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Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/02/1992). Inventor/es: TREMEL, ROBERT A. Clasificación: C25D21/18.

PROCEDIMIENTO MEJORADO PARA PURIFICAR BAÑOS DE DEPOSICION DE NIQUEL. SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO MEJORADO PARA PURIFICAR UN BAÑO DE DEPOSICION DE NIQUEL QUE CONTIENE UNA COMPOSICION DE PIRIDINA COMO ADITIVO, Y CUYA SOLUCION CONTIENE UNA IMPUREZA QUE COMPRENDE UN PRODUCTO DE DESCOMPOSICION DE LA COMPOSICION DE PIRIDINA. EL PROCEDIMIENTO COMPRENDE LAS ETAPAS DE: A) AJUSTAR EL PH DEL BAÑO DE DEPOSICION DE NIQUEL A UN PH IGUAL O MAYOR QUE UNOS 5,0; B) AÑADIR UNA CANTIDAD EFICAZ DE UN AGENTE OXIDANTE EFICAZ AL BAÑO DE DEPOSICION DE NIQUEL; Y C) SACAR EL PRODUCTO DE DESCOMPOSICION DEL BAÑO DE DEPOSICION DE NIQUEL.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/11/1991). Inventor/es: VERHOEVEN, PETER. Clasificación: C23C22/13.

COMPOSICION A BASE DE IONES CROMATO Y NITRATO Y PROCEDIMIENTO DE PREPARACION DE UN DEPOSITO DE NIQUEL NEGRO SOBRE UN ARTICULO. SE PUEDE CONSEGUIR LA PRODUCCION DE DEPOSITOS DE NIQUEL UNIFORMEMENTE ENNEGRECIDOS PARA FINES DECORATIVOS O FUNCIONALES DEPOSITANDO NIQUEL A PARTIR DE UNA COMPOSICION DE DEPOSICION ELECTROLITICA O NO ELECTROLITICO DE NIQUEL Y, SEGUIDAMENTE, FORMANDO UNA CAPA DE CONVERSION SOBRE EL DEPOSITO DE NIQUEL NO ELECTROLITICO EN UN BAÑO DE CROMATO QUE CONTIENE IONES NITRATO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/11/1991). Inventor/es: VERHOEVEN, PETER. Clasificación: C23C22/58, C23C22/27.

COMPOSICION DE DEPOSICION DE NIQUEL NO ELECTROLITICO CONTENIENDO SACARINA Y PROCEDIMIENTO DE PREPARACION DE UN DEPOSITO DE NIQUEL NO ELECTROLITICO NEGRO. SE PUEDE CONSEGUIR LA PRODUCCION DE DEPOSITOS DE NIQUEL NO ELECTROLITICO, UNIFORMEMENTE ENNEGRECIDOS, CON FINES DECORATIVOS O FUNCIONALES, POR INCORPORACION DE SACARINA EN LA COMPOSICION DE DEPOSICION NO ELECTROLITICA, DE NIQUEL Y POSTERIOR FORMACION DE UN DEPOSITO DE CONVERSION SOBRE EL DEPOSITO DE NIQUEL NO ELECTROLITICO EN UN BAÑO QUE CONTIENE IONES CROMATO. EN EL BAÑO DE CONVERSION QUE CONTIENE IONES CROMATO, SE PUEDEN INCORPORAR IONES NITRATO PARA CONSEGUIR RESULTADOS PARTICULARMENTE UNIFORMES.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/08/1988). Inventor/es: BAMMEL, BRIAN D., WIECZERNIAK, WALTER J, SNELL, KENNETH D. Clasificación: C25D3/56.

ESTA INVENCION SE REFIERE A UN ELECTROLITO ACIDO ACUOSO, MEJORADO, PARA ELECTRODEPOSITAR ALEACIONES DE ZINC, QUE ESTA COMPUESTO POR UNA COMBINACION DE ZINC Y POR LO MENOS UN METAL SELECCIONADO DEL GRUPO FORMADO POR NIQUEL, COBALTO, HIERRO Y MEZCLAS DE ESTOS Y LLEVA INCORPORADA UNA CANTIDAD EFICAZ DE UN AGENTE ADITIVO PARA COMUNICAR UN REFINAMIENTO MEJORADO DE LA TEXTURA Y POTENCIAR EL AJUSTE DE LA CODEPOSICION DE LOS METALES ALEANTES EN EL DEPOSITO DE LA ALEACION DE ZINC. EL AGENTE ADITIVO ESTA FORMADO POR UN COMPUESTO POLIHIDROXILICO, SOLUBLE EN EL BAÑO, QUE TIENE TRES O MAS GRUPOS HIDROXILO, AL MENOS UNO DE LOS CUALES ESTA SUSTITUIDO CON UN GRUPO POLIOXIALQUILENO. LA PRESENTE INVENCION TAMBIEN SE REFIERE AL PROCEDIMIENTO DE EMPLEO DEL ELECTROLITO QUE SE ACABA DE DESCRIBIR PARA LA DEPOSICION DE ELECTRODEPOSITOS DE ALEACIONES DE ZINC, TANTO FUNCIONALES COMO DECORATIVOS.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/12/1986). Clasificación: C23C18/40.

PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION NO ELECTROLITICA DE COBRE SOBRE UN SUSTRATO, A PARTIR DE BAÑOS QUE NO UTILIZAN FORMALDEHIDO COMO AGENTE REDUCTOR PRIMARIO. LA DEPOSICION DE COBRE, NO ELECTROLITICO, SE PUEDE EFECTUAR A PARTIR DE UNA COMPOSICION QUE COMPRENDE IONES DE COBRE, UN COMPLEJANTE PARA MANTENER LOS IONES COBRE EN SOLUCION E IONES GLIOXILATO COMO AGENTES REDUCTORES, CON LO QUE SE EVITA EL EMPLEO DE FORMALDEHIDO. LOS DEPOSITOS OBTENIDOS TALES COMO CUADROS DE CIRCUITOS IMPRESOS (PCBS) Y PLASTICOS ESTAN LIBRES DE FORMALDEHIDO CONSIDERADO TOXIDO E INCLUSO CARCINOGENO, POR LO QUE LA REGULACION DE SU USO ES MUY ESTRICTA.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/09/1986). Clasificación: C25D3/56.

PROCEDIMIENTO PARA ELECTRODEPOSITAR UNA ALEACION DE CINC EN UN SUBSTRATO CONDUCTOR. COMPRENDE: A) SUMERGIR EL SUBSTRATO EN UN ELECTROLITO ACIDO ACUOSO CONSTITUIDO POR: A) IONES CINC; B) UN ION METALICO ADICIONAL SELECCIONADO DEL GRUPO FORMADO POR NIQUEL, COBALTO Y MEZCLAS DE ESTOS, PARA ELECTRODEPOSITAR UNA ALEACION DE CINC-NIQUEL, CINC-COBALTO, CINC-NIQUEL-COBALTO; C) UNA CANTIDAD DE 0,001 A 10 G/L DE UN ABRILLANTADOR PRINCIPAL; D) UN ABRILLANTADOR VEHICULO PARA REFINAR EL GRANO DEL ELECRODEPOSITO DE LA ALEACION DE CINC; E) UN ABRILLANTADOR AUXILIAR PARA COMUNICAR BRILLO COMPLEMENTARIO AL ELECTRODEPOSITO DE LA ALEACION DE CINC; Y F) UN DUCTILIZANTE; Y B) HACER PASAR UNA CORRIENTE ELECTRICA A TRAVES DEL ELECTROLITO CON UNA DENSIDAD DE CORRIENTE CATODICA ENTRE 5,5 A/M2 Y 888 A/M2, MANTENIENDOSE EL PH ENTRE 3 Y 6,9 Y LLEVANDOSE A CABO EL PROCESO A UNA TEMMPERATURA ENTRE 15,5 Y 49JC. TIENE UTILIDAD COMO SISTEMA ABRILLANTADOR PARA SOLUCIONES DE ELECTRODEPOSICION DE ALEACIONES DE CINC.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/04/1986). Clasificación: C23C22/48.

METODO PARA PASIVAR UN SUSTRATO METALICO RECEPTIVO. COMPRENDE: A) PONER EN CONTACTO EL SUSTRATO CON UNA SOLUCION ACUOSA ACIDA, LIBRE DE PEROXIDOS, QUE CONTIENE IONES CR3B, IONES HB PARA PRODUCIR UN PH ACIDO E IONES (NO3)C COMO AGENTE OXIDANTE ESENCIAL, EN CANTIDAD SUFICIENTE PARA ACTIVAR AL CR3B HIDRATADO Y FORMAR UNA PELUCULA DE CROMATO SOBRE EL SUSTRATO, Y POR LO MENOS UN ION METALICO ADICIONAL SECCIONADO ENTRE EL GRUPO FORMADO POR FE, CO, NI, MO, MN, AL, LA, CE, MEZCLAS DE LANTANIDOS ASI COMO MEZCLAS DE ESTOS METALES, EN UNA CANTIDAD EFECTIVA PARA ACTIVAR LA FORMACION DE LA PELICULA PASIVA DE CROMATO, A UNA TEMPERATURA DE 4 A 65JC, DURANTE 1 SEGUNDO A 1 MINUTO PARA FORMAR UN RECUBRIMIENTO PASIVADO SOBRE DICHO SUSTRATO; B) LAVAR EL SUSTRATO CON UNA SOLUCION ACUOSA DILUIDA DE UN SILICATO, A UNA TEMPERATURA DE 10 A 65JC, DURANTE 1 SEGUNDO A 1 MINUTO; Y C) SECAR EL SUSTRATO AL AIRE.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/04/1986). Clasificación: C25D3/22.

PROCEDIMIENTO PARA ELECTRODEPOSITAR UN DEPOSITO DUCTIL Y ADHERENTE DE ZINC O ALEACIONES DE ZINC-COBALTO, ZINC-NIQUEL Y ZINC-COBALTO-NIQUEL, SOBRE UN SUSTRATO CONDUCTOR QUE CONTIENE UNA CONCENTRACION RELATIVAMENTE BAJA DE ACIDO BORICO PARA INHIBIR LA FORMACION DE COMPUESTOS DE POLIBORATO INSOLUBLES EN EL BAÑO. CONSISTE EN SUMERGIR EL SUSTRATO EN UNA SOLUCION ACUOSA ACIDA DE ELECTRODEPOSICION QUE CONTIENE IONES ZINC Y OPCIONALMENTE IONES COBALTO O NIQUEL, EN CANTIDAD EFECTIVA, PARA ELECTRODEPOSITAR UNA ALEACION DE ZINC-COBALTO, ZINC-NIQUEL O DE ZINC-COBALTO-NIQUEL, Y ACIDO BORICO Y SUS SALES SOLUBLES Y COMPATIBLES EN EL BAÑO, E IONES HIDROGENO PRESENTES EN CANTIDAD ADECUADA PARA PRODUCIR UN PH EN LA REGION ACIDA Y UN AGENTE ADITIVO POLIHIDROXILO, SOLUBLE Y COMPATIBLE EN EL BAÑO.-.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/12/1985). Clasificación: C25D3/06.

PROCEDIMIENTO PARA ELECTRODEPOSITAR UN DEPOSITO DE CROMO SOBRE UN SUSTRATO CONDUCTOR DE LA ELECTRICIDAD. CONSISTE EN SUMERGIR EL SUSTRATO EN UN ELECTROLITO DE CROMO TRIVALENTE ACIDO ACUOSO, QUE CONTIENE CRB3, UN AGENTE COMPLEJANTE, HB PARA MANTENER EL PH EN ESCALA ACIDA Y UN AGENTE ADITIVO FORMADO POR IONES METALICOS PARA MANTENER LA CONCENTRACION DE CRB6 PARA LOGRAR ELECTRODEPOSITOS DE CROMO. EL SUSTRATO SE CARGA CATODICAMENTE Y EL CROMO SE DEPOSITA A DENSIDADES DE CORRIENTE ENTRE 0,05 Y 0,25 A/CM, A TEMPERATURAS ENTRE 15 Y 45JC Y PH ENTRE 2,5 Y 5,5 HASTA LOGRAR EL ESPESOR DESEADO. APLICACION COMO REVESTIMIENTOS PROTECTORES Y DECORATIVOS EN SUSTRATOS METALICOS.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/10/1985). Clasificación: C25D3/38.

PROCEDIMIENTO PARA ELECTRODEPOSITAR UN DEPOSITO DE COBRE BRILLANTE Y NIVELADO SOBRE UN SUSTRATO CONDUCTOR. COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA SE SUMERGE UN SUSTRATO CONDUCTOR CATODICAMENTE CARGADO EN UN ELECTROLITO ACUOSO ACIDO QUE CONTIENE COBRE Y UNA COMBINACION DE AGENTES ABRILLANTADORES FORMADA POR UN RADICAL DE FTALOCIANINA SUSTITUIDO DE FORMULA GENERAL (I) Y POR UN COMPUESTO DE APOSAFRANINA DE FORMULA GENERAL (II); SEGUNDA SE HACE PASAR UNA CORRIENTE ELECTRICA CON UNA DENSIDAD PREDETERMINADA A UNA TEMPERATURA COMPRENDIDA ENTRE 15 Y 50 GRADOS CON EL FIN DE QUE TENGA LUGAR LA CORRESPONDIENTE REACCION DE REDUCCION ELECTROLITICA DE LOS IONES COBRE A COBRE METALICO; Y POR ULTIMO EL PROCESO SE MANTIENE DURANTE EL TIEMPO NECESARIO PARA QUE EL COBRE DEPOSITADO SOBRE EL SUSTRATO TENGA EL ESPESOR DESEADO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/10/1985). Clasificación: C25D3/38.

PROCEDIMIENTO PARA LA ELECTRODEPOSICION DE UN DEPOSITO DE COBRE ALTAMENTE NIVELADO DUCTIL Y BRILLANTE DE DUREZA SUSTANCIALMENTE UNIFORME Y NO RECOCIBLE SOBRE UN SUSTRATO CONDUCTOR. CONSISTE EN SUMERGIR EL SUSTRATO CONDUCTOR EN UN ELECTROLITO ACUOSO ACIDO DE COBRE QUE CONTENGA UNA COMBINACION CONTROLADA DE AGENTES ABRILLANTADORES ORGANICOS SOLUBLES Y COMPARTIBLES EN EL BAÑO LA CUAL ESTA CONSTITUIDA POR UN COMPUESTO DE POLIETER ORGANICO Y MEZCLAS DE LOS MISMOS POR UN COMPUESTO DE SULFURO ORGANICO Y MEZCLAS DE LOS MISMOS Y POR UN COMPUESTO SELECCIONADO ENTRE UN COMPUESTO DE FORMULA ESTRUCTURAL (I) EN LA QUE R1 Y R2 SIGNIFICAN HIDROGENO METILO O ETILO; X ES UN ANION DE CLORURO BROMURO O YODURO; Y ES H O -NH2; Y Z ES UN RADICAL AROMATICO DE TIPO FENILO O ALQUILAMINO Y UN COMPUESTO DE FTALOCIANINA SUSTITUIDA DE FORMULA GENERAL (II).

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/09/1985). Clasificación: C25D3/62.

PROCEDIMIENTO DE ELECTRODEPOSICION DE UNA ALEACION METALICA DE ORO SOBRE UN SUSTRATO.COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE PREPARA UN BAN/O DE ELECTRODEPOSICION QUE CONTIENE MENOS DE UN 1 EN PESO DE UN METAL ALEABLE SELECCIONADO ENTRE COBALTO Y NIQUEL, UNA SAL SOLUBLE EN AGUA DE NIQUEL O DE COBALTO, Y UN ELECTROLITO ACIDO SELECCIONADO ENTRE ACIDO CITRICO Y ACIDO FOSFORICO; SEGUNDA, EN DICHO BAN/O DE ELECTRODEPOSICION SE SUMERGE EL SUSTRATO; Y POR ULTIMO, SE HACE PASAR UNA CORRIENTE ELECTRICA A TRAVES DEL BAN/O DE ELECTRODEPOSICION PARA QUE TENGA LUGAR LA CORRESPONDIENTE REDUCCION ELECTROLITICA DE LOS CATIONES METALICOS AL CORRESPONDIENTE METAL QUE SE DEPOSITA SOBRE EL SUSTRATO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/06/1985). Clasificación: C23C18/36.

METODO DE DEPOSICION QUIMICA DE NIQUEL SOBRE UN SUSTRATO.COMPRENDE LA INTRODUCCION DEL SUSTRATO LIMPIO Y ADECUADAMENTE PREPARADO EN UN BAN/O DE NIQUEL SIN ELECTRODOS QUE CONTIENE IONES NIQUEL E HIPOFOSFITO, UN COMPUESTO DE SULFONIO-BETAINA EN CANTIDAD SUFICIENTE PARA CONTROLAR LA VELOCIDAD DE DEPOSICION Y LA CONCENTRACION DE FOSFORO EN EL DEPOSITO, Y EVENTUALMENTE AGENTES COMPLEJANTES, TAMPONANTES Y ESTABILIZANTES.TIENE APLICACIONES PARA EL DEPOSITO DE CHAPAS DE NIQUEL-FOSFORO.-.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/06/1985). Clasificación: C25D3/38.

PROCEDIMIENTO PARA ELECTRODEPOSITAR UNA CAPA DE COBRE DUCTIL Y ADHERENTE.COMPRENDE LAS ETAPAS DE: FORMAR UN ELECTROLITO ACUOSO LIBRE DE CIANUROS QUE CONTIENE IONES COBRE, UN AGENTE COMPLEJANTE, UN AGENTE TAMPONANTE SOLUBLE EN EL BAN/O Y COMPATIBLE EN CANTIDAD SUFICIENTE PARA ESTABILIZAR EL PH DEL ELECTROLITO, Y IONES HIDROXILO Y/O HIDROGENO EN CANTIDAD ADECUADA PARA DAR UN PH DE 6 A 10,5 APROXIMADAMENTE; SUMERGIR EL SUSTRATO CONDUCTO EN EL ELECTROLITO; SUMERGIR UNA COMBINACION DE UN ANODO SOLUBLE A BASE DE COBRE Y UN ANODO INSOLUBLE DE ALEACION DE NIQUEL-HIERRO QUE CONTIENE ENTRE 10 Y 40 DE PESO EN HIERRO; Y PASAR CORRIENTE ENTRE AANODO Y CATODO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/05/1985). Clasificación: C25D3/62.

PROCEDIMIENTO DE ELECTRODEPOSICION DE UNA ALEACION METALICA DE ORO SOBRE UN SUSTRATO.CONSISTE EN HACER PASAR UNA CORRIENTE ELECTRICA A TRAVES DE UN BAN/O DE ELECTRODEPOSICION QUE TIENE UN PH SUPERIOR A 0,75 PERO INFERIOR A 2,75 Y QUE CONTIENE UN COMPLEJO DE AURICIANURO DE METAL ALCALINO COMO POTASIO, UNA SAL SOLUBLE EN AGUA DE UN METAL ALEABLE, COMO NIQUEL, COBALTO, INDIO Y OTROS, Y UNA MATRIZ ACIDA SELECCIONADA ENTRE EL GRUPO FORMADO POR ACIDO OXALICO, ACIDO NITRICO, ACIDO CITRICO, ACIDO SULFAMICO, ACIDO FOSFORICO Y ACIDO CLORHIDRICO, EN EL QUE SE HALLA SUMERGIDO EL CITADO SUSTRATO. SE EMPLEA UNA DENSIDAD DE CORRIENTE COMPRENDIDA ENTRE 1,08 Y 3,23 A/DM Y UNA TEMPERATURA COMPRENDIDA ENTRE 40 Y 60JC PARA QUE TENGA LUGAR LA CORRESPONDIENTE REDUCCION ELECTROLITICA DE LOS CATIONES METALICOS AL CORRESPONDIENTE METAL QUE SE DEPOSITA SOBRE EL SUSTRATO EN FORMA DE ALEACION DE ORO DEL COLOR DESEADO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/12/1984). Clasificación: C25D3/38.

METODO DE ELECTRODEPOSICION DE UNA CAPA PRIMARIA DE COBRE DUCTIL Y ADHERENTE, DE GRANO FINO, SOBRE UN SUBSTRATO CONDUCTOR.CONSISTE EN PREPARAR UN ELECTROLITO ACUOSO ALCALINO, LIBRE DE CIANUROS, QUE CONTIENE LOS IONES COBRE QUE-LATADOS CON UN AGENTE COMPLEJANTE DERIVADO DEL ACIDO DIFOSFONICO; SALES SOLUBLES Y UN CARBONATO SOLUBLE A PH ENTRE 7,5 Y 10,5. SUMERGIR EL SUBSTRATO EN EL BAN/O A 30JC-71JC. SUMERGIR UN ANODO SOLUBLE A BASE DE COBRE Y OTRO INSOLUBLE DE FERRITA, Y PASAR LA CORRIENTE.TIENE APLICACIONES PARA EL COBREADO DE HIERRO, CINC Y OTROS SUBSTRATOS.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/02/1983). Clasificación: C25D3/56.

METODO PARA FORMAR UN DEPOSITO GALVANO-PLASTICO DE ALEACION DE COBALTO-ZINC SOBRE UN SUBSTRATO CONDUCTOR, CON EL FIN DE DARLE UN ASPECTO QUE SIMULA EL DEL CROMO. COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE PONE EN CONTACTO EL SUBSTRATO CON UN ELECTROLITO ACUOSO A UN PH COMPRENDIDO ENTRE 6 Y 9, CONTENIENDO APROXIMADAMENTE DE 1 A 12 GRAMOS POR LITRO DE IONES DE COBALTO, APROXIMADAMENTE DE 0,75 A 9 GRAMOS POR LITRO DE IONES DE ZINC, Y UN AGENTE COMPLEXANTE PRESENTE EN UNA CANTIDAD SUFICIENTE PARA MANTENER EN SOLUCION DICHOS IONES DE COBALTO Y ZINC; SEGUNDA, SE CONTROLA LA RELACION ENTRE LOS IONES DE COBALTO Y ZINC EN EL MENCIONADO ELECTROLITO AL OBJETO DE FORMAR UN DEPOSITO GALVANOPLASTICO DE ALEACION DE COBALTO-ZINC QUE CONTENGA ENTRE UN 75 Y UN 85% EN PESO DE ZINC Y EL RESTO DE COBALTO; Y POR ULTIMO, SE APLICA UNA TENSION ELECTRICA AL SUBSTRATO PARA DEPOSITAR UN REVESTIMIENTO DE COBALTO-ZINC DE ESPESOR DESEADO.