DE IONES, CON UNA PELIUCLA FINA DE AL MENOS UN METAL, ALEACION METALICA, OXIDO METALICO U OXIDOS METALICOS MIXTOS, SOMETIENDO DICHAS SUPERFICIES CONDUCTORAS DE IONES A UN HAZ DE ELECTRONES DE BAJA ENERGIA, PARA LIMPIAR LA MISMA Y, A CONTINUACION, SOMETER LAS SUPERFICIES LIMPIADAS BAJO VACIO, A UN HAZ DE ELECTRONES DE ALTA ENERGIA QUE CONTIENE IONES DEL METAL QUE SE VA A DEPOSITAR PARA FORMAR DICHA PELICULA FINA. LOS MATERIALES PREPARADOS UTILIZANDO DICHO METODO, PRESENTAN VENTAJAS EN APLICACIONES ELECTROQUIMICAS Y BASADAS EN MEMBRANAS.

26.- MODIFICACION DE SUPERFICIES DE POLIMEROS.

. Solicitante/s: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Inventor/es:

LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO PARA MODIFICAR UNA SUPERFICIE DE POLIMERO, METAL O CERAMICA QUE CONSISTE EN IRRADIAR PARTICULAS IONICAS CON ENERGIA, DESDE UNA DISTANCIA DETERMINADA (DISTANCIA DE IRRADIACION), SOBRE DICHA SUPERFICIE, SOPLANDO AL MISMO TIEMPO GAS O GASES REACTIVOS DIRECTAMENTE SOBRE DICHA SUPERFICIE EN CONDICIONES DE VACIO, PARA DISMINUIR EL ANGULO DE HUMECTACION O AUMENTAR LA FUERZA DE ADHESION DE LA SUPERFICIE, Y A POLIMEROS, METAL O CERAMICA CON SUPERFICIES MODIFICADAS MEDIANTE DICHO PROCESO.

27.- REVESTIMIENTO PROTECTOR CONTRA LA EROSION/CORROSION PARA COMPONENTES EXPUESTOS A ALTAS TEMPERATURAS.

. Ver ilustración. Solicitante/s: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es:

UN ARTICULO DE MANUFACTURA QUE ES OBJETO DE UN ATAQUE EROSIVO Y CORROSIVO EN UN AMBIENTE CON UNA TEMPERATURA ELEVADA ESTA FORMADO POR UN SUBSTRATO DE UNA SUPERALEACION DE NIQUEL O COBALTO Y UN RECUBRIMIENTO PROTECTOR DE SILICIURO DISPUESTO SOBRE EL SUBSTRATO. SE PUEDE DISPONER UNA CAPA DE BARRERA TERMICA DE CERAMICA ENTRE LA SUPERALEACION Y LA CAPA DE SILICIURO Y SE PUEDE DISPONER UNA CAPA DE MCRALY ENTRE LA CAPA CERAMICA Y EL SUBSTRATO DE LA SUPERALEACION. EL RECUBRIMIENTO DE SILICIURO ES PREFERENTEMENTE MOSI SUB,2}.

28.- DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO SUPERFICIAL POR PLASMA DE PIEZAS DE TRABAJO.

. Ver ilustración. Solicitante/s: STRAMKE, SIEGFRIED, DR.. Inventor/es:

EN UN DISPOSITIVO PARA MECANIZAR Y TRATAR SUPERFICIALMENTE CON PLASMA PIEZAS DE TRABAJO SE HAN REUNIDO EN UN APARATO UNA CAMARA DE MECANIZACION PARA MECANIZAR PIEZAS DE TRABAJO Y UNA CAMARA DE TRATAMIENTO PARA EL TRATAMIENTO SUPERFICIAL CON PLASMA DE LAS PIEZAS DE TRABAJO. LAS DOS CAMARAS SON ESTANCAS AL GAS FRENTE AL ENTORNO Y ESTAN SEPARADAS ENTRE SI MEDIANTE UNA PUERTA ESTANCA AL GAS. DE ESTA FORMA PUEDEN MECANIZARSE PIEZAS DE TRABAJO EN LA CAMARA DE MECANIZACION POR MEDIO DE UNA HERRAMIENTA CON EXTRACCION DE VIRUTAS, MIENTRAS LA PUERTA ESTA CERRADA. DESPUES DE LA MECANIZACION SE IGUALAN LOS ESTADOS EN LAS DOS CAMARAS , POR MEDIO POR EJEMPLO DE INTRODUCIR EN LA CAMARA DE MECANIZACION EL MISMO GAS QUE EN LA CAMARA DE TRATAMIENTO . DESPUES DE ALCANZARSE UN EQUILIBRIO DE PRESION ENTRE LAS DOS CAMARAS , SE ABRE LA PUERTA POR DESPLAZAMIENTO Y SE INTRODUCEN LAS PIEZAS DE TRABAJO EN LA CAMARA DE TRATAMIENTO.

29.- CAPA PROTECTORA ANTIOXIDANTE PARA METALES REFRACTARIOS.

. Solicitante/s: PLANSEE AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es:

LA INVENCION TRATA DE UN CUERPO DE BASE A PARTIR DE UN METAL REFRACTARIO Y DE UNA CAPA DE PROTECCION CONTRA LA OXIDACION A PARTIR DE SILICIUROS O ALUMINIUROS. DE ACUERDO CON LA INVENCION, ENTRE EL CUERPO DE BASE Y LA CAPA DE PROTECCION CONTRA LA OXIDACION HAY DISPUESTA UNA CAPA DE BARRERA DE REACCION, Y LA CAPA DE PROTECCION CONTRA LA OXIDACION ESTA ALEADA CON UNO O VARIOS METALES DEL GRUPO CONSTITUIDO POR MOLIBDENO, NIOBIO, TANTALO Y HAFNIO, EN UNA PROPORCION TOTAL DE UN 2 UN 35 % AT.

30.- OBJETO PROVISTO DE UN REVESTIMIENTO RESISTENTE AL DESGASTE, Y SU PROCEDIMIENTO DE FABRICACION.

. Ver ilustración. Solicitante/s: HAUZER HOLDING B.V. Inventor/es:

SE DESCRIBE Y SE REPRESENTA UN ELEMENTO CON CAPA PROTECTORA DE DESGASTE FORMADO POR CAPAS DE SUSTANCIAS ENDURECIDAS Y AL MENOS POR UNA CAPA MIXTA . ESTA ULTIMA ESTA FORMADA POR UN COMPONENTE DE MATERIAL DURO Y UN COMPONENTE DE MATERIAL UNIPOLAR CON EFECTO ANTIADHERENTE A LOS PLASTICOS. SE DESCRIBE, ADEMAS, UN PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE DICHO ELEMENTO CON CAPA PROTECTORA DE DESGASTE.

31.- PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL DECAPADO DE UN SUBSTRATO METALICO.

. Solicitante/s: RECHERCHE ET DEVELOPPEMENT DU GROUPE COCKERILL SAMBRE, EN ABREGE: RD-CS. Inventor/es:

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL DECAPADO DE UN SUSTRATO METALICO QUE COSISTE EN CREAR CERCA DE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO A LIMPIAR UN PLASMA EN UNA MEZCLA DE HIDROGENO, DE COMPUESTOS HIDROGENADOS Y/O DE UN GAS INERTE, TAL COMO ARGON, DE MANERA A GENERAR RADICALES Y/O IONES, ESTANDO ESTE SUSTRATO POLARIZADO NEGATIVAMENTE RESPECTO A UN ANODO DISPUESTO ENFRENTE DE LA SUPERFICIE A DECAPAR QUE PERMITE ASI A LOS RADICALES Y/O IONES ACTUAR SOBRE ESTA ULTIMA.

32.- METODO PARA RECUBRIR SUSTRATOS METALICOS Y CERAMICOS.

. Solicitante/s: HAUZER INDUSTRIES B.V. Inventor/es:

LA PRESENTE INVENCION ESTA RELACIONADA CON LA REDUCCION DE LA RUGOSIDAD SUPERFICIAL DE CAPAS DE MATERIALES DUROS DE TITANIO, ALUMINIO Y NITRURO. PARA ELLO SE COMBINAN EL METODO CATODICO DE EVAPORACION POR DESCARGA DE ARCO VOLTAICO Y EL METODO DE RECUBRIMIENTO POR MAGNETRON SIN EQUILIBRAR (METODO ABS) O SE UTILIZA EL METODO DE EVAPORACION POR DESCARGA DE ARCO VOLTAICO PURAMENTE CATODICO.