6 inventos, patentes y modelos de VAN BENTHEM, RUDOLFUS, ANTONIUS, THEODORUS, MARIA

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/03/2009). Ver ilustración. Solicitante/s: DSM IP ASSETS B.V.. Clasificación: C09D5/03, C08J3/00, C08J3/14.

Película o recubrimiento hidrofóbico, que comprende: a) partículas primarias b) partículas secundarias que se adhieren a la superficie de las partículas primarias y que tienen un diámetro promedio que es más pequeño que el diámetro promedio de las partículas primarias, c) una capa de superficie superior hidrofóbica que cubre al menos parcialmente la superficie de las partículas secundarias y que se adhiere a esa superficie, caracterizado porque las partículas secundarias están adheridas a la superficie de las partículas primarias por enlaces químicos covalentes.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(01/03/2009). Ver ilustración. Solicitante/s: DSM IP ASSETS B.V.. Clasificación: B01J13/20, B01J13/06.

Proceso para la formación de cápsulas que comprende los pasos de: la formación de una solución de un compuesto amina (I) en un solvente; la formación de una dispersión de un material núcleo en la solución; la deposición del compuesto amina como una resina sobre la superficie del material núcleo para formar las cápsulas; y opcionalmente el endurecimiento y/o la recuperación de las cápsulas, donde los pasos y son ejecutados en cualquier orden o simultáneamente, y en donde el compuesto amina (I) tiene la siguiente fórmula (Ver fórmula) donde: - X es O ó NR5; - EWG es un grupo atrayente de electrones; - R1, R2, R3, R5 son iguales a un H, alquilo, cicloalquilo, arilo de grupo heterocíclico; y - R1, R2, y R5 o R1, R2, y R3 pueden juntos formar un grupo heterocíclico.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/07/2006). Solicitante/s: DSM N.V.. Clasificación: C09D4/00, C07C233/00, C08F220/36.

ESTA INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION QUE PUEDE ENDURECERSE MEDIANTE RADIACION Y QUE COMPRENDE UN ESTER CARBOXILICO MONOVALENTE O POLIVALENTE DE UN COMPUESTO QUE CONTIENE UN GRUPO BE - HIDROXIALQUILAMIDA, ESTANDO EL ESTER CARBOXILICO D ERIVADO DE UN ACIDO CARBOXILICO DE NO SATURACION AL , BE ETILENICO. UNA COMPOSICION DE REVESTIMIENTO BASADA EN ESTA COMPOSICION TIENE UNA ALTA VELOCIDAD DE POLIMERIZACION Y MUESTRA LAS PROPIEDADES QUIMICAS Y MECANICAS DESEADAS.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/11/2005). Solicitante/s: DSM N.V.. Clasificación: C08G69/44, C08G63/685, C09D177/12.

Composición de revestimiento de secado al aire que comprende una poliesteramida que contiene al menos dos grupos carboxialquilamida derivados de un ácido carboxílico de (C10-C28) insaturado por molécula, caracterizada porque la poliesteramida está representada por la fórmula (III): en la que: B = dirradical de arilo o (ciclo)alquilo alifático, opcionalmente sustituido, de (C2-C12).

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/03/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: DSM N.V.. Clasificación: C08F20/36, C08F290/00.

Una composición de revestimiento curable por radiación, que comprende un polímero que tiene la fórmula (I): en la que: P = un grupo de polímero, Y = hidrógeno, un grupo alquilo (C1-C8) o un grupo de fórmula R1, R2, R3, R4 son, iguales o diferentes, hidrógeno o una cadena alquílica (C1-C8) lineal, ramificada o cíclica, R5 = hidrógeno, alquilo (C1-C5), -CH2OH ó CH2COOX, R6, R7 = hidrógeno, alquilo (C1-C8) ó COOX, X = hidrógeno ó alquilo (C1-C8), n = 1-100 y m = 1-4.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/05/2004). Solicitante/s: DSM N.V.. Clasificación: C08G69/44, C08G63/685.

Un polímero de condensación ramificado que contiene grupos éster y al menos un grupo amida en el esqueleto, que tiene al menos un grupo terminal beta-hidroxialquilamida sustituido en beta con alquilo, que tiene una funcionalidad de beta-hidroxialquilamida entre 2 y 250, y que tiene una masa molecular media en peso de >= 800 g/mol, caracterizado porque el polímero contiene al menos dos grupos de acuerdo con la fórmula (II): en la cual Y = H, (ciclo)alquilo C1-C20, o bien arilo C6-C10, B = dirradical aril- o (ciclo)alquil-alifático C2-C24, opcionalmente sustituido, y R1, R2, R3, R4, R5 y R6, de manera independiente entre sí, pueden ser iguales o diferentes, H, radical arilo C6-C10 o (ciclo)alquilo C1-C8.