CIP-2021 : C23C 16/02 : Pretratamiento del material a revestir (C23C 16/04 tiene prioridad).
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
Notas[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).
C23C 16/02 · Pretratamiento del material a revestir (C23C 16/04 tiene prioridad).
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL DECAPADO DE UN SUBSTRATO METALICO.
(01/01/2001). Solicitante/s: RECHERCHE ET DEVELOPPEMENT DU GROUPE COCKERILL SAMBRE, EN ABREGE: RD-CS. Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE, WEYMEERSCH, ALAIN, LUCAS, STEPHANE.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL DECAPADO DE UN SUSTRATO METALICO QUE COSISTE EN CREAR CERCA DE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO A LIMPIAR UN PLASMA EN UNA MEZCLA DE HIDROGENO, DE COMPUESTOS HIDROGENADOS Y/O DE UN GAS INERTE, TAL COMO ARGON, DE MANERA A GENERAR RADICALES Y/O IONES, ESTANDO ESTE SUSTRATO POLARIZADO NEGATIVAMENTE RESPECTO A UN ANODO DISPUESTO ENFRENTE DE LA SUPERFICIE A DECAPAR QUE PERMITE ASI A LOS RADICALES Y/O IONES ACTUAR SOBRE ESTA ULTIMA.
ELEMENTO DE OBTURACION, ESPECIALMENTE PARA DISPOSITIVOS DE CIERRE Y REGULACION, Y PROCEDIMIENTO PARA SU FABRICACION.
(01/07/2000). Solicitante/s: FRIEDRICH GROHE AG. Inventor/es: WAGNER, FRIEDRICH, KLEINHANS,WERNER, BECHTE, VEIT.
SE TRATA DE UN ELEMENTO DE SELLADO, EN PARTICULAR PARA ORGANOS DE CIERRE O DE REGULACION. EL ELEMENTO DE SELLADO CONSTA DE UN ELEMENTO DE CIERRE CON FORMA DE PLACA, PISTON O DE ESFERA HECHO DE UN MATERIAL METALICO O NO METALICO. POR EJEMPLO SE TRATA DE UN MATERIAL DE CERAMICA DE AL{SUB,2}O{SUB,3}. MEDIANTE UN PROCEDIMIENTO DE CVD DE PLASMA SE DEPOSITA SOBRE UNA SUPERFICIE DE TRABAJO DEL CUERPO DE CIERRE UNA CAPA DE 1 A 2 {MI}M DE ESPESOR DE UN MATERIAL DURO QUE LLEVA SILICIO Y CARBONO, ESTA CAPA LLEVA UNA PARTE ADHESIVA Y UNA PARTE DESLIZANTE, SIENDO MAYOR EL CONTENIDO EN SILICIO EN LA PARTE ADHESIVA QUE EN LA PARTE DESLIZANTE. LA PARTE ADHESIVA TIENE TALES PROPIEDADES DUCTILES Y TIENE TAL GROSOR, QUE PUEDE ABSORBER LA TENSION INTERNA DE LA PARTE DESLIZANTE QUE ES FRAGIL Y DURA, SIN PERDER CAPACIDAD ADHESIVA EN LA SUPERFICIE DE TRABAJO DEL CUERPO DE CIERRE; LA PARTE DE CAPA DESLIZANTE ES MAS FINA QUE LA PARTE DE CAPA ADHESIVA.
SUSTRATO DE METAL DURO CON UNA CAPA DE DIAMANTE DE ALTA ADHERENCIA.
(01/03/2000). Solicitante/s: PLANSEE TIZIT GESELLSCHAFT M.B.H.. Inventor/es: SCHINTLMEISTER, WILFRIED, DR., FEISTRITZER, STEFAN, DIPL.-ING., KANZ, JOHANN.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO MEJORADO PARA LA MEJORA DE ADHERENCIA ENTRE UN SUBSTRATO METALICO ENDURECIDO Y UNA CAPA DE DIAMANTE DEPOSITADA SOBRE ELLA MEDIANTE LA ELIMINACION DE LA FASE DE ENLACE DE METAL ENDURECIDO DE LA SUPERFICIE DEL SUBSTRATO ANTES DEL RECUBRIMIENTO CON DIAMANTE. EL PROCESO DE LA INVENCION UTILIZA UN EQUIPO DEL TIPO DE APLICACION CVD DE CAPAS DE DIAMANTE COMO SE UTILIZA DE FORMA HABITUAL EN CONFIGURACIONES DISTINTAS. CON ELLO SE CAMBIAN LOS PARAMETROS DEL PROCESO EN CONTRA DE LOS RECUBRIMIENTO DE LOS DIAMANTES HABITUALES, DE FORMA QUE EL METAL DE ENLACE SE EVAPORA A PARTIR DE UNA ZONA DEL BORDE ESTRECHA DE LA SUPERFICIE DEL SUBSTRATO, Y CIERTAMENTE EN UTILIZACION DEL CALOR DE REACCION A PARTIR DE LA RECOMBINACION DEL GAS DE HIDROGENO DOSIFICADO DE FORMA INMEDIATA EN LA SUPERFICIE DEL SUBSTRATO.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL REVESTIMIENTO EN CONTINUO DE UN MATERIAL METALICO.
(01/09/1999). Solicitante/s: SOLLAC S.A.. Inventor/es: SCHUSTER, FREDERIC, PIET, GERARD.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO DE REVESTIMIENTO CONTINUO POR UNA DEPOSICION DE POLIMERO DE UN MATERIAL METALICO EN MOVIMIENTO EN EL INTERIOR DE UN RECINTO A PRESION REDUCIDA SEGUN EL CUAL, EN EL INTERIOR DE DICHO RECINTO, SE INYECTA EN ESTADO GASEOSO EL MONOMERO DE DICHO POLIMERO Y SE CREAN LAS CONDICIONES DE FORMACION DE UN PLASMA FRIO DE MANERA A PROVOCAR UN REVESTIMIENTO DE DICHO MATERIAL POR DICHA DEPOSICION DE POLIMERO, CARACTERIZADO EN QUE, EN AL MENOS UNA REGION DE DICHO RECINTO, SE HACE ATRAVESAR A DICHO MATERIAL UN CAMPO MAGNETICO, DE MANERA A PROVOCAR EN DICHA REGION UNA VARIACION DE LA COMPOSICION DE DICHO DEPOSITO DE POLIMERO. LA INVENCION SE REFIERE TAMBIEN A UN DISPOSITIVO PARA LA IMPLEMENTACION DE ESTE PROCESO, Y A UN PRODUCTO ASI OBTENIDO.
METALIZACION DE TUNGSTENO DE DIAMANTE CVD.
(16/07/1998). Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Inventor/es: ZARNOCH, KENNETH PAUL, IACOVANGELO, CHARLES DOMINIC.
SE DESCRIBE UN PROCESO PARA MEJORAR SIGNIFICANTEMENTE LA ADHESION DE UN METAL REFRACTARIO DEPOSITADO SOBRE UN DIAMANTE. EL PROCESO IMPLICA LA DEPOSICION DE UN REVESTIMIENTO DE METAL DELGADO INICIAL A TRAVES DE UNA DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO A BAJA PRESION SOBRE EL DIAMANTE, TRATAMIENTO DEL CALOR EN UN MEDIO NO OXIDANTE , Y CONTINUANDO LA DEPOSICION DE EL REVESTIMIENTO DE METAL INICIAL HASTA QUE SE CONSIGUE EL GROSOR DESEADO. LAMINAS DE DIAMANTE QUE HAN EXPERIMENTADO EL PROCESO DE LA INVENCION DONDE SE DEPOSITAN 15 MICROMETROS DE TUNGSTENO, MUESTRAN VALORES ADHESIVOS DE TUNGSTENO EN EXCESO DE 10.000 POUNDS POR PULGADA CUADRADA.
ARTICULOS CONFORMADOS REVESTIDOS DE DIAMANTE Y FABRICACION DE LOS MISMOS.
(16/05/1998). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: SHAH, SYED ISMAT ULLAH.
SE DESCRIBE UN PROCESO PARA DEPOSITAR DIAMANTE EN UN ARTICULO FORMADO POR DEPOSICION DE FASE DE VAPOR QUIMICA, QUE INCLUYE COLOCAR EL ARTICULO FORMADO EN UNA SUSPENSION DE UN POLVO ABRASIVO (POR EJEMPLO, POLVO DE DIAMANTE) EN UN LIQUIDO (EL MATERIAL DE DICHO POLVO TENIENDO UNA DUREZA MAS GRANDE QUE LA DUREZA DEL MATERIAL DEL ARTICULO FORMADO) AGITANDO LA SUSPENSION QUE CONTIENE EL ARTICULO FORMADO DURANTE UN TIEMPO SUFICIENTE PARA LA SUPERFICIE DEL ARTICULO FORMADO A SER ABRADIDO, QUITANDO EL ARTICULO FORMADO DE LA SUSPENSION Y SECANDOLO, Y LUEGO REALIZAR LA DEPOSICION DE FASE DE VAPOR QUIMICA DEL DIAMANTE. TAMBIEN SE DESCRIBEN LOS ARTICULOS FORMADOS CUBIERTOS DE DIAMANTE (POR EJEMPLO, FIBRAS DE GRAFITO CUBIERTAS DE DIAMANTE QUE TIENE DIAMETRO DE FIBRA MENOR QUE 100 MICRONES).
PROCEDIMIENTO PARA LA ELABORACION DE UNA CAPA DE GRADIENTE.
(16/03/1998). Solicitante/s: SCHOTT GLAS CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS SCHOTT GLAS. Inventor/es: OTTO, JURGEN, SEGNER, JOHANNES, DR., PAQUET, VOLKER.
LA INVENCION DE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO DE PLASMA CVD PARA ELABORACION DE CAPA DE GRADIENTE, DONDE EL GRADIENTE DE CAPA SE GENERA EN UNA DIRECCION DE CRECIMIENTO DE CAPA MEDIANTE MODIFICACION DE AL MENOS UN PARAMETRO DE POTENCIA DE PLACA DURANTE EL PROCESO DE RECUBRIMIENTO. DE ACUERDO CON LA INVENCION SE GENERAN CAPAS DE GRADIENTES DELGADAS CON ALTA DISOLUCION LOCALIZADA, QUE SE GUIAN DE MANERA PULSADA EN LA POTENCIA DE PLASMA Y EL GRADIENTE DE CAPA SE AJUSTA MEDIANTE MODIFICACION DE LOS PARAMETROS DE POTENCIA DE PLASMA SEGUN LA ALTURA DE IMPULSO, DURACION DE IMPULSO Y/O PAUSA DE IMPULSO.
PROCEDIMIENTO PARA EL PRETRATAMIENTO DE SUPERFICIES DE COMPONENTES PLASTICOS.
(01/02/1998). Solicitante/s: BAYER AG. Inventor/es: SOMMER, KLAUS, BIER, PETER, ELSCHNER, ANDREAS, THURM, SIEGFRIED, KOWITZ, MANFRED, SANDQUIST, AXEL.
PARA MEJORAR LA ADHESION DE RECUBRIMIENTO, EN PARTICULAR RECUBRIMIENTOS METALICOS, A SUPERFICIES DE COMPONENTES PLASTICOS, ESTOS ULTIMOS SON TRATADOS PREVIAMENTE EN PLASMA DE BAJA PRESION CON UN PROCESO DE GAS CONTENIENDO AZUFRE HEXAFLORURO (SF6), QUE ESTA SUSTANCIALMENTE LIBRE DE OXIGENO, MANTENIENDOSE LA SUPERFICIE PLASTICA LIBRE DE DEPOSITOS DE FLUOR O DE INCLUSIONES DURANTE EL TRATAMIENTO PREVIO.
(01/02/1998). Solicitante/s: ALUSUISSE TECHNOLOGY & MANAGEMENT AG. Inventor/es: GILLICH, VOLKMAR, FUCHS, ROMAN, TEXTOR, MARCUS, SIMON, ERICH.
LOS OBJETOS DE ALUMINIO, QUE SE COMPONEN TOTAL O EN PARTE DE UNA SUPERFICIE INANODICAS, QUE SON APROPIADOS PARA EL CORTE DE CAPAS O SISTEMAS DE CAPAS DE LA FASE GASEOSA, EN ESTA SUPERFICIE INANODICA, CON LO QUE LAS SUPERFICIES INANODICAS DE UN ALUMINIO PURO, CON UN GRADO DE PUREZA IGUAL O MAYOR A 98,3% DE PESO, O UN ALUMINIO LIGERO, DE ESTE ALUMINIO, CON AL MENOS UNO DE LOS ELEMENTOS DE LA SUCESION: SI, MG, MN, CU, ZN O FE Y LAS SUPERFICIES CONTIENEN UNA ASPEREZA DE SUPERFICIE RA IGUAL O MENOR A 1 UM Y LA CAPA O EL SISTEMA DE CAPA ES, UNA CAPA DE REFLEXION ESPECIALMENTE PARA RAYOS EN ZONAS OPTICAS.
MATERIAL DURO CON REVESTIMIENTO DE DIAMANTE Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE ESTE MATERIAL.
(01/12/1997). Solicitante/s: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.. Inventor/es: OMORI, NAOYA ITAMI WORKS OF, KOBAYASHI, MITSUNORI ITAMI WORKS OF, NOMURA, TOSHIO ITAMI WORKS OF.
SE PRESENTA UN MATERIAL DURO DE DIAMANTE OMPONENTE DE BASE ES DE CARBURO, Y UN METODO PARA FABRICAR DICHO MATERIAL. EL MATERIAL SE CARACTERIZA POR DISPONERSE SOBRE LA SUPERFICIE MAS EXTERIOR DE DICHO COMPONENTE DE BASE CON UNA BASE MODIFICADA DE SUPERFICIE QUE NO CONTIENE FASE DE UNION O UNA FASE DE UNION CUYA RELACION COMPOSICIONAL SEA INFERIOR QUE LA DE LA PARTE INTERNA DEL COMPONENTE DE BASE. EL COMPONENTE DE BASE PUEDE CONVERTIRSE EN UN PRODUCTO FINAL CUANDO SE RECUBRE CON DIAMANTE DESPUES DE SUFRIR UN TRATAMIENTO DE SINTERIZACION O MEDIANTE CALOR EN LA SUPERFICIE EXTERIOR DEL MISMO. EL MATERIAL DURO TIENE UNAS EXCELENTES CARACTERISTICAS DE RESISTENCIA AL DESGASTE, UNA EXCELENTE CAPACIDAD DE ADHESION AL COMPONENTE DE BASE, Y DE ESTA FORMA PUEDE USARSE DE FORMA VENTAJOSA PARA VARIAS CLASES DE HERRAMIENTAS, PIEZAS O RUEDAS AMOLADORAS.
HERRAMIENTAS DE CORTE REVESTIDAS CON DIAMANTE CVD, Y METODO DE MANUFACTURA.
(16/10/1997) LA INVENCION PRESENTA UNA PARTE DE HERRAMIENTA REVESTIDA CON DIAMANTE, CON UNA ALTA RESISTENCIA Y EXHIBIENDO UNA EXCELENTE ADHESION DEL DIAMANTE AL SUSTRATO. LOS COMPUESTOS VERDES DEL USUAL CO Y LAS COMPOSICIONES WC SON SOMETIDOS A UNA AGLUTINACION PRIMARIA AL VACIO O EN UNA ATMOSFERA DE GAS INERTE, SEGUIDA POR UNA AGLUTINACION SECUNDARIA AL VACIO O EN UNA ATMOSFERA DE GAS INERTE A UNA PRESION QUE SE ENCUENTRA EN UNA ESCALA DE 10-200 ATMOSFERAS Y A UNA TEMPERATURA ENTRE LA TEMPERATURA DE FUNDICION DEL CO Y 1500 C. LAS SUPERFICIES YA AGLUTINADAS SON SOMETIDAS A UN GRABADO QUIMICO Y A UNA PULIMENTACION FINA EN UN BAÑO ULTRASONICO,…
PROCEDIMIENTO DE REVESTIMIENTO DE UN SUSTRATO DE ACERO UTILIZANDO TECNOLOGIA DE PLASMA A BAJA TEMPERATURA Y UNA IMPRIMACION.
(01/05/1997). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY (A DELAWARE CORPORATION). Inventor/es: ANTONELLI, JOSEPH ALBERT, YANG, DUCK, JOO, YASUDA, HIROTSUGU, LIN, TYAU-JEEN.
ESTA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO DE PLASMA PARA LA PROTECCION CONTRA CORROSION MEJORADA DEL ACERO. EL PROCESO INCLUYE EL PRETRATAMIENTO DE UN CATODO DE SUPERFICIE DE ACERO EN UNA CAMARA AL VACIO QUE CONTIENE ANODOS DE MAGNETRON . EL GAS DE PLASMA SE ALIMENTA A TRAVES DE UNA TUBERIA , TANTO PARA EL PRETRATAMIENTO DEL CATODO DE SUPERFICIE DE ACERO COMO PARA LA DEPOSICION DE UNA PELICULA DELGADA DE ORGANOSILANO, SOBRE LA QUE SE APLICA UN REACTIVO DE REVESTIMIENTO DE IMPRIMACION CON ORGANOSILANO.
PROCESO PARA FORMAR UN DEPOSITO CONTENIENDO SILICO EN LA SUPERFICIE DE UN SUBSTRATO METALICO, PROCESO DE TRATAMIENTO ANTICORROSION, Y SOPORTE POLIMERO METALIZADO.
(16/11/1996). Solicitante/s: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE. Inventor/es: SLOOTMAN, FRANK, BOUARD, PASCAL.
LA INVENCION CONCIERNE A UN PROCESO PARA FORMAR UN DEPOSITO CONTENIENDO SILICIO EN LA SUPERFICIE DE UN SUBSTRATO METALICO SEGUN EL CUAL SE PONE EN MARCHA, CONCOMITANTEMENTE O SUCESIVAMENTE, LAS ETAPAS SIGUIENTES: LA SUMISION DE LA DICHA SUPERFICIE A UNA DESCARGA ELECTRICA CON BARRERA DIELECTRICA; LA EXPOSICION DE LA DICHA SUPERFICIE A UNA ATMOSFERA QUE COMPORTA UN COMPUESTO DE SILICIO EN EL ESTADO GASEOSO, LAS ETAPAS Y SON EFECTUADAS A UNA PRESION SUPERIOR A 10.000 PA. LA INVENCION CONCIERNE IGUALMENTE A UN PROCESO DE TRATAMIENTO ANTICORROSION DE SUBSTRATO METALICO, ASI COMO UN SOPORTE POLIMERO METALIZADO.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA FABRICACION DE CAPAS SOBRE SUPERFICIES DE MATERIALES.
(16/10/1996). Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: JUNG, MICHAEL, GEISLER, MICHAEL, KOTTER-FAULHABER, RUDOLF, WUERZ, SUSANNE.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO Y A UN DISPOSITIVO PARA LA FABRICACION DE CAPAS SOBRE LAS SUPERFICIES DE MATERIALES, EN PARTICULAR DE PIEZAS FORMADAS DE MATERIAL SINTETICO, CON UNA CAPA DE METAL Y OTRA CAPA MAS COMO MINIMO QUE CONTENGA C Y/O O, Y/O SI, EN UNA CAMARA DE VACIO QUE SE ACCIONE COMO UNA INSTALACION CONTINUA O COMO UNA INSTALACION BATCH , SEGUN EL PROCEDIMIENTO DE RECUBRIMIENTO CON CAPAS-PCVD. SOBRE LA SUPERFICIE DE SUBSTRATO SE APLICA, CON ESTE PROCEDIMIENTO, PRIMERO UNA CAPA PREVIA, ES DECIR, UNA CAPA INTERMEDIA , DESPUES LA CAPA DE METAL , Y A CONTINUACION UNA CAPA PROTECTORA BAJO PLASMA AL COMPRIMIR POR DEBAJO DE 5 X 10 ELEVADO -2 MBAR. CON ESTE RECUBRIMIENTO A CAPAS CON TECNICA DE PROCESO EN VACIO, POR EJEMPLO EN SOPORTES DE DATOS ELECTROTECNICOS O EN ESPEJOS DE CARA DELANTERA DE ALUMINIO, SE OBTIENE UNA SUPERFICIE IMPECALBE RESISTENTE AL LAVADO Y AL FREGADO.
METODO DE PLATEADO DEL ACERO.
(16/02/1996). Solicitante/s: DAIDO HOXAN INC.. Inventor/es: YOSHINO, AKIRA, TAHARA, MASAAKI, SENBOKUYA, HARUO, KITANO, KENZO.
PARA FORMAR UN REVESTIMIENTO PLATEADO DE PIEZAS DE ACERO, LAS PIEZAS SON MANTENIDAS EN UNA ATMOSFERA DE GAS DE FLUOR O QUE CONTIENE FLUOR, Y QUE ES CALENTADA PARA DE ESTA MANERA EXTRAER LAS ESCALAS OXIDADAS TALES COMO SIOX, MNOX Y SIMILARES DE LAS CAPAS SUPERFICIALES DE LAS PIEZAS Y FORMAR UNA CAPA DE FLUOR PARA EVITAR LA NUEVA FORMACION UNA ESCALA OXIDADA. LA CAPA DE FLUOR ES FACILMENTE ELIMINADA MEDIANTE LA ACCION DEL FLUJO AÑADIDO AL BAÑO DE PLATEADO O MANTENIENDO LAS PIEZAS FLORADAS DE ACERO EN UNA ATMOSFERA QUE CONTIENE OXIGENO ANTES DE SUMERGIRLAS NUEVAMENTE EN EL BAÑO DE PLATEADO PARA ACTIVAR LA SUPERFICIE DE ACERO. LA SUPERFICIE DE ACERO ACTIVADA ES MEJORADA EN COMPATIBILIDAD CON EL BAÑO PLATEADO Y SIMILARES, Y CONSEGUIR LA FORMACION DE UN REVESTIMIENTO PLATEADO DE BUENA CALIDAD.
REVESTIMIENTO PROTECTOR MULTICAPA PARA SUBSTRATO, PROCESO DE PROTECCION DE SUBSTRATO POR DEPOSITO POR PLASMA DE TAL REVESTIMIENTO, REVESTIMIENTOS OBTENIDOS Y SUS APLICACIONES.
(01/08/1993). Solicitante/s: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE. Inventor/es: COEURET, FRANCOIS, BONET, CLAUDE, GAUTHIER, JEAN-MARIE.
EL PRESENTE INVENTO CONCIERNE UN REVESTIMIENTO PROTECTOR, MULTICAPA PARA SUBSTRATO Y UN PROCESO DE PROTECCION DE SUBSTRATO POR DEPOSITO DE UN REVESTIMIENTO INORGANICO AMORFO CONTINUO Y TRANSPARENTE COMPORTANDO ESENCIALMENTE SILICIO, CARBONO, NITROGENO, OXIGENO E HIDROGENO CON LA AYUDA DE UN PLASMA. CONCIERNE IGUALMENTE LA APLICACION DE LOS REVESTIMIENTOS SEGUN EL INVENTO A LA PROTECCION DE LOS SUBSTRATOS, EN PARTICULAR ENTRE LAS CARGAS ELECTROSTATICAS.
OBJETO PROVISTO DE UN REVESTIMIENTO DE METAL PRECIOSO RESISTENTE AL DESGASTE.
(16/12/1991). Solicitante/s: ASULAB S.A.. Inventor/es: SAURER, ERIC, RANDIN, JEAN-PAUL, RUEDIN, YVES, SALLIN, MICHEL.
EL OBJETO ESTA RECUBIERTO DE UN REVESTIMIENTO RESISTENTE AL DESGASTE Y A LA CORROSION, ESTANDO CONSTITUIDO DICHO REVESTIMIENTO, PRINCIPALMENTE, POR UN METAL PRECIOSO O POR UNA ALEACION DE METAL PRECIOSO, POR EJEMPLO, ORO O UNA ALEACION QUE CONTENGA ORO. EL REVESTIMIENTO ESTA CONSTITUIDO POR UNA PRIMERA CAPA DE DICHO METAL PRECIOSO O DE SU ALEACION , QUE COMPRENDE INCLUSIONES DISCONTINUAS DE UN COMPUESTO METALICO CONSTITUIDO, POR EJEMPLO, POR NITRURO DE TITANIO. ESTAS INCLUSIONES SE DEPOSITAN SIMULTANEAMENTE EN FASE DE VAPOR CON EL METAL PRECIOSO Y SE REPARTEN HOMOGENEAMENTE POR TODO EL ESPESOR DE LA CAPA, SIENDO DICHO ESPESOR IGUAL O SUPERIOR A 0,4 MM. ENTRE EL OBJETO Y DICHA RIMERA CAPA HAY PDISPUESTA UNA SEGUNDA CAPA CONSTITUIDA POR UN METAL PRECIOSO O POR UNA ALEACION DE DICHO METAL. EL OBJETO PUEDE SER UNA CAJA DE RELOJ, UN ESLABON DE BRAZALETE O UN ARTICULO DE JOYERIA.
PROCEDIMIENTO PARA LA METALIZACION FUERTEMENTE ADHERENTE DE MATERIALES CERAMICOS.
(01/09/1991). Solicitante/s: SCHERING AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND BERGKAMEN. Inventor/es: BOCK, MARTIN, MIDDEKE, HERMANN-JOSEF, TENBRINK, DETLEF, HEYMANN, KURT, DR.
Procedimiento para el pretratamiento de materiales cerámicos a fin de efectuar una metalización química fuertemente adherente por medio de corrosión, caracterizado porque sobre las piezas cerámicas, a fin de asperizarlas antes de efectuar la metalización química, se aplica una solución de una sal, cuya viscosidad es aumentada mediante sustancias aditivas, después de lo cual las piezas se secan y calientan.
METODO DE NUCLEACION Y CRECIMIENTO DE ZONAS SELECTIVAS PARA EL DEPOSITO QUIMICO DE METAL EN FASE DE VAPOR USANDO HACES IONICOS ENFOCADOS.
(01/03/1991). Ver ilustración. Solicitante/s: HUGHES AIRCRAFT COMPANY. Inventor/es: KUBENA, RANDALL L., MAYER, THOMAS M.
METODO DE NUCLEACION Y CRECIMIENTO DE ZONAS SELECTIVAS PARA EL DEPOSITO QUIMICO DE METAL EN FASE DE VAPOR USANDO HACES IONICOS ENFOCADOS. SE DEPOSITAN LINEAS METALICAS EN UNA PLACA SEMICONDUCTORA O MASCARA DE CIRCUITO INTEGRADO MEDIANTE UN HAZ IONICO ENFOCADO (FIB) CON DOSIS DE RADIACION DE 10BS14 A 10BS15 IONES/CMB.
UN PROCEDIMIENTO PARA FORMAR UN REVESTIMIENTO DE UN ABSORBENTE DE NEUTRONES.
(01/01/1988). Solicitante/s: WESTINGHOUSE ELECTRIC CORPORATION.
PROCEDIMIENTO PARA FORMAR UN REVESTIMIENTO DE UN ABSORBENTE DE NEUTRONES SOBRE LA SUPERFICIE INTERNA DE UN TUBO HUECO DE ZIRCONIO O DE UNA ALEACION DE ZIRCONIO. CONSISTE EN CALENTAR LA SUPERFICIE INTERNA DEL TUBO HUECO QUE VA A SER REVESTIDO A UNA TEMPERATURA ELEVADA COMPRENDIDA ENTRE 200 Y 450 GRADOS, Y EN PASAR A TRAVES DE DICHO TUBO CALENTADO UNA MEZCLA DE UN COMPUESTO DE BORO VOLATILIZADA DESCOMPONIBLE A DICHAS TEMPERATURAS ELEVADAS Y UN GAS PORTADOR DE HELIO O ARGON PARA FORMAR DICHO REVESTIMIENTO SOBRE LA SUPERFICIE INTERNA DE DICHO TUBO. DE APLICACION COMO UN COMPONENTE DE REACTORES NUCLEARES.
PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE CAPAS DE METALES,DE OXIDOS DE METALES O DE CARBUROS DE METALES ADHERENTES A POLIOLEFINAS.
(01/07/1981). Solicitante/s: RUHRCHEMIE AKTIENGESELLSCHAFT.
METODO DE FABRICACION DE RECLUBRIMIENTOS METALICOS SOBRE POLIOLEFINAS. SE CALIENTA LA POLIOLEFINA A UNA TEMPERATURA DE 50-300 GC. SE PONE EN CONTACTO CON UNA COMBINACION METALICA DE FACIL DESCOMPONIBILIDAD TERMICA, TAL COMO ALQUILOS, ARILOS ARALQUILOS O CARBONILOS METALICOS, EN PRESENCIA DE UN AGENTE PORTADOR GASEIFORME, TAL COMO NITROGENO, HIDROGENO, OXIDO DE CARBONO, GASES NOBLES, ETC. SE OBTIENE SOBRE LA OLEFINA UN RECUBRIMIENTO CUYA ESTRUCTURA Y PROPIEDADES DEPENDEN DE LA TEMPERATURA DE DESCOMPOSICION, LA VELOCIAD DE LA CORRIENTE DEL GAL Y LA PRESION PARCIAL DE LA COMBINACION METALICA EN LA FASE GASEOSA.
UN PROCESO PARA INCORPORAR PISTAS DE ALUMINIO SOBRE UN CUERPO SEMICONDUCTOR.
(01/01/1980). Solicitante/s: STANDARD ELECTRICA, S.A..
Un proceso para incorporar pistas de aluminio sobre un cuerpo semiconductor, que incluye, la activación de la superficie del cuerpo en una descarga de hidrógeno, la deposición de aluminio sobre la superficie activada mediante descomposición térmica de aluminio tri- isobutilo (TIBA) suministrado en forma de vapor a una cámara de reacción mantenida a una temperatura en el margen de 250-270ºC y el ataque selectivo del aluminio para definir las pistas conductoras, y en dónde el TIBA, antes de entrar en la cámara de reacción, se mantiene a una temperatura por debajo de los 90º.