12 inventos, patentes y modelos de MIYATA, SHIGEO
Nueva solución sólida a base de hidróxido de magnesio y composición de resina y precursor para óxido de magnesio altamente activo que incluye los mismos.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(14/08/2019). Solicitante/s: KYOWA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.. Clasificación: C08K3/22, C07C59/08, C08L101/00, C08L23/00, C09K21/02, C07C59/06, C07C53/06, C09K21/06, C01F5/22.
Solución sólida a base de hidróxido de magnesio representada mediante la fórmula a continuación y que presenta un tamaño medio de partícula secundaria de 300 nm o inferior:
Mg(OH)2-xRx (Fórmula 1)
en la que R representa un ácido orgánico monovalente, y 0 < x < 1, en la que el ácido orgánico monovalente es por lo menos uno de ácido fórmico, ácido glicólico y ácido láctico.
PDF original: ES-2751278_T3.pdf
Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes
(24/04/2019). Solicitante/s: KYOWA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.. Clasificación: C08K3/22, C09C1/02, C08K3/30, C01F5/40, C01F5/22, B82Y30/00.
Una composición de resina que comprende
(i) 100 partes en peso de una resina (componente A),
(ii) hidróxido de magnesio en forma de placa con un espesor de cristal (y) de 0,2 μm o menos y una relación de aspecto de 20 a 100 (componente B),
(iii) sulfato de magnesio básico en forma de aguja (componente C) y
(iv) un agente de refuerzo (componente D) seleccionado del grupo que consiste en talco y mica,
en el que el contenido total de los componentes B y C es de 1 a 100 partes en peso basado en 100 partes en peso de la resina (componente A), y la relación en peso del componente B al componente C es de 0,1 a 0,9:0,9 a 0,1, y el contenido del agente de refuerzo (componente D) es de 1 a 50 partes en peso basado en 100 partes en peso de la resina (componente A).
PDF original: ES-2710310_T3.pdf
Hidróxido de magnesio de alta relación de aspecto.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(07/11/2018). Solicitante/s: KYOWA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.. Clasificación: C08K3/22, C08L23/00, C08L23/12, C01F5/14, C01F5/22, C01F5/20.
Hidróxido de magnesio que está representado por la siguiente fórmula:
Mg(OH)2
y que tiene un diámetro largo de 1 a 10 μm, un grosor de no más de 0,2 μm y una relación de aspecto de no menos de 20.
PDF original: ES-2688800_T3.pdf
Material compuesto ignífugo, composición de resina, y artículo moldeado.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad
(31/08/2016). Solicitante/s: KYOWA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.. Clasificación: C08K3/22, C08L101/00, C09K21/02, H01B3/30, H01B3/00, H01B7/295, C01F5/14.
Un material compuesto ignífugo que contiene
(i) 5 100 partes en peso de partículas de hidróxido de magnesio (A) que tienen un espesor promedio de 10 a 100 nm, una anchura promedio de 2,4 μm o más y una relación de aspecto de 20 a 120 y
(ii) de 100 a 900 partes en peso de partículas de hidróxido de magnesio (B) que tienen una anchura promedio de 1 μm o menos y una relación de aspecto promedio de menos de 20.
PDF original: ES-2592707_T3.pdf
INHIBIDORES DEL CRECIMIENTO DE ALGAS Y SU USO.
(16/11/2006) Un inhibidor del crecimiento de algas o de la proliferación microbiana, que contiene, como componente activo, al menos una solución de sólidos seleccionada entre el grupo compuesto por los compuestos de fórmulas a ; siendo los compuestos de fórmulas a una solución de sólidos de hidróxido de fórmula , [(M{sub,1}{sup,2+}){sub ,y}(M{sub,2}{sup,2+}){sub ,1-y}]{sub,1-x} M{sup,3+}{sub,x}(OH){sub ,2}(A{sup,n-}){sub,y/n} mH{sub,2}O; y es un número en el intervalo de 0 y 1; x es un número en el intervalo de 0 y 0,5 ; m es un número en el intervalo de 0 y 2, M{sub,1}{sup,2+} es Zn{sup,2+} y/o Cu{sup,2+}, M{sub,2}{sup,2+} es Mg{sup,2+} y/o Ca{sup,2+}, M{sub,3}{sup,2+} es al menos un metal trivalente, y A{sup,n-} es un anión de valencia n, una solución de sólidos de óxido de fórmula [(M{sub,1}{sup,2+}){sub ,y}(M{sub,2}{sup,2+}){sub ,1-…
SOLUCIONES SOLIDAS DE HIDROXIDO DE MAGNESIO, METODO PARA SU PRODUCCION Y USO DE LAS MISMAS.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/06/2003). Solicitante/s: TATEHO CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. Clasificación: C09K21/02, C01G3/00, C01G9/00, C01G49/00, C01G45/00, C01G51/00, C01B13/14, C01F5/14, C01F5/00, C01G53/00.
UN METODO PARA LA PRODUCCION DE UNA DISOLUCION SOLIDA DE HIDROXIDO MAGNESICO USANDO UNA PEQUEÑA CANTIDAD DE IONES DIVALENTES Y QUE TIENEN CARACTERISTICAS EQUIVALENTES A LA DISOLUCION SOLIDA DE HIDROXIDO MAGNESICO QUE TIENE IONES DIVALENTES DISTRIBUIDOS UNIFORMENTE. ESTE ES UN METODO DE PRODUCCION PARA UN MG{SUB,1-X}M{SUP,2+}{SUB ,X}(OH{SUB,2}) O UNA RESINA PIRORRETARDANTE Y/O MATERIAL DE CAUCHO QUE TIENE COMO SUS ELEMENTOS EFECACES UNA DISOLUCION SOLIDA DE HIDROXIDO MAGNESICO CARACTERIZADA POR TENER M{SUP,2+} DISTRIBUIDO NO UNIFORMENTE EN UNA CONCENTRACION ALTA CERCA DE LA SUPERFICIE DE CADA CRISTAL, EN EL SOLIDO MAGNESICO REPRESENTADO POR LA FORMULA MG{SUB,1X}M{SUP,2+}{SUB ,X}(OH{SUB,2}) EN DONDE M{SUP,2+} MUESTRA AL MENOS UN ION DE METAL DIVALENTE SELECCIONADO A PARTIR DEL GRUPO QUE SE COMPONE DE MN{SUP,2+}, FE{SUP,2+}, NI{SUP,2+}, CU{SUP,2+}, ZN{SUP,2+} Y X INDICA UN RANGO DE 0.001 MENOR O IGUAL QUE X MENOR QUE 0.5.
COMPOSICION RETARDADORA DE FUEGO Y RETARDADOR DE FUEGO.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/06/1998). Solicitante/s: KYOWA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.. Clasificación: C08K3/22, C08K7/02, C09K21/00.
UN RETARDADOR DE FUEGO QUE CONTIENE 100 PARTES DE PESO DE UN HIDROXIDO METALICO Y DE 0,1 A 50 PARTES DE PESO DE UNA FIBRA ACRILICA, Y UNA COMPOSICION DE RESINA RETARDADORA DE FUEGO QUE CONTIENE DE 20 A 80% DE PESO DE UNA RESINA O GOMA SINTETICA, 80 A 20 % DE PESO DE UN HIDROXIDO METALICO Y DE 0,1 A 10 PARTES DE PESO, BASADO SOBRE 100 PARTES DE PESO DE LA RESINA O GOMA SINTETICA Y EL HIDROXIDO METALICO EN TOTAL, DE UNA FIBRA ACRILICA. LA PRESENTE COMPOSICION PROVEE RETARDO MEJORADO CONTRA EL FUEGO, ESTANDO EXENTA DE DEGRADACION CON RESPECTO A LA TENSION MECANICA Y DE DETERIORO EN SU RESISTENCIA AL AGUA, Y EL PRESENTE RETARDADOR DE LLAMA PERMITE SU COLORACION SIN LIMITACION Y NO PRODUCE HUMOS TOXICOS.
HIDROXIDO DE METAL COMPUESTO Y SU USO.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/02/1996). Solicitante/s: KABUSHIKI KAISHA KAISUI KAGAKU KENKYUJO. Clasificación: C08K3/22, C01G3/00, C01G9/00, C01G49/00, C01G45/00, C01G51/00, C01G53/00.
UN HIDROXIDO DE METAL COMPUESTO QUE ES UNA SOLUCION SOLIDA DE LA FORMULA , MG SUB 1-XM ELEVADO 2+ SUB X(OH) SUB 2 DONDE M (AL CUADRADO) ES AL MENOS UN ION DE METAL DIVALENTE ELEGIDO DEL GRUPO FORMADO POR MN (AL CUADRADO) , FE (AL CUADRADO) , CO (AL CUADRADO) , NI (AL CUADRADO) , CU (AL CUADRADO) Y ZN (AL CUADRADO) , Y X ESTA EN EL MARGEN QUE OSCILA ENTRE 0.001 (MENOR O IGUAL) X (MENOR O IGUAL) 0.9, UN PIRORRETARDANTE QUE CONTENGA EL HIDROXIDO DE METAL COMPUESTO ANTERIOR, Y UNA RESINA PIRORRETARDANTE Y/O UNA COMPOSICION DE CAUCHO QUE CONTENGA EL PIRORRETARDANTE.
OXIDO DE MAGNESIO DE ALTA DISPERSION.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/05/1995). Solicitante/s: KYOWA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.. Clasificación: C01F5/14, C01F5/08, C01F5/02.
DICHO OXIDO TIENE UN AREA DE SUPERFICIE ESPECIFICA BET DE 10 A 200 M (AL CUADRADO) /G, UN 50% DE DIAMETRO, COMO UNA PARTICULA SECUNDATIA DE 0.1 A 1.5 (MU)M, Y UN 90% DE DIAMETRO, COMO PARTICULA SECUNDARIA DE NO MAS DE 3.0 (MU)M, Y UN PROCESO PARA LA PRODUCCION DEL OXIDO DE MAGNESIO QUE COMPRENDE EL CALDEO DE HIDROXIDO DE MAGNESIO QUE TIENE UN AREA DE SUPERFICIE ESPECIFICA BET DE 1 A 50 M (AL CUADRADO) /G, UN DIAMETRO DE UN 50% COMO PARTICULA SECUNDARIA DE 0.1 A 1.5 (MU)M Y UN DIAMETRO DE 90% COMO PARTICULA SECUNDARIA DE NO MAS DE 4.0 (MU)M A UNA TEMPERATURA ENTRE 400 C Y 1.200 C.
PROCESO PARA LA PRODUCCION DE OXIDO DE MAGNESIO.
(16/05/1995) EL PROCESO PARA LA PRODUCCION DE OXIDO DE MAGNESIO COMPRENDE: (A) LA REACCION DE UNA SAL DE MAGNESIO SOLUBLE EN AGUA CON UNA SUSTANCIA ALCALINA CON UN PESO EQUIVALENTE NO MAYOR DE 0.95, POR PESO EQUIVALENT4 DE LA SAL DE MAGNESIO SOLUBLE EN AGUA,M A UNA TEMPERATURA NO SUPERIOR A 40 C; (B) EL CALENTAMIENTO DEL PRODUCTO DE REACCION RESULTANTE Y DE LAS AGUA MADRES DE REACCION ENTRE 50 Y 120 C, PARA FORMAR EL HIDROXIDO DE MAGNESIO; (C) LA FORMACION DEL OXIDO DE MAGNESIO EN PARTICULAS CON UN DIAMETRO MEDIO DE PARTICULA SECUNDARIA DE ENTRE 5 Y 500 (MU)M USANDO UN DESHIDRATADOR DE ASPERSION; (D) EL COCIMIENTO DE LAS PARTICULAS ENTRE 1.100 Y 1.600 C Y (E) LA PULVERIZACION DE LAS PARTICULAS COCIDAS RESULTANTE BAJO CONDICIONES EN LAS QUE NO SE DESTRUYE SUSTANCIALMENTE EL DIAMETRO MEDIO…
PIRORRETARDANTE Y COMPOSICION DE RESINA PIRORRETARDANTE.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/12/1994). Solicitante/s: KYOWA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.. Clasificación: C08K9/04, C09K21/12.
PIRORRETARDANTE QUE CONSTA DE 100 PARTES DE PESO DE HIDROXIDO DE MAGNESIO CUYA SUPERFICIE SE TRATA CON UN ESTER FOSFORICO DE LA FORMULA (I) EN DONDE R REPRESENTA UN GRUPO ALCALI O ALQUENILO CON 10 A 30 ATOMOS DE CARBONO, M REPRESENTA UN ATOMO PERTENECIENTE AL GRUPO IA DE LA TABLA PERIODICA O NH4, Y N REPRESENTA 1 O 2, Y 0,1 A 10 PARTES DE PESO DE UNA SAL METALICA, QUE NO SEA UNA SAL METALICA ALCALI, DE UN ACIDO GRASO SUPERIOR, Y UNA COMPOSICION DE RESINA QUE CONTENGA DICHO PIRORRETARDANTE, EL CUAL MUESTRA UNA RESISTENCIA MEJORADA AL AGUA Y ACIDO DURANTE UN PERIODO DE TIEMPO PROLONGADO.
RETARDANTE DE LA LLAMA Y COMPOSICION DE RESINA DE RETARDANTE DE LA LLAMA.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/11/1994). Solicitante/s: KYOWA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.. Clasificación: C09C1/02, C08K9/04.
SE DESRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR UN RETARDANTE DE LA LLAMA, QUE CONSISTE EN PONER EN CONTACTO HIDROXIDO DE MAGNESIO CON UN AGENTE DE TRATAMIENTO DE SUPERFICIES, QUE ES UNA SAL DE DIALCOHOL AMINA DE UN ESTER DE ALCOL FOSFATO, QUE TIENE LA FORMULA , DONDE R ES UN GRUPO ALQUILO O ALQENILENO C10-C30 LINEAL O RAMIFICADO Y N ES 1 O 2; O UN ESTER ALCOHOL FOSFATO O SUS SAL DE METAL ALCALINO, QUE TIENE LA FORMULA , DONDE R Y N SON COMO SE DEFINIO ANTES EN RELACION CON LA FORMULA Y M ES UN METAL ALCALINO O HIDROGENO, PREVIENDO QUE, CUANDO N = 1, CADA UNO DELOS DOS M ES, INDEPENDIENTEMENTE, UN METAL ALCALINO O HIDROGENO. TAMBIEN SE DESCRIBE UNA SUSTANCIA ADECUADA PARA USAR COMO UN RETARDANTE DE LA LLAMA, QUE CONTIENE MG(OH)2 DESHIDRATADO QUE TIENE UNIDO A SU SUPERFICIE EL GRUPO DE FORMULA: (FIG. A) O (FIG. B), DONDE R ES COMO SE DEFINIO ANTES.