Composiciones de barniz fotorreticulables y métodos de aplicación.
(03/07/2019) Composición cosmética fotorreticulable, en particular, para revestir una uña o una uña postiza, y, más particularmente, para maquillar una uña o una uña postiza, que comprende, en un medio fisiológicamente aceptable:
- al menos un compuesto fotorreticulable a) que comprende al menos un compuesto fotorreticulable correspondiente a la siguiente fórmula (I):**Fórmula**
en la que:
- R1, R2 y R3, que pueden ser idénticos o diferentes, representan un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo C1-C10, preferiblemente C1, R1 preferiblemente es un metilo, R2 y R3 preferiblemente son un átomo de hidrógeno,
- n representa un entero entre 1 y 10, preferiblemente igual a 2.
- el enlace entre α y ß del carboniloxi es un enlace sencillo o un doble enlace o es un enlace incluido en un (hetero)ciclo…
Composiciones fotorreticulables como kit para el recubrimiento de uñas y procedimientos de aplicación.
(14/06/2019) Kit para el recubrimiento de una uña o una uña postiza, y más particularmente para el maquillaje de una uña o una uña postiza, que comprende:
- una primera composición fotorreticulable que comprende, en un medio fisiológicamente aceptable, al menos un compuesto fotorreticulable a) que comprende al menos dos funciones (ALC)acrilato en las que ALC representa un grupo alquilo C1-C6, preferentemente C1-C2, de forma más preferida C1, tal como CH3, y al menos una función ácido carboxílico,
- una segunda composición fotorreticulable que comprende, en un medio fisiológicamente aceptable:
• al menos un compuesto…
Composiciones de esmalte fotorreticulables como revestimiento de base y métodos de aplicación.
(27/02/2019) Composición cosmética fotorreticulable, en particular para revestir una uña, y más particularmente para maquillar una uña, que comprende, en un medio fisiológicamente aceptable:
- al menos un compuesto fotorreticulable a) correspondiente a la fórmula (I) posterior:**Fórmula**
fórmula (I) en la que:
- R1, R2, R3, que pueden ser idénticos o diferentes, representan un átomo de hidrogeno, o un grupo alquilo C1- C10, preferiblemente C1, siendo R1 preferiblemente un metilo, siendo R2 y R3 preferiblemente un átomo de hidrógeno,
- n representa un número entero entre uno y 10, preferiblemente igual a 2,
- el enlace entre α y ß del carboniloxi es un enlace sencillo,…
Composiciones de esmalte fotorreticulables como revestimiento de base y métodos de aplicación.
(27/12/2018) Estuche para revestir una uña o uña postiza, y más particularmente para maquillar una uña o uña postiza, que comprende:
- una primera composición fotorreticulable que comprende, en un medio fisiológicamente aceptable,
i) al menos un compuesto fotorreticulable a) correspondiente a la fórmula (I) posterior:**Fórmula**
fórmula (I) en la que:
- R1, R2 y R3, que pueden ser idénticos o diferentes, representan un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo C1-C10 y preferiblemente C1, siendo R1 preferiblemente un metilo, siendo R2 y R3 preferiblemente un átomo de hidrógeno,
- n representa un número entero entre 1 y 10, preferiblemente igual a 2,
- el enlace entre α y ß del carboniloxi es un enlace sencillo o un doble enlace o es un enlace incluido en un (hetero)ciclo que comprende de 5 a 7 átomos de carbono, preferiblemente…
Composiciones de esmalte fotorreticulables como revestimiento de base y métodos de aplicación.
Sección de la CIP Necesidades corrientes de la vida
(17/12/2018). Solicitante/s: L'OREAL. Clasificación: A61K8/73, A61K8/37, A61Q3/02, A61K8/45.
Composición cosmética fotorreticulable, en particular para revestir una uña, y más particularmente para maquillar una uña, que comprende, en un medio fisiológicamente aceptable:
- al menos un compuesto fotorreticulable a) correspondiente a la fórmula (I-1) posterior:**Fórmula**
fórmula (I-1) en la que:
- R3 y R4, que pueden ser idénticos o diferentes, representan un átomo de hidrógeno o un grupo metilo ;
- R1 y R2, que pueden ser idénticos o diferentes, representan un átomo de hidrógeno, un grupo metilo o un grupo de la fórmula (II-1) posterior:.
PDF original: ES-2694003_T3.pdf
Procedimiento de maquillaje de uñas con composiciones de barniz fotorreticulables.
(04/10/2018) Procedimiento de maquillaje y/o cuidado de una uña y/o una uña postiza que comprende las etapas siguientes:
a) aplicar sobre una uña o una uña postiza una composición cosmética fotorreticulable C1, con lo que se deposita un recubrimiento constituido por al menos una capa de dicha composición C1;
la composición C1 comprende en un medio fisiológicamente aceptable:
- al menos un compuesto fotorreticulable que comprende al menos dos funciones (met)acrilato y al menos una función ácido carboxílico,
- al menos un disolvente volátil S en una proporción superior o igual al 30 %, con respecto al peso total de la composición C1, y
- al menos un fotoiniciador;
b) exponer…
Procedimiento de maquillaje de uñas con composiciones de esmalte fotorreticulables.
(31/01/2018) Procedimiento de maquillaje y/o cuidado de una uña y/o una uña postiza, que comprende las siguientes etapas:
a) aplicar, sobre una uña o uña postiza, una composición cosmética fotorreticulable C1, mediante lo cual se deposita un recubrimiento que consiste en al menos una capa de dicha composición C1;
comprendiendo la composición C1 en un medio fisiológicamente aceptable:
- al menos un compuesto de (met)acrilato fotorreticulable,
- al menos un polímero formador de película P1 en una proporción mayor que o igual al 10% en peso en relación al peso de extracto seco de la composición C1,
- al menos un disolvente volátil S en una proporción mayor que o igual al 30% en relación al peso total de la composición C1, y
- al menos un fotoiniciador,
b) exponer la uña o uña postiza recubierta obtenida…