9 inventos, patentes y modelos de SETOI, HIROYUKI
COMPUESTOS DE IMIDAZOL Y SU USO MEDICINAL.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(01/03/2008). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61P43/00, C07D405/10, C07D409/12, A61P3/10, A61K31/4178, C07D401/06, C07D409/10, C07D233/54, C07D233/64, A61K31/4174, C07D233/90, C07D233/68, C07D233/94.
Un compuesto de imidazol, que es (E)-3-(4-cloro-1-(2-cloro-4-(feniletinil)bencil)-2-etilimidazol-5-il)-N-((E)-1-penten-1-il-sulfonil)-2-propenamida, o una sal del mismo.
COMPUESTOS DE TIOPIRANO COMO INHIBIDORES DE MMP.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(01/09/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/385, A61K31/44, A61P31/18, C07D409/04, C07D409/12, A61K31/38, A61P29/00, C07D409/14, C07D335/02, C07D333/48, C07D339/08.
Un compuesto de la fórmula: en que R1 es alquilo (C1-C6), un grupo heterocíclico opcionalmente sustituido o arilo (C6-C10) opcionalmente sustituido, R2 es carboxi, carboxi protegido, hidroxiaminocarbonilo , tetrahidropiraniloxiaminocarbonilo o fenil-alquil (C1-C6)- aminocarbonilo, Ar es arilo (C6-C10) opcionalmente sustituido o un grupo heterocíclico opcionalmente sustituido, A es alquileno (C1-C6), X es oxa o un enlace sencillo, Y es tia, sulfinilo o sulfonilo, Z es metileno, m y n son cada uno un número entero de 0 a 6, y 1= m+n = 6 y su sal.
DERIVADOS DE BENZAMIDA COMO ANTAGONISTA DE VASOPRESINA.
(01/04/2004) Un compuesto de la siguiente fórmula (I): en la que: A es un miembro seleccionado del grupo formado por bencimidazolilo, benzoxazolilo e indazolilo, estando sustituido opcionalmente cada miembro con uno o más sustituyentes seleccionados del grupo formado por alquilo C1-C6 sustituido opcionalmente con hidroxi, amino, amino sustituido con alquilo, alcoxi C1-C6, (alquil C1- C6)sulfonilamino o un grupo heterocíclico nitrogenado seleccionado del grupo formado por morfolinilo, imidazolilo y piperidilo; alcoxi C1-C6; haloalquilo; amino sustituido opcionalmente con alquilo C1- C6, alcanoílo C1-C6 o (alquil C1- C6)sulfonilo; carbamoílo…
DERIVADOS HETEROCICLICOS DE CARBOXAMIDA COMO INHIBIDORES DE LA PRODUCCION DE OXIDO NITRICO.
(16/12/2003) Un compuesto de la fórmula (I) **(Fórmula)** en la que R1 es (a) indolilo, (b) benzotienilo que tiene un sustituyente o sustituyentes adecuados seleccionados del grupo constituido por nitro y halógeno, (c) benzotiazolilo que tiene halógeno, (d) furopiridilo que puede tener nitro o (e) benzofuranilo que puede tener un sustituyente o sustituyentes adecuados seleccionados del grupo constituido por halógeno, alquilo (C1-C6), alcoxi (C1-C6), nitro, ciano, acilo y trihalo-alquilo (C1-C6), R2 es alquilo (C1-C6), R3 es hidrógeno o alquilo (C1-C6), y R4 es tienilo o un grupo de la fórmula: en la que R5 es hidrógeno o halógeno, y R6 es (a) imidazolilo que puede tener alquilo (C1-C6), (b) bencimidazolilo,…
DERIVADOS DE BENZAMIDA Y SU USO COMO ANTAGONISTAS DE VASOPRESINA.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida
(01/05/2003). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D241/44, A61K31/495, A61K31/40, A61K31/47, A61K31/55, C07D209/08, C07D471/04, C07D223/16, C07D401/00, C07D403/00, C07D215/08, C07D223/20, C07D243/04, C07D243/12.
UN COMPUESTO DE LA FORMULA: EN DONDE R1 ES HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR, R2 ES HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, HALO(INFERIOR) ALQUILO, HALOGENO O ALCOXILO INFERIOR, R3 Y R4 SON CADA UNO HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, O TOMADOS JUNTOS PARA FORMAR OXO, R5 ES HIDROGENO, HALOGENO, NITRO, HIDROXILO, HIDROXILO PROTEGIDO, ALQUILO INFERIOR O ALCOXILO INFERIOR OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON ALQUILO AMINO INFERIOR, R6 ES HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR O ACILO, A ES EN LA CUAL LOS SUSTITUYENTES R7 Y R13 Y EL SIMBOLO Y TIENEN CIERTOS SIGNIFICADOS. Y SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DE ELLOS, Y PROCESOS PARA PREPARARLOS, Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LAS COMPRENDEN COMO UN INGREDIENTE ACTIVO.
DERIVADOS DE BENZAMIDA Y SU USO COMO ANTAGONISTAS DE VASOPRESINA.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida
(16/10/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D211/46, A61K31/165, A61K31/33, C07C271/16, C07D209/48, C07D295/18, C07D211/58, C07D213/80, C07C237/42, C07D295/20, C07C237/44.
ESTA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS DERIVADOS DE BENZAMIDA QUE POSEEN ACTIVIDAD ANTAGONISTA DE VASOPRESINA, ETC. Y QUE ESTAN REPRESENTADOS POR LA FORMULA GENERAL (I) EN LA QUE R SUP,1} ES ARILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON ALCOXI INFERIOR, ETC., R SUP,2} ES ALQUILO INFERIOR, ETC., R SUP,3} ES HIDROGENO, ETC., R SUP,4} ES ALCOXI INFERIOR, ETC., R SUP,5} ES HIDROGENO, ETC., A ES NH, ETC., E ES (A), ETC., X ES S Y Y ES CH O N, Y SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DE LOS MISMOS, PROCESOS PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LOS CONTIENEN.
DERIVADOS DE BENZAMIDA COMO ANTAGONISTAS DE VASOPRESINA.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(16/04/1999). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/44, A61K31/165, C07D213/82, C07D213/81, C07C237/42.
ESTA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS DERIVADOS DE BENZAMIDA CON ACTIVIDAD ANTAGONISTA DE VASOPRESINA, ETC., Y REPRESENTADOS POR LA FORMULA GENERAL (I), DONDE R{SUP,1} ES ARILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR ALQUILO INFERIOR, ETC., R{SUP,2} ES ALQUILO INFERIOR, ETC., R{SUP,3} ES HIDROGENO, ETC., R{SUP,4} ES ARILO, ETC., X ES CH O N, E Y ES CH O N, Y A SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DE LOS MISMOS; TAMBIEN SE REFIERE A PROCESOS PARA LA PREPARACION DE LOS MISMOS, Y A UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE LOS CONTIENE.
DERIVADOS DE PIRROLIDINA.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(01/12/1996). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/44, A61K31/495, A61K31/40, A61K31/47, C07D401/06, C07D409/06, C07D417/06, C07D405/06, C07D413/06, C07D403/06, C07D207/14.
SE PRESENTA UN COMPUESTO DE FORMULA (I) EN A QUE R1 ES ALKIL, ALKIL INFERIOR QUE PUEDE TENER SUSTITUYENTES ADECUADOS O ALKIL HETEROCICLICO INFERIOR, R2 ES HIDROGENO O UN GRUPO ACIL, Y R3 ES ALKIL DE CARBOXIDO INFERIOR, ALKIL DE CARBOXIDO INFERIOR PROTEGIDO, CARBOXIARIL O CARBOXIARIL PROTEGIDO, Y UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DE LOS MISMOS, TAMBIEN SE PRESENTA LOS PROCESOS PARA SU PREPARACION Y LAS COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LOS COMPRENDE O UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DE LOS MISMOS MEZCLADA CON PORTADORES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES.
DERIVADOS DE PIRROLIDINA.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(16/08/1994). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/40, C07D207/14.
LA INVENCION SE REFIERE A UN COMPUESTO DE FORMULA (I) EN LA QUE R1 ES HIDROGENO O UN GRUPO ACILO, R2 ES UN GRUPO ACILO, R3 ES CARBOXI-ALQUILO, CARBOXI-ALQUILO CON UNO O MAS ATOMOS DE HALOGENO, CARBOXI-ALQUILO PROTEGIDO, CARBOXIARILO, CARBOXIARILO PROTEGIDO, HIDROXIALQUILO, SULFINOALQUILO, FOSFONOALQUILO, FOSFONO-ALQUILO PROTEGIDO O HALOALQUILO, SIENDO TODOS LOS GRUPOS ALQUILO DE CADENA CORTA; R7 ESH O ALQUILO DE CADENA CORTA, Y A ES UN GRUPO DE FORMULA (II) O (III), SIENDO R2 H O ALQUILO DE CADENA CORTA. TAMBIEN SE REFIERE LA INVENCION A UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DEL COMPUESTO DE FORMULA (I) A PROCESOS DE PREPARACION Y A COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LO CONTIENEN, ASI COMO AL COMPUESTO INTERMEDIO DE FORMULA (IV) Y A UN PROCESO PARA PRODUCIRLO.
