Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/03/2003). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C08K5/3492, C07D251/24.
LA INVENCION SE REFIERE A O - HIDROXIFENIL - S - TRIAZINAS DE FORMULA (I), EN LA QUE R1, R2, Y Y Z SON CONFORME A LO DEFINIDO EN LA REIVINDICACION 1. LOS COMPUESTOS SON ADECUADOS PARA USO COMO ESTABILIZADORES UV PARA LA ESTABILIZACION FOTOQUIMICA Y TERMICA DE MATERIALES DE FIBRA DE POLIESTER Y ESTABILIZADORES PARA POLIMEROS ORGANICOS.
Sección de la CIP Textiles y papel
(01/11/1997). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: D06P1/642, D06P3/54, D06P3/52.
SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA LA ESTABILIZACION FOTOQUIMICA Y TERMICA DE MATERIALES FIBROSOS DE POLIESTER, TEÑIDOS Y SIN TEÑIR, QUE SE CARACTERIZA PORQUE EL MATERIAL FIBROSO SE TRATA CON UN COMPUESTO DE FORMULA , EN LA QUE R1 Y R2, INDEPENDIENTES ENTRE SI, SIGNIFICAN UN C1-C12-ALQUILO. CON EL PRESENTE PROCEDIMIENTO PUEDEN ALCANZARSE TINCIONES Y ESTAMPADOS DE POLIESTERES Y DE ACETATO DE CELULOSA DE ELEVADA SOLIDEZ FRENTE A LA LUZ Y ESTABLES A LA SUBLIMACION.
Sección de la CIP Textiles y papel
(16/05/1997). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: D06P5/20.
SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE EFECTOS MULTICOLOR O CLARO-OSCUROS, SOBRE MATERIALES DE FIBRA DE POILIAMIDA SINTETICOS O NATURALES, QUE SE CARACTERIZAN PORQUE LOS COPOS, LOS PEINADOS, EL ESTAMBRE O PUNTOS ELEGIDOS DE UNA MERCANCIA, ANTES DEL PROCESO DE TEÑIDO, SE SOMETEN A UNA DESCARGA DE PLASMA O A UNA DESCARGA CORONA, Y A CONTINUACION SE TERMINA EL TEÑIDO CON UN COLORANTE ANIONICO. SE CONSIGUE CON EL PROCEDIMIENTO DE LA INVENCION, TEÑIDOS CON MUY BUENA DIFERENCIACION DE LA INTENSIDAD DEL COLOR, SOBRE MATERIALES UNIFORMES DE FIBRA DE POLIAMIDA, SIN LA UTILIZACION DE AGENTES DE RESERVA O DE IGUALACION.
Sección de la CIP Textiles y papel
(01/07/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: D06P1/651, D06L3/12.
MEDIO Y PROCESO PARA LA FABRICACION DE ARTICULOS QUE CONTIENEN FIBRA POLIAMIDA CON PROPIEDADES DE MOLDEO MEJORADAS BAJO LA UTILIZACION DE COMPUESTOS BENZOFURAN ITUD DE PATENTE 1.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/01/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C08K5/13.
MEDIO Y PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE ARTICULOS QUE CONTENGAN FIBRAS DE POLIAMIDA CON MOULDINGECHT PERFECCIONADOS BAJO APLICACION DE FENOLES PARALIZADOS ESTERICOS.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Física
(16/08/1994). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C07C323/22, G03F7/00, C07D295/10, C08F2/50, C07D295/12, C07C225/16, C07C317/24, C07C225/02.
COMPUESTOS DE FORMULA I, II, III Y IIIA DONDE AR1 SIGNIFICA UN RESTO AROMATICO NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO Y AL MENOS UNO DE LOS RESTOS R1 Y R2 SON UN GRUPO ALQUENILO, CICLOALQUENILO O ARILMETILO, SON FOTOINICIADORES PARA LA POLIMERIZACION DE COMPUESTOS NO SATURADOS. SON ADECUADOS EN ESPECIAL PARA EL FOTOENURECIMIENTO DE SISTEMAS PIGMENTADOS.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/05/1992). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08F283/00, C08F246/00, C09D7/12, C09D201/00, C08G85/00.
EN ESTA INVENCION SE DESCRIBEN MICROPARTICULAS DE POLIMEROS ESTABILIZADAS A LA LUZ QUE AL MENOS TIENEN UN MEDIO FOTOPROTECTOR Y TAMBIEN LOS PROCEDIMIENTOS PARA PREPARAR ESTAS MICROPARTICULAS POR POLIMERIZACION DE LOS MONOMEROS ADECUADOS. EN ESTE PROCESO AL MENOS UNA PARTE DE LA POLIMERIZACION TIENE LUGAR EN PRESENCIA DE UN MEDIO FOTOPROTECTOR. LAS MICROPARTICULAS DE POLIMEROS, PUEDEN USARSE EN COMPOSICIONES DE RECUBRIMIENTOS QUE CONTIENEN UNA DE LAS PARTICULAS LA FASE DISPERSA Y UNA FASE LIQUIDA CONTINUA. LOS RECUBRIMIENTOS Y PINTURAS A BASE DE LAS COMPOSICIONES DE ESTA INVENCION TIENEN MAYOR RESISTENCIA A LA INTEMPERIE Y ESPECIELMENTE GRAN ESTABILIDAD A LA LUZ.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Física
(01/11/1991). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C08G18/02, G03F7/10.
RECUBRIMIENTOS DE POLIISOCIANATO QUE CONTIENE UN CATALIZADOR LATENTE DE FORMULA (I) EN LA QUE A ES 1,2 O 3, R1 ES UN ANILLO AROMATICO SIN CARGA, CARBOCICLICO O HETEROCICLICO, SUSTITUIDO O NO SUSTITUIDO, R2 ES UN ANION DE CICLOPENTADIENILO O DE INDONILO, SUSTITUIDO O NO SUSTITUIDO Y [X]A EN UN ANION DE LA SERIE (I). ESTOS RECUBRIMIENTOS PUEDEN ENDURECERSE POR IRRADIACCION CON LUZ ACTINICA Y POSTERIOR CALENTAMIENTO.