14 inventos, patentes y modelos de PEARSON,TREVOR
Pasivación de cromo micro-discontinuo depositado a partir de un electrolito trivalente.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(06/05/2020). Solicitante/s: MacDermid Acumen, Inc. Clasificación: C25D5/48, C25D9/08, C25D3/06.
Un método para tratar un sustrato, en donde el sustrato comprende una capa chapada que comprende cromo que se deposita a partir de un electrolito de cromo trivalente, comprendiendo el método las etapas de:
(a) proporcionar un ánodo y el sustrato como un cátodo, en un electrolito;
(b) pasar una corriente eléctrica entre el ánodo y el cátodo para depositar una película de pasivación sobre el sustrato,
caracterizado porque el electrolito comprende (i) una sal de cromo trivalente que comprende sulfato básico de cromo; y (ii) gluconato sódico.
PDF original: ES-2806504_T3.pdf
Generación electrolítica de iones manganeso (III) en ácido sulfúrico fuerte.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(19/06/2019). Solicitante/s: MacDermid Acumen, Inc. Clasificación: C25B11/04, C25B11/12, C25D5/56, C23C18/24, C23C18/20, C25B15/02, C25C1/10, C25B1/21.
Una celda electrolítica que comprende:
una solución de electrolito que comprende iones manganeso(III) e iones manganeso(II) en una solución de que comprende ácido sulfúrico y un ácido adicional seleccionado del grupo que consiste en ácido metanosulfónico, ácido metanodisulfónico y combinaciones de los mismos, en donde la solución comprende ácido sulfúrico de al menos 8 M;
un cátodo en contacto con la solución de electrolito; y
un ánodo en contacto con la solución de electrolito.
PDF original: ES-2745071_T3.pdf
Tratamiento para rejillas de electrodeposición para evitar metalización de las rejillas.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(17/04/2019). Solicitante/s: MacDermid Acumen, Inc. Clasificación: C09D181/00, C23C18/30, C23C18/16, C23C18/20, C25D17/08, C23C18/22.
Un método de revestimiento de una rejilla de electrodeposición utilizada para soportar sustratos no conductores durante un proceso de metalizado, comprendiendo el método las etapas de:
a) contacto de al menos una porción de la rejilla de electrodeposición con una composición, teniendo dispersada la composición en ella un aditivo, donde el aditivo está presente en la composición a una concentración en el intervalo de 1 % a 20 % en peso; y
b) curado de la composición de plastisol sobre la rejilla de electrodeposición
caracterizado por que la composición es una composición de plastisol y el aditivo tiene la estructura**Fórmula**
donde R, R', R" y R'" son iguales o se seleccionan independientemente entre alquilo de C1-C10 (de cadena lineal o ramificada), bencilo, bencilo sustituido, fenilo o fenilo sustituido y M es un catión de metal divalente, seleccionado del grupo que consiste en níquel, cobre y zinc.
PDF original: ES-2724562_T3.pdf
Recubrimiento de aleación de cromo con una resistencia aumentada a la corrosión en entorno de cloruro de calcio.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/04/2019). Solicitante/s: MacDermid Acumen, Inc. Clasificación: C25D3/10, C25D3/06, C25D5/14.
Una solución de electrodeposición de cromo, que comprende:
a. una sal de cromo trivalente soluble en agua;
b. más de un agente formador de complejos para iones de cromo trivalente, donde los agentes formadores de complejos se seleccionan de entre ácido málico, ácido aspártico, ácido maleico, ácido succínico, glicina y sales solubles de cualquiera de los anteriores, y donde los agentes formadores de complejos están presentes en el intervalo de 5 a 40 gramos por litro;
c. un compuesto tamponador del pH adicional; y
d. un compuesto orgánico que contiene azufre, donde el compuesto orgánico que contiene azufre comprende azufre divalente;
donde el pH de la solución es de 2,8 - 4,2.
PDF original: ES-2709506_T3.pdf
Generación electrolítica de iones de manganeso (III) en ácido sulfúrico fuerte.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(19/03/2019). Solicitante/s: MacDermid Acumen, Inc. Clasificación: C25B11/02, C25B11/12, C23C18/16, C23C18/24, C25B11/03, C25B1/21.
Célula electrolítica que comprende:
una solución electrolítica que comprende iones de manganeso (III) en una solución de ácido;
un cátodo en contacto con la solución electrolítica; y
un ánodo en contacto con la solución electrolítica, en la que el ánodo comprende un material seleccionado del grupo que consiste en carbono vítreo, carbono vítreo reticulado, fibras de carbono tejidas y combinaciones de uno o más de los anteriores.
PDF original: ES-2704672_T3.pdf
Proceso para chapar cromo a partir de un baño de chapado de cromo trivalente.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(23/01/2019). Solicitante/s: MACDERMID, INCORPORATED. Clasificación: C25D3/06.
Un proceso para chapar metal cromo sobre un sustrato, comprendiendo dicho proceso poner en contacto el sustrato con una solución de chapado que comprende:
(a) iones cromo trivalentes;
(b) iones sulfato y/o iones sulfonato; e
(c) iones manganeso;
en donde el sustrato se hace el cátodo y se usan ánodos insolubles;
en donde la concentración de iones manganeso es de 0,05 a 0,7 g/l.
PDF original: ES-2712725_T3.pdf
Tratamiento de superficies de plástico tras ataque químico en un medio que contiene ácido nítrico.
(13/11/2018) Un método de tratamiento de un sustrato de plástico para aceptar el metalizado no electrolítico sobre el mismo, comprendiendo el método las etapas de:
a) ataque químico del sustrato de plástico por medio de contacto del sustrato de plástico con una disolución ácida que contiene iones de nitrato y iones metálicos oxidantes, donde los iones metálicos oxidantes se producen por medio de oxidación electroquímica, donde la disolución ácida comprende nitrato de plata y ácido nítrico;
b) contacto entre el sustrato plástico sometido a ataque químico y una disolución de acondicionamiento que comprende una disolución acuosa que comprende amoníaco, una amina o combinaciones de los mismos;
c) activación del sustrato de plástico que comprende el contacto entre el sustrato de plástico y una disolución…
Grabado al aguafuerte de plástico utilizando soluciones ácidas que contienen manganeso trivalente.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(05/11/2018). Solicitante/s: MacDermid Acumen, Inc. Clasificación: C25D5/56, C25B1/00, C08J7/14, C09K13/04.
Un método para preparar una solución capaz de grabar al aguafuerte un plástico metalizable, comprendiendo dicho método las etapas de:
proporcionar un electrolito que comprende iones de manganeso (II) en una solución de 9 a 15 molar de ácido sulfúrico o ácido fosfórico a una célula electrolítica;
sumergir un ánodo y un cátodo en el electrolito y aplicar una corriente a la célula electrolítica; y
oxidar el electrolito para formar iones de manganeso (III), donde los iones de manganeso (III) forman un complejo de fosfato o sulfato metaestable,
donde el área del ánodo es mayor que el área del cátodo y donde la densidad de corriente del ánodo es entre 0,1 y 0,4 A/dm2.
PDF original: ES-2688549_T3.pdf
Baños y procesos de galvanoplastia de aleaciones de cinc.
(03/05/2017) Baño electrolítico acuoso alcalino capaz de depositar por galvanoplastia una aleación de cinc y níquel, que comprende:
(i) iones de cinc;
(ii) iones de níquel;
(iii) como mínimo, un agente complejante no polimérico capaz de complejar los iones de níquel y que comprende trietanolamina y N,N,N',N'-tetraquis-hidroxiisopropiletilendiamina;
(iv) como mínimo, un polímero basado en urea seleccionado entre el grupo que consiste en (a) polímero de N,N'- bis[3-(dialquilamino)alquil]urea con 1,4-[2-haloalcano], o (b) polímero de N,N'-bis[3-(dialquilamino)alquil]urea con 1,1'-oxibis[2-haloalcano], en el que para (a) o (b) los grupos funcionales alquilo se seleccionan entre…
Método para depositar aleaciones de estaño.
(08/02/2017) Un procedimiento para la galvanización de un sustrato con una aleación de estaño, cuya aleación comprende de 2% en peso a 15% en peso de metal de aleación, comprendiendo dicho procedimiento:
a) poner en contacto el sustrato con un medio de baño galvánico que comprende:
1. una sal soluble de estaño estannoso;
2. una sal soluble del metal de aleación; y
3. un agente complejante;
b) aplicar un régimen de corriente que incluye una primera condición en la que la densidad de corriente media es tal que el metal de aleación se deposita y una segunda condición en la que la densidad de corriente media es menor que en la primera condición de manera que sustancialmente sólo se deposita estaño, en donde el régimen de corriente comprende la aplicación de una corriente continua durante…
Método de reciclaje de residuos de níquel químico.
(16/11/2016) Un método de funcionamiento y regeneración de un baño de recubrimiento de níquel químico, donde el baño de recubrimiento de níquel químico está sustancialmente libre de iones sulfato y de sodio, comprendiendo el método las etapas de:
a) depositar níquel químico del baño de recubrimiento de níquel químico sobre un sustrato, donde el baño de recubrimiento de níquel químico comprende una fuente de iones de níquel y una fuente de iones hipofosfito;
b) mantener una concentración adecuada de iones de níquel e iones hipofosfito en el baño de recubrimiento;
c) hacer funcionar el baño de recubrimiento hasta alcanzar 4 recambios de metal;
d) procesar una porción del baño de recubrimiento de níquel químico gastado a través de una resina…
Pretratamiento de sustratos de magnesio para electrometalizado.
(19/12/2013) Un método para proporcionar un depósito metalizado sobre un artículo de aleación de magnesio, donde seeliminan las etapas intermedias de ataque químico y decapado, comprendiendo el método las etapas de:
a) limpiar el artículo de aleación de magnesio en una disolución de limpieza alcalina, donde no se lleva a caboataque químico de la aleación de magnesio;
b) aplicar una capa de cinc sobre el artículo de aleación de magnesio limpio por medio de deposición porinmersión o electrodeposición en una disolución de revestimiento de cinc; y
c) aplicar un revestimiento metálico a partir de una disolución de electrolito que sea compatible con la superficiede magnesio…
Electrochapado de cobre de cilindros de impresión.
(21/06/2013) Un baño de chapado de cobre para depositar una capa de cobre sobre un cilindro de impresión, comprendiendo elbaño de chapado de cobre:
a) una fuente de iones de cobre;
b) una fuente de iones metanosulfonato;
c) una fuente de iones cloruro;
d) un compuesto organosulfurado que tiene la fórmula R-S-R'-SO3
-X+ o X+-O3S-R'-S-R-S-R'-SO3
-X+, donde R es
alquilo, hidroxialquilo o éter de alquilo, R' es un grupo alquilo C2-C4 y X+ es un catión; y
e) un compuesto poliéter.
PROCEDIMIENTOS DE ELECTRODEPOSICION DE CINC Y DE ALEACION DE CINC.
(01/12/2008) Procedimiento de preparación de un medio alcalino de baño de electrodeposición de cinc o aleación de cinc, que comprende las etapas siguientes:# (A) preparar un aditivo de copolímero aleatorio que comprende un producto de reacción de:# (i) una o más aminas diterciarias que contienen un grupo funcional amida o tioamida, en el que son seleccionadas dichas una o más aminas diterciarias de entre el grupo constituido por N,N''-bis[2-dietilaminoetil] urea y N,N''-bis-[3-(dimetilamino)propil]urea; #(ii) una o más segundas aminas diterciarias que comprenden un resto insaturado, seleccionadas de entre el grupo constituido por N,N,N'',N''-tetrametil-1,4-fenilendiamina, 4,4''-metilenbis-N,N-dimetilbencenamina, N,N,N'',N''-tetrametil-3,3''-sulfonilbisbencenamina, y 2,6-bis[(dimetilamino)metil]-4-metilanisola, o un producto de reacción de una o más segundas aminas…