CIP-2021 : C30B 33/10 : en soluciones o en baños fundidos.
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C QUIMICA; METALURGIA.
C30 CRECIMIENTO DE CRISTALES.
C30B CRECIMIENTO DE MONOCRISTALES (por sobrepresión, p. ej. para la formación de diamantes B01J 3/06 ); SOLIDIFICACION UNIDIRECCIONAL DE MATERIALES EUTECTICOS O SEPARACION UNIDIRECCIONAL DE MATERIALES EUTECTOIDES; AFINAMIENTO DE MATERIALES POR FUSION DE ZONA (afinamiento por fusión de zona de metales o aleaciones C22B ); PRODUCCION DE MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA (colada de metales, colada de otras sustancias por los mismos procedimientos o aparatos B22D; trabajo de materias plásticas B29; modificación de la estructura física de metales o aleaciones C21D, C22F ); MONOCRISTALES O MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA; TRATAMIENTO POSTERIOR DE MONOCRISTALES O DE MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA (para la fabricación de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas H01L ); APARATOS PARA ESTOS EFECTOS.
C30B 33/00 Tratamiento posterior de monocristales o de materiales policristalinos homogéneos de estructura determinada (C30B 31/00 tiene prioridad).
C30B 33/10 · · en soluciones o en baños fundidos.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Método de texturización de las superficies de obleas de silicio.
(29/10/2018). Solicitante/s: UNIVERSITAT KONSTANZ. Inventor/es: FATH, PETER, HAUSER,ALEXANDER, MELNYK,IHOR.
Método para la texturización de las superficies de obleas de silicio, que comprende las etapas de inmersión de la oblea de silicio en una solución de grabado al agua fuerte de agua, ácido fluorhídrico con una concentración de al menos 50% y ácido nítrico con una concentración de al menos 65% y colocando una temperatura para la solución de grabado al agua fuerte, caracterizado en que la solución de grabado al agua fuerte comprende solamente 20% a 55% de agua, 10% a 40% de ácido fluorhídrico con una concentración de al menos 50% y 20% a 60% de ácido nítrico con una concentración de al menos 65% y que la temperatura de la solución de grabado al agua fuerte está en el rango de 0ºC a 15ºC.
PDF original: ES-2314393_T3.pdf
PDF original: ES-2314393_T5.pdf