(09/11/2016). Solicitante/s: EDISON S.P.A. Inventor/es: BINDI,MASSIMILIANO.

Un método para la deposición de una película de óxido mixto sobre un sustrato de material compuesto, que comprende una etapa de evaporación-deposición de un óxido mixto, en la que se envía un haz de electrones sobre un objetivo de un óxido mixto que tiene la misma composición estequiométrica que la película a depositar, de modo que provoque la evaporación del material desde el objetivo y la deposición del material evaporado sobre un sustrato fabricado de material compuesto; estando el método caracterizado por que la etapa de evaporación-deposición se lleva a cabo con una tasa de deposición, medida sobre el sustrato, creciente durante dicha etapa de evaporación-deposición.

PDF original: ES-2605884_T3.pdf

(24/04/2014). Ver ilustración. Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: LOZANO FANTOBA,MANUEL, CALVO ANGOS,JOSE, PELLEGRINI,GIULIO, GUARDIOLA SALMERÓN,Consuelo, FLETA CORRAL,Celeste, GARCÍA FUENTES,Francisco Ignacio.

Procedimiento de depósito de una capa de boro sobre un substrato mediante evaporación física con haz de electrones, caracterizado porque comprende: a) obtener un substrato limpiado que comprende una primera capa de adhesión, b) proteger el substrato, c) alcanzar un vacío mínimo de 5x10.

(03/10/2013). Ver ilustración. Solicitante/s: INDO INTERNACIONAL S.A.. Inventor/es: DURSTELER LOPEZ,JUAN CARLOS, VILAJOANA MAS,ANTONI, ARTÚS COLOMER,Pau, RIGATO,Franco.

Lente que comprende un substrato polimérico, una capa endurecedora y una capa metálica. Lente que comprende un substrato de un material polimérico (P), y está recubierta de una capa endurecedora (E) y una capa metálica (M) que tiene un espesor comprendido entre los 1 y los 20 nm. El recubrimiento tiene también una capa antihumedad (AH) de un material del grupo formado por ZrO.

(01/02/2003). Solicitante/s: UNITED TECHNOLOGY CORPORATION PRATT & WHITNEY INTERNATIONAL CENTER FOR ELECTRON BEAM TECHNOLOGIES OF E.O. PATON ELECTRIC WELDING INSTITUTE. Inventor/es: TOPAL, VALERY I., BELYAVIN, ALEXANDR F., BRATUS, VASILY JA.

Un método de aplicación de recubrimientos libres de rebabas por haz de electrones que comprende el calentamiento del lingote del material de recubrimiento por haz de electrones, su evaporación y siguiente deposición del ujo de vapor sobre el sustrato calentado al vacío, caracterizado porque se evapora dicho lingote y se deposita dicho ujo de vapor a la temperatura de deposición Tdep,la tasa dealimentación del lingote Ving y la tasa de deposición del ujo de vapor Vdep, que son seleccionadas dentro de la región tridimensional mostrada en la Fig. 1 con estas coordenadas de sus puntos de limitación de vértices.

(16/10/2002). Solicitante/s: UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION INTERNATIONAL CENTER FOR ELECTRON BEAM TECHNOLOGIES OF E.O. PATON ELECTRIC WELDING INSTITUTE. Inventor/es: MOVCHAN, MARINA B., KORZH, ALEXANDER V., RUDOY, JURY E.

Una composición para la producción de un revestimiento protector en gradiente sobre un substrato metálico mediante evaporación por haz electrónico y condensación a vacío, basada en una mezcla de metales y óxidos metálicos que tienen diferente presión de vapor a la temperatura de evaporación, caracterizada porque la composición consiste en Sn y Cr como metales, y óxido de cromo y óxido de aluminio como óxidos metálicos, con la siguiente proporción de los componentes (% en peso): Sn: 1-13 Cr: 1-40 Cr2O3: 0,1-10 Al2O3: resto.

(01/05/2002). Solicitante/s: ALUSUISSE TECHNOLOGY & MANAGEMENT AG. Inventor/es: LOHWASSER, WOLFGANG, WISARD, ANDRE.

EN UN PROCEDIMIENTO PARA RECUBRIR LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO CON UNA CAPA DE MATERIAL INORGANICO , SE EVAPORA EL MATERIAL INORGANICO EN UNA CAMARA DE VACIO CON AL MENOS 10{SUP,-3} MBAR MEDIANTE IMPULSION CON UN HAZ DE ELECTRONES A PARTIR DE UN CAÑON DE HAZ DE ELECTRONES DE ALTA TENSION, Y SE DEPOSITA SOBRE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO. ENTRE EL PUNTO DE IMPACTO (A) DEL HAZ DE ELECTRONES SOBRE EL MATERIAL INORGANICO EVAPORADO Y UN ANODO SE PRODUCE UNA DESCARGA DE GASES, QUE PROVOCA LA EXPANSION POR EL ANODO DE LAS CARGAS ELECTRICAS PRODUCIDAS POR EL CAÑON DE HAZ DE ELECTRONES DE ALTA TENSION . DE ESTA MANERA SE EVITAN DAÑOS EN EL SUSTRATO, QUE PUEDEN APARECER COMO CONSECUENCIA DE LOS FENOMENOS DE SOBREALIMENTACION.

(16/02/2000). Solicitante/s: INSTITUTO NACIONAL DE TECNICA AEROESPACIAL "ESTEBAN TERRADAS". Inventor/es: DUBOIS, JEAN, MARIE, SANCHEZ PASCUAL,AGUSTIN, TORRE ALBARSANZ,MARCELINO, ALGABA GONZALO,JUAN MANUEL, ARCHAMBAULT,PIERRE, GARCIA DEBLAS VILLANUEVA,FRANCISCO J.

Recubrimientos cuasi cristalinos, tipo barrera térmica para la protección de componentes de las zonas calientes de turbinas que pueden comprender una barrera de difusión entre el substrato y la barrera térmica propiamente dicha. Estos recubrimientos tienen aplicación en el campo de motores de turbinas de gas bien en de aviación o para uso industrial, así como cualquier otra en donde se requiera aumentar el efecto producido por el enfriamiento en un componente para mantenerlo a menor temperatura que el medio ambiente y al mismo tiempo proteger contra la oxidación a alta temperaturas la corrosión en caliente y la erosión a temperaturas superiores a 700º C. Procedimientos de deposición de dichos recubrimientos.

(16/07/1998). Solicitante/s: METAPLAS IONON OBERFLACHENVEREDELUNGSTECHNIK GMBH. Inventor/es: VETTER, JORG, DR., MAXAM, SIEGFRIED, SCHMIDT-MAUER, MANFRED.

EL OBJETIVO DE LA INVENCION ES UN PROCEDIMIENTO PARA TRATAMIENTO DE PLASMA DE PIEZAS DE TRABAJO POR MEDIO DE IONES Y ELECTRONES, EN PARTICULAR A PARTIR DE RECUBRIMIENTO DEL PLASMA BAJO VACIO SEGUN PROCEDIMIENTO PVD, DONDE A TRAVES DEL BOMBARDEO CAMBIANTE CON IONES Y ELECTRONES SE CALIENTA O SE PURIFICA LA PIEZA 2 DE TRABAJO. PARA PERMITIR UNA GUIA DE PROCESO SENCILLA Y CONTROLADA DE FORMA EXACTA INDIVIDUAL, DE MODO QUE CON ELLO SE OBTIENE UNA APLICACION DE AHORRO DE ENERGIA EN LA FASE DE CALENTAMIENTO Y PURIFICACION DE IONES, SE PROPONE QUE EL BOMBARDEO DE IONES Y ELECTRONES SE REALICE DE FORMA PREFERENTE A PARTIR DE UNA FUENTE 4, 5 DE CORRIENTE CONTINUA, ADAPTADA AL BOMBARDEO RESPECTIVO, DE FORMA PROPIA, INDEPENDIENTE DE LOS PROCESOS DE RECUBRIMIENTO, DISPONIENDOSE DE FORMA ALTERNADA DE UNA RELACION 6 DE IMPULSOS AJUSTABLE CON UN POLO POSITIVO O NEGATIVO QUE SE UNEN CON UN SOPORTE 3 DE PIEZA DE TRABAJO.

(01/03/1997). Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BERGMANN, ERICH, DR., RUDIGIER, HELMUT, DR.

EL OBJETIVO DE ESTA INVENCION ES LLEGAR A PRODUCIR LA INFLAMACION EN UN ARCO DE EVAPORACION, DE AL MENOS MATERIAL FUNDIDO EN SU SUPERFICIE COMO CONSECUENCIA DE LA EVAPORACION, ASI COMO SU ESTABILIZACION Y SU CONTROL. PARA ELLO SE PREVEE DE UN CAÑON DE RADIACION ELECTRONICA O DE UN LASER, PARA LA GENERACION DE UNA NUBE DE VAPOR LOCAL O UNAS MANCHAS DE MATERIAL PREFUNDIDO SOBRE LA SUPERFICIE OBJETO, Y CON ELLO PRODUCIR LA INFLAMACION DE MANCHA DE ARCO O RESPECTIVAMENTE SU CONTROL.

(01/10/1994). Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SCHMID, ROLAND, KAUFMANN, HELMUT, DR.

PARA CALENTAR UN SUSTRATO DE CALOR RESP. UNIFORMEMENTE DE UN SUSTRATO RECUBIERTO EN UNA CAMARA DE VACIO EN UN RECIPIENTE MEDIANTE DESCARGA ELECTRICA RESP. DE ALTO VACIO O DESCARGA POR ARCO DE BAJA TENSION, SE PROPONE QUE EN LA CAMARA DE VACIO, RESP. EN EL RECIPIENTE SE MANTENGA AL MENOS DURANTE EL CALENTAMIENTO UN CAMPO MAGNETICO LOCAL VARIABLE Y/O DESPLAZABLE. PREFERENTEMENTE SE MANTIENEN AL MENOS EN PARTE, DOS CAMPOS MAGNETICOS SOLAPADOS, QUE ALTERNANDO, SON ACTIVADOS DE FORMA FUERTE O DEBIL, PARA DE ESTA FORMA QUE LA DENSIDAD DE CORRIENTE EN LA CAMARA DE VACIO RESP. EN EL RECIPIENTE SEA LOCALMENTE AFECTADA, Y POR ELLO, A LO LARGO DEL SUSTRATO, SE PRODUCE EN LA CARGA DE CALOR DE FORMA ALTERNANDO UN CALENTAMIENTO FUERTE O DEBIL.

(16/12/1991). Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BERGMANN, ERICH, DR..

PARA CONSEGUIR CAPAS MAS DENSAS Y COMPACTAS QUE HASTA AHORA EN EL REVESTIMIENTO EN CAPAS DE SUSTRATOS MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA APOYADA EN CAMPOS MAGNETICOS, SE CONDENSA DURANTE LA FORMACION DE LA CAPA UNA CIERTA PARTE DE VAPOR METALICO (OBTENIDO POR EVAPORACION DEL ANODO O CATODO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO) SOBRE LAS SUPERFICIES DE FUNCION DE LOS SUSTRATOS JUNTO CON EL MATERIAL PULVERIZADO, CONCRETAMENTE UN MINIMO DE 5% DE ATOMOS DEL TOTAL DE COMPONENTE METALICO DE LA CAPA. UNA INSTALACION DE RECUBRIMIENTO EN CAPAS AL VACIO APROPIADA PARA LA EJECUCION DE ESTE PROCESO PRESENTA DENTRO DE UNA CAMARA DE VACIO UN DISPOSITIVO PARA LA EVAPORACION DE UNA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA POR MEDIO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO, ASI COMO OTRO DISPOSITIVO PARA LA PULVERIZACION APOYADA POR CAMPO MAGNETICO DE OTRA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA.

(01/01/1969). Ver ilustración. Solicitante/s: LIBBEY OWENS FORD GLASS COMPANY.

Resumen no disponible.