CIP-2021 : C23C 14/34 : Pulverización catódica.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.
C23C 14/34 · · Pulverización catódica.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Procedimiento de deposición de capas delgadas de estequiometría controlada sobre sustratos mediante pulverización catódica reactiva a ángulo rasante.
(06/07/2017). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: RODRIGUEZ GONZALEZ-ELIPE,AGUSTIN, ESCOBAR GALINDO,Ramón, PALMERO ACEBEDO,Alberto, ÁLVAREZ MOLINA,Rafael, ALCON CAMAS,Mercedes, GUILLÉN RODRÍGUEZ,María Elena, RICO GAVIRA,Victor Joaquin, LOPEZ SANTOS,Maria Del Carmen.
Procedimiento de deposición de capas delgadas de estequiometría controlada sobre sustratos mediante pulverización catódica reactiva a ángulo rasante.
El objeto de la invención se refiere a un procedimiento para la deposición de capas finas sobre un sustrato, basada en la técnica de pulverización catódica reactiva, con el objetivo de controlar la composición química del material depositado y, en paralelo, aumentar la tasa de deposición respecto a la que se obtendría mediante este procedimiento en su modo convencional de uso.
Se consigue evitar el envenenamiento del cátodo mediante la determinación del valor crítico de flujo de gas reactivo en el reactor a partir del cual se produce dicho fenómeno y disponiendo el sustrato en una configuración geométrica respecto del cátodo de forma que las especies pulverizadas de este lleguen a la superficie del sustrato según un ángulo rasante promedio, medido respecto de esta, con valores comprendidos entre 0º y 85º.
PDF original: ES-2622461_R1.pdf
PDF original: ES-2622461_B1.pdf
PDF original: ES-2622461_A2.pdf
MÉTODO DE NANOMODULACIÓN DE PELÍCULAS METÁLICAS MEDIANTE PULVERIZACIÓN CATÓDICA DE METALES EN ALTO VACÍO Y PLANTILLAS.
(18/05/2017). Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE SANTIAGO DE CHILE. Inventor/es: ESCRIG MURUA,Juan Eduardo, PALMA SOLORZA,Juan Luis, CASAGRANDE DENARDIN,Juliano.
La presente invención se refiere a un método de nanomodulación de películas metálicas mediante pulverización catódica de metales en alto vacío y plantillas de Al anodizado. Como ejemplo de uso de estas películas metálicas nanomoduladas, se analiza la síntesis u obtención de una película magnéticamente blanda mediante pulverización catódica - que puede ser usada como sensor de campo magnético, y una plantilla nanomodulada metálica.
Sustratos recubiertos con mezclas de materiales de titanio y aluminio.
(03/05/2017) Un artículo recubierto , que comprende:
un sustrato ;
un recubrimiento funcional depositado sobre al menos una parte del sustrato ,
en el que el recubrimiento funcional comprende:
una capa base ;
una primera capa metálica reflectante de infrarrojos sobre la capa base ;
una primera capa de imprimación sobre la primera capa metálica reflectante de infrarrojos ;
una primera capa dieléctrica sobre la primera capa de imprimación ;
una segunda capa metálica reflectante de infrarrojos sobre la capa dieléctrica ;
una segunda capa de imprimación sobre la segunda capa…
Artículos recubiertos de un recubrimiento protector.
(12/04/2017) Un artículo, que comprende:
un sustrato de vidrio;
un recubrimiento funcional que tiene una emisividad inferior a 0,4 depositado sobre al menos una parte del sustrato;
y
un recubrimiento protector depositado sobre al menos una parte del recubrimiento funcional, en el que el recubrimiento funcional y el recubrimiento protector definen una pila de recubrimiento, en el que el recubrimiento protector proporciona a la pila de recubrimiento una emisividad que se incrementa entre el 10 y el 3000 % comparada con la emisividad del recubrimiento funcional solo, en el que el recubrimiento protector tiene un espesor en el intervalo de más de 10 nm (100 Angstrom) a menos de o igual a 10 micrómetros y el recubrimiento…
Ánodo para revestimiento por pulverización.
(29/03/2017) Un dispositivo de pulverización para usarlo en la pulverización de un material, que comprende un ánodo y una cámara de revestimiento que contiene un cátodo y un sustrato que debe ser revestido con el material de pulverización,
caracterizado por que el ánodo define un recipiente que tiene un cuerpo interior eléctricamente conductor, un cuerpo exterior, una cavidad anódica dentro del cuerpo interior eléctricamente conductor y una apertura en un extremo del cuerpo interior eléctricamente conductor para comunicar con la cámara de revestimiento para permitir que las partículas cargadas fluyan entre el cuerpo interior eléctricamente conductor y el cátodo en la cámara de revestimiento,…
Absorbente solar selectivo basado en un material compuesto de nitruro doble y proceso para su preparación.
(22/03/2017). Solicitante/s: Agenzia Nazionale Per Le Nuove Tecnologie, L'Energia E Lo Sviluppo Economico Sostenibile (ENEA). Inventor/es: ANTONAIA, ALESSANDRO, ESPOSITO, SALVATORE, ADDONIZIO,MARIA LUISA, GUGLIELMO,ANTONIO.
Un material compuesto de nitruro doble ópticamente selectivo, que consiste esencialmente en una matriz cerámica y un componente que tiene un comportamiento metálico nanodisperso en la misma, caracterizado por que dicha matriz cerámica es un nitruro de aluminio o de silicio en el que la relación entre Al o Si y N es subestequiométrica y
dicho componente que tiene un comportamiento metálico es un nitruro de tipo MyNz, en el que M es un metal de transición y la relación entre M y N es estequiométrica y de tal manera que esencialmente esté presente la fase M2N.
PDF original: ES-2629288_T3.pdf
Aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica.
(14/12/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende:
- una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta;
- un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y
- un sistema de deposición física de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición física de vapor incluye al menos un blanco de material de recubrimiento que comprende una fuente del material de recubrimiento resistente al desgaste que va…
Fuente de revestimiento con un objetivo adaptado en un dispositivo de refrigeración indirecta.
(30/11/2016). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED, HAGMANN,JUERG.
Fuente de revestimiento compuesta de un objetivo con parte delantera y trasera, cuya parte trasera está dispuesta en una pared del soporte de fuente , en el que está integrada una refrigeración indirecta con canal de refrigeración , en donde el objetivo está fijado al soporte de fuente a través de las medidas apropiadas y la pared del soporte de fuente en la que está dispuesto el objetivo , está configurada en forma de membrana flexible , la cual separa el canal de refrigeración de la parte trasera del objetivo , caracterizada por que en la parte posterior del objetivo y/o en aquella pared del soporte de fuentes, en la que está dispuesto el objetivo, se ha pegado una hoja de carbono autoadhesiva.
PDF original: ES-2617518_T3.pdf
Cúpula decorativa para aplicaciones en vehículos automóviles.
(02/11/2016). Solicitante/s: ZANINI AUTO GRUP, S.A.. Inventor/es: MAYER PUJADAS,AUGUSTO.
Una cúpula decorativa que comprende un sustrato formado por una resina radiotransmisora, teniendo el sustrato una cara proximal y una cara distal, y una capa de decoración aplicada a la cara proximal, caracterizada porque la capa de decoración está compuesta por boro, silicio, germanio, arsénico, antimonio y / o telurio, o una aleación compuesta por boro, silicio, germanio, arsénico, antimonio o telurio, depositada sobre la superficie de la cara proximal.
PDF original: ES-2612852_T3.pdf
GUÍA PARA CORREDERA DE SOPORTE DE CABEZAL DE IMPRESIÓN DE IMPRESORA, PROCEDIMIENTO DE OBTENCIÓN DE UNA GUÍA DE IMPRESORA E INSTALACIÓN PARA LA OBTENCIÓN DE ESTA GUÍA.
(27/10/2016). Solicitante/s: ADVANCED NANOTECHNOLOGIES S.L. Inventor/es: BERTRAN SERRA,ENRIC, AMADE ROVIRA,Roger.
Guía para corredera de soporte de cabezal de impresión de impresora , siendo la guía una barra alargada por cuya superficie está destinada a deslizarse la corredera , estando la barra tratada superficialmente de modo que presenta una determinada rugosidad máxima (¿t
M), que comprende un recubrimiento de carbono amorfo hidrogenado sobre su superficie, siendo el espesor (
t
0
) del recubrimiento superior a la rugosidad máxima (¿t
M). La invención también se refiere a un procedimiento de obtención de la guía y a una instalación para la fabricación de la guía.
ELEMENTO FUNGIBLE PARA BOMBARDEO CON PARTÍCULAS, CONJUNTO DE DISPOSITIVO DE BOMBARDEO CON PARTÍCULAS Y ELEMENTO FUNGIBLE Y PROCEDIMIENTO DE DETERMINACIÓN DEL PATRÓN DE GRABADO POR BOMBARDEO DE PARTÍCULAS DE UN BLANCO.
(06/10/2016) Elemento fungible provisto de un blanco para bombardeo con partículas destinado a realizar deposición física de capa delgada en fase vapor sobre un sustrato , comprendiendo el elemento fungible una capa de base sobre la que está depositado el blanco , estando el blanco destinado a ser pulverizado por el bombardeo con partículas, en el que el blanco está constituido por al menos una capa en la que se define una pluralidad de zonas (xi, yi) con espesor promedio (ej(xi, yi)) variable entre las zonas (xi, yi), estando los espesores promedio (ej(xi, yi)) de cada zona (xi, yi) dimensionados para que, en unas condiciones de bombardeo determinadas, todas las zonas (xi, yi)…
Elemento fungible para bombardeo con partículas y procedimiento de determinación de grabado de dicho elemento.
(30/09/2016) Elemento fungible para bombardeo con partículas y procedimiento de determinación de grabado de dicho elemento.
Elemento fungible provisto de un blanco para bombardeo con partículas destinado a realizar deposición física de capa delgada en fase vapor sobre un sustrato , comprendiendo el elemento fungible una capa de base sobre la que está depositado el blanco , estando el blanco destinado a ser pulverizado por el bombardeo con partículas, en el que el blanco está constituido por al menos una capa en la que se define una pluralidad de zonas (xi, yi) con espesor promedio (ei(xi, yi))…
Procedimiento para la producción de un revestimiento ópticamente selectivo de un sustrato para dispositivos solares receptores de alta temperatura y material relativo obtenido.
(13/07/2016). Solicitante/s: ENI S.P.A.. Inventor/es: SPANO\', GUIDO, LAZZARI,CARLA, MARELLA,MARCELLO.
Un procedimiento para la producción de un revestimiento ópticamente selectivo de un sustrato receptor de material adecuado para receptores solares particularmente adecuados para funcionar a altas temperaturas que comprende:
- deposición de una capa reflectante de radiación infrarroja que consiste en un metal de alto punto de fusión sobre dicho sustrato receptor caliente;
- recocido bajo las mismas condiciones de temperatura y presión que en la deposición de la capa reflectante;
- deposición sobre el metal de alto punto de fusión de una o más capas de materiales compuestos de cerámicametal (CERMET), en donde el metal es W y la matriz cerámica es YPSZ ("Zirconia Parcialmente Estabilizada con Itria");
- deposición sobre el cermet de una capa anti-reflexión;
- recocido bajo las mismas condiciones de temperatura y presión que en las deposiciones de las capas de cermet y anti-reflexión.
PDF original: ES-2594331_T3.pdf
Un recubrimiento que comprende estroncio para implantes corporales.
(18/05/2016). Solicitante/s: Elos Medtech Pinol A/S. Inventor/es: NIELSEN, LARS PLETH, THOMSEN,CHRISTIAN SCHÄRFE, FOSS,MORTEN, ANDERSEN,OLE ZOFFMANN, SILLASSEN,MICHAEL BRAMMER, BØTTIGER,JØRGEN, ANDERSEN,INGE HALD, ALMTOFT,KLAUS PAGH.
Un recubrimiento para un implante que comprende:
una capa que comprende óxido de estroncio y óxido de titanio, donde el contenido de Sr de dicho recubrimiento está comprendido entre un 5 y un 25%at. y el grosor de dicho recubrimiento está comprendido entre 200 nm y 3000 nm, y dicho recubrimiento comprende poros donde al menos un 50% de dichos poros tienen diámetros comprendidos entre 0.1 y 50 nm, y de este modo se estimula la integración ósea y la curación en las proximidades del implante.
PDF original: ES-2587734_T3.pdf
Procedimiento para la producción de capas de TIXSI1-xN.
(11/05/2016). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED, KURAPOV,DENIS.
Método para recubrir una pieza de trabajo con un recubrimiento que comprende por lo menos una capa de TixSi1-x N, en la cual x es ≤ 0,85 y en cuyo caso las capas de TixSi1-xN contienen nanocristales y los nanocristales contenidos tienen un tamaño medio de grano de no más de 15 nm, en donde x es la concentración Ti, que se expresa en % atómico, si sólo se toman los elementos metálicos en consideración, caracterizado por que, para la preparación de la capa de TixSi1-xN, se utiliza un método de pulverización catódica en el que por lo menos un objetivo de TixSi1-xN se utiliza como un objetivo de pulverización catódica; x ≤ 0,85 en % atómico; en la superficie del objetivo del objetivo de pulverización catódica, llega a densidades de corriente de por lo menos 0,2 A / cm2, preferiblemente superiores a 0,2 A/ cm210.
PDF original: ES-2630316_T3.pdf
Revestimiento solar selectivo mejorado de alta estabilidad térmica y proceso para su preparación.
(04/05/2016). Solicitante/s: COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH. Inventor/es: BARSHILIA,HARISH CHANDRA.
Revestimiento solar selectivo mejorado de alta estabilidad térmica, que comprende apilamientos tándem de capas consistentes en una capa intermedia de titanio Ti o cromo seguida por una primera capa absorbedora que comprende aluminio-nitruro de titanio AlTiN, una segunda capa absorbedora que comprende aluminio-oxinitruro de titanio AlTiON depositada sobre la primera capa absorbedora y una tercera capa antirreflectante que comprende aluminio-óxido de titanio AlTiO depositada sobre la segunda capa absorbedora.
PDF original: ES-2583766_T3.pdf
Procedimiento para la fabricación de capas decorativas de material duro por HIPIMS.
(04/05/2016). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED.
Procedimiento para el revestimiento al menos de zonas parciales de la superficie de un sustrato o para la fabricación de sustratos con una zona de superficie con una capa decorativa de material duro en una cámara de revestimiento, en el que para la fabricación de la capa de material duro se aplica un proceso reactivo HIPIMS, en el que se utiliza al menos un gas reactivo, y se usa al menos un objetivo de un material que puede reaccionar con el gas reactivo durante la realización del proceso HIPIMS, de manera que de este modo se produce un color de capa predeterminado, en el que el proceso HIPIMS se realiza usando pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energético referido a la superficie objetivo de al menos 0,2 Joule/cm2 por pulso de potencia y/o por secuencia de pulsos de potencia , caracterizado por que el objetivo comprende titanio o titanio y aluminio o zirconio.
PDF original: ES-2636867_T3.pdf
Película protectora, miembro reflectante, y procedimiento de producción para película protectora.
(23/03/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED. Inventor/es: OKADA, NAOKO, AOMINE,NOBUTAKA, HANEKAWA,HIROSHI, KAWAHARA,HIROTOMO.
Película protectora situada sobre una parte superior de una película metálica para proteger la película metálica que está situada sobre un sustrato de vidrio, comprendiendo la película protectora:
una película de sílice;
en la que la película de sílice tiene un coeficiente de extinción "k" menor o igual de 1 x 10-4 y un índice de refracción "n" menor o igual de 1,466 a una longitud de onda de 632 nm, y un contenido de carbono menor o igual de un 3 % atómico.
PDF original: ES-2658046_T3.pdf
RECUBRIMIENTOS DE METAL NEGRO PLASMÓNICO FABRICADO MEDIANTE DEPOSICIÓN POR PULVERIZACIÓN CATÓDICA A INCIDENCIA RASANTE.
(05/02/2016). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: GARCÍA MARTÍN,José Miguel, PALMERO ACEBEDO,Alberto, ÁLVAREZ MOLINA,Rafael.
Recubrimientos de metal negro plasmónico fabricado mediante deposición por pulverización catódica a incidencia rasante.
La presente invención se refiere a materiales recubiertos donde el recubrimiento comprende nanoestructuras de un metal seleccionado de oro, plata, paladio, platino, rutenio, rodio, osmio, iridio, cobre, cromo y cualquiera de sus combinaciones, caracterizado porque más del 45% de las nanoestructuras tienen un diámetro inferior 10 a 50 nm, y la distribución de los diámetros de las nanoestructuras tiene una desviación estándar superior a 5 nm en el intervalo de 0 a 50 nm.
PDF original: ES-2558625_B1.pdf
PDF original: ES-2558625_A1.pdf
(11/01/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: PLANSEE SE. Inventor/es: LINKE, CHRISTIAN, KOCK, WOLFGANG, DR., WOLF, HARTMUT, ABENTHUNG,Peter, DRONHOFER,ANDRÉ, WILL,TOBIAS.
Blanco tubular de metal refractario o una aleación de metal refractario con un contenido en metal refractario ≥ 50 % atómico que comprende al menos una sección tubular X con al menos por zonas una densidad relativa RDx y al menos una sección tubular Y con al menos por zonas una densidad relativa RDy, en el que al menos una sección tubular X presenta al menos por zonas un diámetro exterior mayor que al menos por zonas una sección tubular Y ,
caracterizado por que**Fórmula** ≥ 0,001.
PDF original: ES-2555876_T3.pdf
RECUBRIMIENTOS DE METAL NEGRO PLASMÓNICO FABRICADO MEDIANTE DEPOSICIÓN POR PULVERIZACIÓN CATÓDICA A INCIDENCIA RASANTE.
(07/01/2016). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: GARCÍA MARTÍN,José Miguel, PALMERO ACEBEDO,Alberto, ÁLVAREZ MOLINA,Rafael.
La presente invención se refiere a materiales recubiertos donde el recubrimiento comprende nanoestructuras de un metal seleccionado de oro, plata, paladio, platino, rutenio, rodio, osmio, iridio, cobre, cromo y cualquiera de sus combinaciones, caracterizado porque más del 45% de las nanoestructuras tienen un diámetro inferior a 50 nm, y la distribución de los diámetros de las nanoestructuras tiene una desviación estándar superior a 5 nm en el intervalo de 0 a 50 nm.
Método para deposición de una capa sobre un filo de cuchilla de afeitar y cuchilla de afeitar.
(06/01/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: BIC VIOLEX S.A.. Inventor/es: PAPACHRISTOS,VASSILIS, KAROUSSIS,MICHALIS, PISSIMISSIS,DIMITRIS.
Un método para la deposición de una capa sobre un filo de cuchilla de afeitar de una cuchilla de afeitar, teniendo el filo de la cuchilla dos lados que convergen hacia una punta, comprendiendo dicha capa al menos dos componentes, en un recinto que comprende al menos un primer y segundo blancos de pulverización catódica, comprendiendo dichos blancos de pulverización catódica principalmente uno respectivo de dichos componentes a ser depositado en dicho filo y estando adaptados, durante la operación, para liberar dicho componente en el recinto, comprendiendo dicho método una etapa (a) en la que, con la operación de ambos blancos, la cuchilla de afeitar se mueve con relación a dicho primer y segundo blancos para pasar alternativamente en la proximidad de dicho blanco, con su punta dirigida hacia el blanco.
PDF original: ES-2565165_T3.pdf
Depósito en fase de vapor de recubrimiento por inmersión en un plasma de arco a baja presión y tratamiento iónico.
(30/12/2015) Un sistema de recubrimiento que comprende:
una cámara de vacío; y
un montaje de recubrimiento que incluye:
una fuente de vapor que tiene una cara de objetivo con una dimensión larga de fuente de vapor y una dimensión corta de fuente de vapor;
un soporte de sustrato para sostener sustratos que van a revestirse de modo que los sustratos estén posicionados en frente de la fuente de vapor, y el soporte de sustrato tiene una dimensión de soporte lineal; un ánodo remoto eléctricamente acoplado al objetivo catódico, y el ánodo remoto tiene una dimensión de ánodo remoto lineal, y la fuente de vapor tiene una dimensión de fuente de vapor lineal;
un montaje de cámara catódica que incluye un objetivo catódico,…
Blanco de pulverización catódica de óxido de Sn Zn (Ga).
(16/12/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: Soleras Advanced Coatings bvba. Inventor/es: DE BOSSCHER, WILMERT, OBERSTE BERGHAUS,JÖRG.
Un blanco de pulverización catódica que tiene un recubrimiento de acabado de una sola pieza de una longitud de al menos 80 cm que comprende una mezcla de óxidos de cinc, estaño y opcionalmente galio, caracterizado por que la mezcla de óxidos comprende óxido de estannato de cinc y la proporción de estaño en dicha mezcla de óxidos respecto a la cantidad total de galio, cinc y estaño es de 15 a 55% en át.
PDF original: ES-2615933_T3.pdf
Guía para corredera de soporte de cabezal de impresión de impresora, procedimiento de obtención de una guía de impresora e instalación para la obtención de esta guía.
(25/11/2015) Guía para corredera de soporte de cabezal de impresión de impresora, procedimiento de obtención de una guía de impresora e instalación para la obtención de esta guía.
Guía para corredera de soporte de cabezal de impresión de impresora , siendo la guía una barra alargada por cuya superficie está destinada a deslizarse la corredera , estando la barra tratada superficialmente de modo que presenta una determinada rugosidad máxima (ΔtM), que comprende un recubrimiento de carbono amorfo hidrogenado sobre su superficie, siendo el espesor (to) del recubrimiento superior a la rugosidad máxima (ΔtM). La invención…
Artículos con revestimiento de baja emisividad termotratables.
(22/04/2015) Un artículo revestido que comprende:
un revestimiento proporcionado sobre un sustrato de vidrio , comprendiendo dicho revestimiento desde el sustrato de vidrio hacia fuera:
a) al menos una capa dieléctrica ;
b) una primera capa de contacto ;
c) una primera capa reflectante de IR ;
d) una segunda capa de contacto , dicha primera capa reflectante de IR estando en contacto con cada una de dicha primera y segunda capa de contacto;
e) al menos una capa dieléctrica ;
f) una tercera capa de contacto ;
g) una segunda capa reflectante de IR ;
h) una cuarta capa de contacto , dicha segunda capa reflectante de IR…
Procedimiento para el suministro de impulsos secuenciales de potencia.
(22/04/2015) Procedimiento para el suministro de impulsos de potencia con intervalo escalable del impulso de potencia para el funcionamiento de un cátodo de atomización-PVD, comprendiendo el cátodo de atomización-PVD un primer cátodo parcial y un segundo cátodo parcial, en el que para los cátodos parciales está predeterminada una impulsión de potencia media máxima y en el que la duración de los intervalos del impulso de potencia están predeterminados y el procedimiento comprende las siguientes etapas:
a) suministrar un generador con cesión de potencia predeterminada, con preferencia constante al menos después del arranque y después de la expiración de un intervalo de formación de la potencia,
b) conexión del generador,
c) conexión del primer cátodo parcial en el generador, de manera que el primer cátodo parcial es impulsado con potencia desde el…
RECUBRIMIENTO BIOCOMPATIBLE TIPO MULTICAPA-PELICULA DELGADA COMO TRATAMIENTO SUPERFICIAL DE SUSTRATOS BIOMÉDICOS Y PROCESO DE FABRICACIÓN DEL MISMO.
(11/12/2014). Ver ilustración. Solicitante/s: UNIVERSIDAD DEL VALLE. Inventor/es: SEQUEDA OSORIO,Federico, GUTIERREZ MONTES,Jose Oscar, RUDEN MUÑOZ,Alexander.
La presente invención divulga un proceso para la fabricación de un recubrimiento multicapa-película delgada empleado en el tratamiento de sustratos biomédicos y un recubrimiento en forma de multicapa-película delgada (S/TiN/Ti/TiZr) para el tratamiento de sustratos biomédicos empleados en implantes quirúrgicos.
Artículos recubiertos termotratables de baja emisividad calorífica y procedimientos de realización de los mismos.
(27/08/2014) Producto recubierto que comprende: un sistema de capas soportado por un sustrato de cristal, comprendiendo el sistema de capas desde el sustrato hacia el exterior: una capa de nitruro de silicio SixNy enriquecido con Si en la que x/y se encuentra comprendida entre 0, 76 y 1, 5 en por lo menos una parte de la capa; una primera capa de contacto; una capa reflectora de IR.
Procedimiento para la producción de capas de óxidos metálicos de estructura predeterminada mediante vaporización por arco.
(07/05/2014) Procedimiento para la producción de capas, en particular capas estables a altas temperaturas, por medio de vaporización por arco comprendiendo óxidos ternarios y/o mayores de componentes metálicos o semimetálicos, caracterizado porque una síntesis selectiva de estructuras cristalinas deseadas de la capa se consigue determinando la temperatura de formación necesaria para la síntesis de la estructura cristalina deseada y en base al diagrama de fases determina la selección de la composición de los blancos de aleación binarios (o mayores) de tal manera que el diagrama de fases de los componentes presente en la composición seleccionada la transición de…
Artículo revestido que comprende una capa dieléctrica depositada por medio de metalizado por bombardeo atómico.
(02/04/2014) Un artículo revestido que comprende
(A) un sustrato
(B) una capa dieléctrica depositada, por medio de metalizado por bombardeo atómico, sobre el sustrato que comprende:
(i) una primera película dieléctrica seleccionada entre óxido de cinc, óxido de silicio, óxido de estaño, nitruro de silicio, oxinitruro de silicio y estannato de cinc, que tiene cinc en un porcentaje en peso igual y mayor de 10 e igual y menor de 90 y estaño en un porcentaje en peso igual y menor de 90 e igual y mayor de 10, depositada sobre el sustrato (A) y
(ii) una segunda película de mejora eléctrica depositada sobre la primera película dieléctrica (i) que es una segunda película de estannato de cinc en donde la segunda película de estannato de cinc tiene cinc dentro del intervalo del 60 al 90 por ciento en peso y estaño en el intervalo del…
(26/03/2014) Objetivo tubular con
1.1 un tubo soporte cilíndrico,
1.2 un objetivo cilíndrico dividido en como minimo un segmento , que está situado sobre el tubo soporte ,
1.3 una capa de unión que está prevista entre el objetivo y el tubo soporte ,
caracterizado por que el objetivo presenta en paralelo y/u oblicuo a su eje de giro como minimo una ranura .
