PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO DE REVESTIMIENTO POR PVD.

(01/04/2003) La invención se refiere a un procedimiento para revestir PVD y a un dispositivo con una cámara para revestir PVD, en el cual están dispuestos al menos un cátodo blanco , al menos un ánodo y al menos un soporte de sustrato que se destina para soportar al menos un sustrato , y con un dispositivo de control que entrega una primera tensión con el fin de suministrar al cátodo blanco un potencial eléctrico negativo con relación al ánodo con el fin de formar un plasma (P) en el cual está dispuesto el sustrato y el cual entrega una segunda tensión con el fin de suministrar al ánodo un potencial eléctrico positivo con relación a la pared de la cámara . En este dispositivo de revestimiento por pulverización iónica, la fracción iónica del material blanco…