(19/03/2019) Fuente de plasma en una cámara de vacío para generar un plasma en la cámara de vacío , comprendiendo la fuente de plasma una carcasa de fuente con una abertura que se adentra en la cámara de vacío y estando previsto en la carcasa de fuente un filamento al cual, a través de líneas eléctricas que se han pasado de forma aislada a través de la carcasa de fuente , se puede aplicar una tensión de calentamiento (Vcal.) de tal modo que se puede calentar el filamento mediante un flujo de corriente, estando dispuesta la carcasa de fuente de forma eléctricamente aislada de la cámara de vacío en la misma, caracterizada por que:
• están previstos medios que permiten medir la caída de…
Objetivo de pulverización con mayor compatibilidad de potencia.
(06/06/2018) Fuente de revestimiento como proveedor de material para un revestimiento PVD, que comprende
a) un soporte y una placa, alojada en el soporte, con lado delantero de placa (1a) y lado trasero de placa (1c) y con medios de centrado, comprendiendo el soporte una montura de placa con forma de marco para el alojamiento de la placa , siendo la placa un objetivo, y estando previsto el lado delantero de placa (1a) para transferir material de revestimiento desde la superficie a la fase gaseosa durante el proceso PVD, y estando configurados los medios de centrado de forma que está garantizado el centrado a diferentes temperaturas…
Fuente de deposición por arco con campo eléctrico definido.
(17/01/2018) Dispositivo de evaporación por arco que comprende
- un cátodo que contiene una superficie con aquel material, que va a evaporarse
- medios magnéticos que llevan a un campo magnético a lo largo de la superficie del cátodo
- un ánodo para la absorción de los electrones, que se extraen del cátodo durante el proceso de evaporación
- una fuente de tensión, que permite colocar en potencial positivo al menos durante cierto tiempo el ánodo frente al cátodo
caracterizado por que el ánodo está dispuesto en la proximidad inmediata del cátodo y en combinación con el campo magnético generado por los medios magnéticos de tal manera que las líneas del campo magnético…
Configuración magnética modificable para fuentes de evaporación por arco.
(11/10/2017) Fuente de evaporación por arco con una disposición de campo magnético prevista en un blanco a partir de un material de revestimiento para la generación de campos magnéticos en y por encima de la superficie de blanco, comprendiendo la disposición de campo magnético imanes permanentes centrales (5a), imanes permanentes marginales y al menos una bobina anular dispuesta detrás del blanco, cuyo diámetro interior limitado por los devanados es preferentemente menor o igual, en todo caso no considerablemente mayor que el diámetro del blanco, caracterizada por que los imanes permanentes marginales y los imanes permanentes centrales (5a) pueden desplazarse esencialmente en perpendicular a la superficie del blanco de manera que se alejan del blanco y la proyección de los imanes…
(15/02/2017) Dispositivo de generación de plasma, comprendiendo
una fuente de plasma con cuerpo hueco fuente de plasma y una unidad de emisión de electrones que hace posible emitir electrones libres en el cuerpo hueco fuente de plasma , en donde el cuerpo hueco fuente de plasma presenta una primera entrada de gas (7a) y una abertura de fuente de plasma que forma una abertura que lleva a una cámara de vacío,
así como un ánodo con cuerpo hueco de ánodo , en donde el cuerpo hueco de ánodo presenta una segunda entrada de gas (7b) y una abertura de ánodo ,
y una fuente de tensión cuyo polo negativo está unido con la unidad de emisión de electrones y cuyo polo positivo está unido con el cuerpo hueco de ánodo , en donde el polo positivo…
Fuente de revestimiento con un objetivo adaptado en un dispositivo de refrigeración indirecta.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(30/11/2016). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Clasificación: C23C14/34.
Fuente de revestimiento compuesta de un objetivo con parte delantera y trasera, cuya parte trasera está dispuesta en una pared del soporte de fuente , en el que está integrada una refrigeración indirecta con canal de refrigeración , en donde el objetivo está fijado al soporte de fuente a través de las medidas apropiadas y la pared del soporte de fuente en la que está dispuesto el objetivo , está configurada en forma de membrana flexible , la cual separa el canal de refrigeración de la parte trasera del objetivo , caracterizada por que en la parte posterior del objetivo y/o en aquella pared del soporte de fuentes, en la que está dispuesto el objetivo, se ha pegado una hoja de carbono autoadhesiva.
PDF original: ES-2617518_T3.pdf
Dispositivo de encendido para fuentes de arco.
(14/08/2013) Fuente de ARCO con un primer objetivo y con un segundo objetivo , en el que el primero y el segundoobjetivos se encuentran esencialmente en un primer plano, y está previsto un dispositivo de encendido para elencendido de una chispa en el primer objetivo y en el segundo objetivo, en la que el dispositivo de encendidocomprende un linguete de disparo montado móvil, de tal manera que están revistos medios para elmovimiento de la punta de linguete del linguete de disparo hacia la superficie del primer objetivo y hacia lasuperficie del segundo objetivo, en el que los medios para la realización del movimiento comprenden unaccionamiento del grupo de accionamiento lineal o accionamiento giratorio, caracterizada porque…