18 inventos, patentes y modelos de WOLF, JEAN-PIERRE

Sección de la CIP Química y metalurgia

(29/11/2017). Solicitante/s: IGM Group B.V. Clasificación: C09D4/00, C03C25/10, C08F2/50, C08F290/06, C08G2/00, C08F2/48.

Una composición de recubrimiento de fibra óptica que comprende al menos un compuesto polimerizable etilénicamente insaturado y una mezcla de fotoiniciador líquido puro, en donde la mezcla líquida consiste esencialmente en (c) al menos un fotoiniciador de óxido de bisacilfosfina y (d) al menos un fotoiniciador de óxido de monoacilfosfina y (e) al menos un fotoiniciador de α-hidroxicetona en el que la relación (c):(d):(e) peso:peso:peso está entre 3:1:14 a 4:1:16, donde el fotoiniciador de óxido de bisacilfosfina es óxido de bis(2,4,6-trimetilbenzoil)fenilfosfina; donde el fotoiniciador de óxido de monoacilfosfina es óxido de 2,4,6-trimetilbenzoiletoxifenilfosfina; y el fotoiniciador de α-hidroxicetona es 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-1-propanona.

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Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(01/10/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C09D4/00, C08F2/50, G03F7/031.

La presente invención, se refiere a fotoiniciadores del tipo ácido fenilglioxílico, los cuales, en virtud de su especial sustitución, son capaces de incorporarse en la formulación a ser polimerizada.

Secciones de la CIP Física Química y metalurgia

(16/03/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: G03F7/004, G03F7/029, C07F9/50, C08F2/48.

Monoacilalquilfosfinas organometálicas. Son compuestos correspondientes a las fórmulas I, II o III, en donde los radicales Ar, M, R6, Ax, Y1, Z1, y los radicales subordinados correspondientes se describen en la descripción y en las reivindicaciones. Se describen también procesos para la preparación de estos compuestos. Los compuestos I se usan como materiales de partida para la preparación de mono- o bisacilfosfinas, óxidos de mono- o bisacilfosfinas, o sulfuros de mono- bisacilfosfinas. Los compuestos II y III se usan como iniciadores de fotopolimerización de compuestos monoméricos no volátiles, y compuestos oligoméricos o poliméricos que tengan al menos un doble enlace etilénico insaturado.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(01/03/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08F2/50, G03F7/029, C07F9/50, C07F9/53.

Monoacilarilfosfinas organometálicas. Estos compuestos corresponden a la fórmula I, en la que los radicales M y R1-R10 vienen definidos en la Memoria y en las reivindicaciones. La invención se refiere también a procedimientos para la obtención selectiva de estos compuestos, y a la utilización de ellos para la obtención de mono- o bisacilfosfinas, óxidos de mono- o bisacilfosfinas, o sulfuros de mono- o bisacilfosfinas. También es objeto de la invención una composición fotorreticulable. Los compuestos de la invención se usan para la obtención de acilfosfinas, óxidos de acilfosfinas o sulfuros de acilfosfinas, que se usan como fotoiniciadores de la fotopolimerización de compuestos monoméricos, oligoméricos o poliméricos.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/07/2004). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C07D403/12, C07D249/08, C07D249/18, C23F11/14, C09K15/30, C10M133/44.

SE DESCRIBEN LOS COMPUESTOS DE FORMULA I Y SUS MEZCLAS, EN DONDE Y Y Z SON, INDEPENDIENTEMENTE UNO DE OTRO, UN RADICAL DE FORMULA O R Y R{SUB,1} SON, INDEPENDIENTEMENTE UNO DE OTRO, HIDROGENO, ALQUILO DE C{SUB,1}-C{SUB,12}, CICLOALQUILO DE C{SUB,5}-C{SUB,8}, CICLOALQUILO DE C{SUB,5}-C{SUB,8} SUSTITUIDO CON ALQUILO DE C{SUB,1}-C{SUB,4}, FENILO O FENILO SUSTITUIDO CON ALQUILO DE C{SUB,1}-C{SUB,4}, R{SUB,2} ES ALQUILENO DE C{SUB,2}-C{SUB,20}, CICLOALQUILENO DE C{SUB,5}-C{SUB,8}, UN RADICAL DE FORMULA O -(C{SUB,N}H{SUB,2N}O){SUB ,M}C{SUB,N}H{SUB,2N}- , VALIENDO N 2, 3 O 4, Y M DE 1 A 20, R{SUB,3} ES HIDROGENO O ALQUILO DE C{SUB,1}-C{SUB,4}, Y R{SUB,4} ES HIDROGENO O METILO. LOS COMPUESTOS/MEZCLAS SON MUY APROPIADOS ESPECIALMENTE COMO DESACTIVADORES DE METALES PARA UTILIZARLOS EN LUBRICANTES.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(16/06/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C09D7/12, B27K5/02, C09D15/00.

LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO DE PROTECCION DE MADERA FRENTE A LA DEGRADACION INDUCIDA POR LA LUZ, MEDIANTE TRATAMIENTO CON UN TINTE O MATERIAL IMPREGNANTE QUE PENETRA EN LA SUPERFICIE DE LA MADERA, EL CUAL COMPRENDE: A) AL MENOS UN DISOLVENTE ORGANICO; B) UN COMPUESTO DE AMINA IMPEDIDO, DE FORMULA I O II: DONDE: G 1 Y G 2 SON INDEPENDIENTEMENTE ALQUILO DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO O SON, CONJUNTAMENTE, PENTAMETILENO, Z 1 Y Z 2 SON CADA UNO METILO, O FORMAN CONJUNTAMENTE UNA FRACCION DE UNION QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDA ADICIONALMENTE POR UN GRUPO ETER, ETER, HIDROXILO, OXO, CIANOHIDRINA, AMIDA, AMINO, CARBOXI O URETANO, E ES OXILO O HIDROXILO, X ES UN ANION INORGANICO U ORGANICO, Y SIENDO LA CARGA TOTAL DE LOS CATIONES H, IGUAL A LA CARGA TOTAL DE LOS ANIONES J.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(01/04/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALITY CHEMICALS HOLDING INC. Clasificación: C08F2/50, G03F7/029.

Sales yodonio como dadores latentes de acido. El invento se refiere a composiciones sensibles a la radiación que contienen, (a1) un compuesto polimerizable o reticulable por cationes o por catálisis ácida o (a2) un compuesto que por acción aumenta su solubilidad en el revelador; y (b) por lo menos una sal diarilyodonio de la fórmula I, en donde X, X{sub,1}, Y, A- y R{sub,1} tienen el significado expuesto en las reivindicaciones. Estas composiciones poseen una gran sensibilidad, una buena estabilidad al almacenaje, buena solubilidad y poca tendencia a cristalizar.

Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia

(01/07/2003). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: A61K31/40, A61K31/47, A61K31/18, C07D217/02, C07D213/76, C07D209/44, C07C311/08, C07C311/10, C07C309/80, C07D215/26, C07C217/90, C07D275/02, C07D217/04, C07C309/82, C07C43/275.

Oligómeros de bloque conteniendo grupos 1 - hidro-carbiloxi - 2,2,6,6 - tetrametil - 4 - piperidilo como estabilizadores para materiales orgánicos. Estos productos se pueden obtener 1) haciendo reaccionar un compuesto de fórmula (alfa) con un compuesto de fórmula (beta); 2) haciendo reaccionar los grupos extremos de la fórmula (gamma) presente en el producto de la reacción 1) con, por ejemplo, dibutilamina, y 3) transfiriendo los grupos de la fórmula (G-I) presentes en el producto de la reacción 2) a grupos de la fórmula (G-II), realizando dicha transferencia por reacción del producto de la reacción 2) con un hidroperóxido, en un disolvente hidrocarbúrico, y en presencia de un catalizador de descomposición de peróxido. Los productos obtenidos son útiles como estabilizadores de la luz, del calor y de la oxidación para materiales orgánicos, en particular polímeros sintéticos, como las poliolefinas.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/06/2002). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C09D7/12, C08K5/3475, C09K15/30, C07D249/20.

Absorbedores de UV de benzotriazol que tienen durabilidad mejorada. Absorbedores de UV de benzotriazol que están sustituidos en la posición 5 del anillo benzo por un grupo secuestrador de electrones exhiben durabilidad mejorada y ratios de pérdida muy bajos cuando se incorporan a revestimientos del automóvil. Esto es particularmente el caso cuando la posición 3 del grupo fenilo está también sustituida por el fenilo o fenilalquilo tal como a-cumilo. Los compuestos en donde la posición 5 del anillo benzo está sustituida por perfluoroalquilo tal como trifluorometilo son particularmente de interés por su durabilidad mejorada y por su excelente solubilidad y excelentes propiedades de color en algunas composiciones termoplásticas.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(16/12/2000). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C07C271/24, C07C271/12, C08J3/28, C07C271/28, G03F7/031, C07D303/16, C07C271/34, C07C271/36, C07C271/38.

LA INVENCION SE REFIERE A NUEVO (MET)ACRILATO QUE CONTIENE GRUPOS URETANO, CONTENIENDO EN UNA Y EN LA MISMA MOLECULA UN GRUPO (MET)ACRILATO Y UN GRUPO URETANO, ASI COMO OTROS GRUPOS POLIMERIZABLES Y PUEDEN POLIMERIZAR, TANTO DE FORMA RADICAL, COMO DE FORMA CATIONICA, SIENDO UTILIZADOS PARA LA ELABORACION DE RECUBRIMIENTOS, AGLOMERANTE, PRODUCTOS FOTORRESISTENTES, MASCARAS DE SOLDADURA BLANDA EN LA ESTEREOLOTOGRAFIA. LOS CUERPOS DE MOLDE ELABORADOS CON ELLO CONTIENEN UNA ESTRUCTURA DE RED HOMOGENEA, DE SUSPENSION CONJUNTA Y MUESTRAN ALTAS PROPIEDADES DE RESISTENCIA, SOBRE TODO PROPIEDADES MECANICAS.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/11/2000). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C09D5/08, C07F9/38, C07F9/30.

Composición de recubrimiento inhibidora de corrosión para metales. Se da una descripción de compuestos de la fórmula (I), en donde los símbolos generales son como se definen en la reivindicación 1, y de sus sales de zirconio, bismuto, y calcio, y de las sales con los compuestos de la fórmula (II), en donde los símbolos generales son como se definen en la reivindicación 1, usados como inhibidores de corrosión en composiciones de recubrimiento para proteger superficies metálicas.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/05/2000). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICAL HOLDING INC. Clasificación: C09D133/00, C09D7/12, C08K5/3475, C09D5/32, C07D249/20.

Absorbedores de UV benzotriazólicos, de alta durabilidad. Absorbedores de UV benzotriazólicos que están substituidos en la posición 5 del anillo bencénico con un grupo secuestrador de electrones, los cuales presentan una alta durabilidad y muy poca pérdida de absorbencia cuando se incorporan a recubrimientos para automoción.

Sección de la CIP Física

(16/04/1999). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: G03F7/032, G03C9/08, G03F7/075.

SE DESCRIBEN COMPOSICIONES LIQUIDAS ENDURECIBLE CON RADIACION, EN PARTICULAR PARA ESTEREOLITOGRAFIA, SOBRE LA BASE AL MENOS DE UN COMPUESTO, QUE MUESTRA GRUPOS POLIMERIZABLES RADICALMENTE, Y AL MENOS UN FOTOINICIADOR APROPIADO PARA ESTA POLIMERIZACION, QUE ESTA CARACTERIZADO PORQUE CONTIENEN ADICIONALMENTE UN COPOLIMERO DE BLOQUE POLIOXIALQUILENO LAS FORMULAS QUIMICAS: DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO C1 FENIL; [T] ES UN GRUPO [PS] POLISILOXANO DETERMINADO, ESPECIFICADOR EN EL TEXTO SEGUN FORMA DESCRITA; [PS] REPRESENTA GRUPOS DE LA FORMULA Y [ALQ] REPRESENTA UN GRUPO ALQUILENO CON 3 HASTA 10 ATOMOS DE CARBONO, ASI COMO NUEVO COPOLIMERO DE BLOQUE DE LAS FORMULAS (I) Y (II). LAS COMPOSICIONES ENDURECIDAS MUESTRAN POR EJEMPLO UNA ALTA TENACIDAD DE IMPACTO.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(01/06/1998). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08L63/10, G03F7/038, C07D303/12, C08G59/17.

NUEVOS COMPUESTOS EPOXIDOS CICLOALIFATICOS QUE CONTIENEN EN LA MOLECULA POR LO MENOS UN GRUPO ACRILATO Y POR LO MENOS UN GRUPO EPOXIDO CICLOALIFATICO, PUEDEN EMPLEARSE PARA PRODUCIR MEDIOS DE RECUBRIMIENTO, ADHESIVOS, FOTORESISTENTE O EN LA ESTEROLITOGRAFIA QUE CONTIENEN UNA ESTRUCTURA HOMOGENEA FUNDAMENTAL PRESENTANDO EL MOLDE UNA BUENA RESISTENCIA FUNDAMENTAL Y BUENAS PROPIEDADES DE RESISTENCIA.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(16/06/1997). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08L63/00, C08L75/00, C08F283/10, C08L67/00, C08L71/02, C08G59/68, G03C9/08.

LA INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION FOTOSENSIBLE CONTENIENDO A) 40 A 80% EN PESO POR LOS MENOS DE UNA RESINA EPOXI FLUIDA CON UNA FUNCIONALIDAD EPOXIDO MAYOR O IGUAL A 2: B) 0,1 A 10% EN PESO POR LO MENOS DE UN FOTOINICIADOR CATIONICO PARA EL COMPONENTE A); C) 5 A 40% EN PESO POR LO MENOS DE UN DIACRILATO CICLOALIFATICO O AROMATICO; D) 0 A 15% EN PESO POR LO MENOS DE UN POLIMETACRILATO FLUIDO CON UNA FUNCIONALIDAD METACRILATO MAYOR QUE 2, POR LO QUE EL CONTENIDO EN METACRILATO ASCIENDE A LO SUMO AL 50% EN PESO; E) 0,1 A 10% EN PESO POR LOS MENOS DE UN FOTOINICADOR RADICAL PARA EL COMPONENTE C Y EN CASO DADO D Y F) 5 A 40% EN PESO POR LO MENOS DE UN POLIETER, POLIESTER O POLIURETANO TERMINADO EN OH QUE SON APROPIADOS PARA LA PRODUCCION DE CAPAS FOTOPOLIMERIZADAS, PARTICULARMENTE OBJETOS TRIDIMENSIONALES.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/07/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C08L63/00, C08G59/56, C08G59/66.

EL INVENTO SE REFIERE A UNA MEZCLA ENDURECIBLE QUE CONTIENE UNA RESINA EPOXIDICA, UN DITIOL DE FORMULA (I) O (II) Y POLIAMINA CON DOS GRUPOS AMINOS PRIMARIOS QUE PRODUCEN UN PRODUCTO ELASTICO, RESISTENTE Y FLEXIBLE DESPUES DEL ENDURECIMIENTO Y SON APROPIADOS EN COMBINACION CON ADITIVOS PARA LA PRODUCCION DE MASAS COMPACTAS, MASAS DE INYECCION, PEGAMENTOS, RESINAS PARA HERRAMIENTAS, RESINAS FORMADORAS, RESINAS PARA COLADAS O MASAS DE RECUBRIMIENTO. SIENDO: R1 HIDROGENO O METILO; X UN NUMERO ENTERO DE 2 A 50; E Y UN NUMERO ENTERO ENTRE 1 Y 30.

Secciones de la CIP Física Química y metalurgia

(01/06/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: G03F7/027, C08F20/36, G03C9/08.

MEZCLAS POLIMERIZABLES, QUE CONTIENEN (A) UN TETRAACRILATO DE LA FORMULA I O II, EN DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O METILO, X1 Y X2, INDEPENDIENTES ENTRE SI, REPRESENTAN -OALIFATICO O AROMATICO DE UNA COMBINACION DIGLICIDILO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO ETER GLICIDILO O GRUPO ESTER GLICIDILO, A REPRESENTA UN RESTO BIVALENTE ALIFATICO, CICLOALIFATICO O AROMATICO DE UNA COMBINACION DIISOCIANATO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO ISOCIANATO, N REPRESENTA UN NUMERO ENTERO DESDE 1 HASTA 8 Y R3 SIGNIFICA UN RESTO TETRAVALENTE CICLOALIFATICO DE UNA COMBINACION DIEPOXIDO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO 1,2-EPOXIDO COMBINADO EN EL ANILLO CICLOALIFATICO, (B) POR LO MENOS UNA COMBINACION LIQUIDA POLIMERIZABLE RADICALMENTE DE MODO DIFERENTE DE LOS COMPONENTES (A) Y (C) UN FOTOINICIADOR RADICAL; ESTAS MEZCLAS SON APROPIADAS CON PREFERENCIA PARA LA FABRICACION DE OBJETOS TRIDIMENSIONALES POR MEDIO DEL PROCESO ESTEREOLITOGRAFICO.