CIP-2021 : G03F 1/00 : Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas,

p. ej. mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación..

CIP-2021GG03G03FG03F 1/00[m] › Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, p. ej. mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación..

Notas[n] de G03F 1/00:
  • La presente clase, se aplica la regla del primer lugar, es decir, en cada nivel jerárquico, salvo que se indique lo contrario, la clasificación se realiza en el primer lugar apropiado.   

G03F 1/20 · Máscaras o máscaras vacías para imagen por haz de partículas cargadas [CPB] radiación, p. ej. por haz de electrones; Su preparación.

G03F 1/22 · máscaras o máscaras vacías para imagen por radiación de 100 nm o longitud de onda inferior, p. ej. máscaras de rayos X, máscaras de ultra-violeta extremo [EUV]; Su preparación.

G03F 1/24 · · Máscaras de reflexión; Su preparación.

G03F 1/26 · Máscaras de desplazamiendo de fase [PSM]; PSM en blanco; Su preparación.

G03F 1/28 · · con tres o más fases diversas en el mismo PSM; Su preparación.

G03F 1/29 · · Bordes o estabilizadores PSM; Su preparación.

G03F 1/30 · · Alternando PSM, p. ej. PSM Levenson-Shibuya; Su preparación.

G03F 1/32 · · Atenuando PSM [att-PSM], p. ej. medio tono PSM o PSM con parte de desplazamiento de fase semi-transparente; Su preparación.

G03F 1/34 · · Fase avanzada PSM, p. ej. PSM sin cromo; Su preparación.

G03F 1/36 · Máscaras que poseen características de correción por proximidad; Su preparación, p. ej. procesos de diseño para corrección de proximidad óptica [OPC].

G03F 1/38 · Máscaras que poseen características auxiliares, p. ej. recubrimientos especiales o marcas de alineación o de prueba; Su preparación.

G03F 1/40 · · Características relacionadas con descarga eletrostática [ESD], p. ej. recubrimientos antiestáticos o una capa de metal conductor alrededor del sustrato de la máscara.

G03F 1/42 · · Características de alineación o de registro, p. ej. marcas de alineación de los sustratos de la máscara.

G03F 1/44 · · Características de pruebas o medida, p. ej. patrones de rendija, monitores de enfoque, escala de diente de sierra o dentada .

G03F 1/46 · · Recubrimientos antirreflectantes.

G03F 1/48 · · Revestimientos de protección.

G03F 1/50 · Máscaras vacías no cubiertos por los grupos G03F 1/20 - G03F 1/26; Su preparación.

G03F 1/52 · Reflectores.

G03F 1/54 · Absorbentes, p. ej. materiales opacos.

G03F 1/56 · · Absorventes orgánicos, p. ej. foto-resistentes.

G03F 1/58 · · con dos o más capas de absorción diferentes, p. ej., capas de absorbentes apiladas.

G03F 1/60 · Substratos.

G03F 1/62 · Películas o agrupación de películas, p. ej. con la membrana en la estructura de apoyo; Su preparación.

G03F 1/64 · · caracterizado por los marcos, p. ej. estructura o material de la misma.

G03F 1/66 · Recipientes especialmente adaptados para las máscaras, máscaras vacías o películas; Su preparación.

G03F 1/68 · Procesos de preparación no cubiertos por los grupos G03F 1/20 - G03F 1/50.

G03F 1/70 · · Adaptación de la capa básica o el diseño de máscaras para los requerimientos de proceso litográfico, p. ej. corrección de la segunda iteración de la máscara patrón para imágenes.

G03F 1/72 · · Reparación o corrección de los de defectos de la máscara.

G03F 1/74 · · · por haz de partículas cargadas [CPB], p. ej. haz de iones enfocado.

G03F 1/76 · · Patrones de máscaras por imagén.

G03F 1/78 · · · por haz de partículas cargadas [CPB], p. ej. haz de electrones.

G03F 1/80 · · ataque químico.

G03F 1/82 · · Procesos auxiliares, p. ej. limpieza.

G03F 1/84 · · · Inspección.

G03F 1/86 · · · · por haz de partículas cargadas [CPB].

G03F 1/88 · preparado por los procesos fotográficos para la producción de originales simulando relieve.

G03F 1/90 · preparado para los procesos de montaje.

G03F 1/92 · preparado a partir de superficies de impresión.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Película de máscara para formar imágenes en relieve.

(09/01/2019) Una película, que comprende: una lámina de soporte transparente y que tiene sobre ella, en orden: una capa transparente que tiene un grosor de desde aproximadamente 0,25 μm y hasta 10 μm inclusive, cuya capa transparente tiene un índice de refracción de al menos 0,04 inferior que el índice de refracción de la lámina de soporte transparente, comprendiendo opcionalmente la lámina transparente un promotor de adherencia, una capa intermedia que tiene un grosor de desde 0,1 hasta 10 μm, una capa barrera que comprende un polialquilcianoacrilato, nitrocelulosa o de óxido metálico, y un compuesto absorbente de radiación infrarroja y que comprende, opcionalmente, agentes de reticulación. una capa…

Una placa original de impresión flexográfica.

(06/09/2017). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: YOSHIMOTO,KAZUYA, KAWAKAMI,TETSUMA, YAWATA,YUKIMI.

Una placa original de impresión flexográfica fotosensible y revelable por agua, en la que están estratificados sucesivamente al menos un miembro de soporte, una capa de resina fotosensible, una capa protectora y una capa de máscara, caracterizada porque, la capa protectora contiene: (A) alcohol polivinílico, (B) plastificante y (C) látex dispersable en agua en la siguiente proporción: alcohol polivinílico (A): 25 a 80 partes en peso plastificante (B): 15 a 60 partes en peso y látex dispersable en agua (C): 5 a 40 partes en peso, en la que la capa de resina fotosensible comprende un látex, un compuesto insaturado fotopolimerizable y un iniciador de fotopolimerización; y en el que el grado de saponificación del alcohol polivinílico (A) es del 60% al 90%.

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Fabricación de placas de impresión flexográficas a partir de fotopolímeros.

(04/01/2017) Un negativo de chorro de tinta a base de disolvente, caracterizado porque se proporciona una película polimérica compatible con tinta basada en disolvente y que tiene áreas tintadas, la película polimérica es estrecha en una dimensión, ancha en las otras dos dimensiones, tiene una superficie en las otras dos dimensiones para ser iluminadas por una luz que tiene una intensidad inicial, tiene una primera combinación de sustancias que filtran la luz uniformemente propagadas en las otras dos dimensiones, la tinta comprende una segunda combinación de sustancias que filtran la luz y están impresas sobre la superficie, la primera y segunda combinación de sustancias que filtran la luz previenen la polimerización de los fotopolímeros opuestos a la superficie para ser iluminada cuando la luz está brillando sobre la superficie…

Método para hacer una imagen en relieve.

(21/09/2016) Un método de hacer una imagen en relieve, comprendiendo el método: A) formar una imagen máscara formando regiones expuestas y no expuestas en una película filmada, la cual película antes de filmar, comprende: una lámina soporte transparente que tiene sobre ella al menos una capa formadora de imagen termosensible que no es de halogenuro de plata y un colorante dispuesto en dicha capa formadora de imagen o en una capa diferente entre dicha lámina soporte y dicha capa formadora de imagen, un compuesto absorbente de radiación infrarroja dispersado en un aglutinante polimérico, y dicha película comprende, además, una capa transparente dispuesta entre dicha lámina soporte y la capa que contiene dicho colorante, la cual capa transparente tiene un índice de refracción inferior que el índice de refracción de dicha lámina soporte…

Proceso de prevención de curado de borde.

(15/10/2014) Un método para evitar el curado no deseado de los bordes de una placa de impresión fotosensible, comprendiendo el método las etapas de: a) proporcionar una placa de impresión fotosensible; b) usar una impresora de inyección de tinta para aplicar una tinta para cubrir al menos unas partes de los bordes de la placa de impresión, donde la tinta es sustancialmente opaca a la radiación actínica en al menos una región de longitud de onda eficaz para curar la placa de impresión fotosensible; donde la tinta se aplica para cubrir al menos unas partes de los bordes de la placa de impresión antes de que la placa de impresión se monte en un manguito o un soporte cilíndrico.

Procedimiento que comprende irradiación UV-LED para la fabricación de placas de impresión flexográficas.

(09/07/2014) Procedimiento para la fabricación de placas de impresión flexográficas, en el que se usa como material de partida un elemento de impresión flexográfico que puede fotopolimerizarse, que comprende dispuestos uno sobre otro al menos * un soporte de dimensión estable y * al menos una capa formadora de relieve que puede fotopolimerizarse, al menos que comprende un aglutinante elastomérico, un compuesto etilénicamente insaturado y un fotoiniciador, * opcionalmente una capa rugosa permeable a UV, al menos que comprende una sustancia particulada, * una capa que puede ilustrarse digitalmente, y el procedimiento comprende al menos las siguientes etapas: (a) generar una máscara mediante ilustración de la capa que puede ilustrarse…

Método de prevención de curado prematuro de superficies de corte de un elemento de impresión fotosensible, elemento de impresión fotosensible que puede obtenerse mediante un método de este tipo.

(03/10/2012) Un método de prevención de curado prematuro de superficies de corte de un elemento de impresión fotosensible,comprendiendo el método las etapas de: a) proporcionar un elemento de impresión fotosensible; b) cortar el elemento de impresión fotosensible en un patrón de un tamaño y una forma deseados para sumontaje sobre un soporte cilíndrico o camisa; y c) aplicar una composición de prevención de curado de borde para cubrir las superficies de corte del elementode impresión, caracterizado por que la composición de prevención de curado de borde es una emulsión quecomprende una fase oleosa y una fase acuosa, comprendiendo la emulsión: (i) uno o más emulsionantes; (ii) uno o más materiales de absorción de radiación ultravioleta en una cantidad de un 10 a un 30 % enpeso de la composición; (iii) opcionalmente,…

PROCEDIMIENTO PARA MOLDEAR SUPERFICIES DE MATERIALES CURABLES.

(25/07/2012) Procedimiento para moldear superficies de materiales curables. Se describe un procedimiento para moldear la superficie de materiales curables que comprende las etapas de: formar gotas de un líquido iónico sobre la superficie de un sustrato sólido; recubrir el sustrato así como las gotas con un material curable; curar el material; y, separar el material curado, obteniendo como resultado una superficie sólida que presenta una topografía de características superficiales idénticas a las de las superficies de las gotas del líquido iónico formadas sobre el sustrato.

Método para estructurar la superficie de una chapa prensada o de una cinta sin fin.

(20/04/2012) Método para estructurar la superficie de una chapa metálica prensada o de una cinta sin fin, que consta de las siguientes etapas: - colocación de la chapa prensada o de la cinta sin fin sobre una mesa de trabajo cuya superficie sea plana, para aplicar y endurecer una máscara , - aplicación de una máscara formada por un barniz UV endurecible al menos en parte, para la pasivación parcial mediante un proceso de impresión digitalizado, empleando un dispositivo adecuado - que comprende un cabezal pulverizador que se mueve en una pequeña distancia constante de 0,1 a 4 mm respecto a la superficie de las chapas prensadas o de las cintas sin fin, - irradiación, al menos parcial, de la máscara con una fuente de luz UV inmediatamente después de la aplicación, preferiblemente dentro de un periodo…

Método para tratar térmicamente manguitos de impresión fotosensibles.

(18/04/2012) Un método para fabricar un elemento de impresión fotosensible que comprende las etapas de: a) proporcionar un elemento de impresión fotosensible sobre un soporte cilíndrico giratorio, comprendiendo el elemento de impresión fotosensible : i) una capa de soporte ; ii) una primera capa de material fotocurable en la capa de soporte , estando la primera capa de material fotocurable pre-curada; iii) al menos una segunda capa de material fotocurable depositada sobre la primera capa de material fotocurable ; y iv) una capa de enmascaramiento en la parte superior de la al menos una segunda capa de material fotocurable que permite la polimerización selectiva de la al menos una segunda capa de material fotocurable ; en el que la primera capa de material fotocurable se cura antes que la segunda capa de material…

PROCEDIMIENTO DE CONFORMACIÓN DE MANGUITOS DE IMPRESIÓN FOTOSENSIBLES.

(16/04/2012) Un procedimiento de realización de un manguito de impresión cilíndrico hueco, comprendiendo el procedimiento: a) proporcionar un elemento de impresión fotosensible que comprende: i) una capa de soporte cilíndrica hueca, comprendiendo la capa de soporte cilíndrica hueca un compuesto de absorción de radiación actínica que se distribuye uniformemente a través de su totalidad; ii) al menos una capa de material fotopolimerizable que se deposita sobre la capa de soporte cilíndrica hueca; y iii) una capa de enmascarado fotográfico encima de la al menos una capa de material fotopolimerizable que absorbe la radiación a una longitud de onda que se usa para polimerizar la capa de material fotopolimerizable; b) retirar partes de la capa de enmascarado fotográfico…

SISTEMAS AUTOMATIZADOS DE DISPENSACION DE GAS HIPERPOLARIZADO SENSIBLE A UNA PRESION DINAMICA, Y PROCEDIMIENTOS Y PRODUCTOS DE PROGRAMA INFOMATIVO ASOCIADOS.

(16/06/2007) Sistema de producción de gas hiperpolarizado, que comprende: una fuente de gas hiperpolarizado que comprende una célula de bombeo óptico configurada para hiperpolarizar un gas por medio de un intercambio de espín con un metal alcalino bombeado ópticamente, teniendo la célula de bombeo óptico un volumen conocido, en el que, en funcionamiento, la célula de bombeo óptico tiene una presión asociada por encima de aproximadamente 1 atm; una vía de flujo de gas cerrada (10p) que se extiende entre la fuente de gas hiperpolarizado y un orificio de salida de dispensación, teniendo la vía de flujo de gas (10p) al menos una primera (V1), una segunda (V2), y una tercera (V3) válvulas separadas operables de manera individual situadas en comunicación de…

PLACAS DE IMPRESION IMPRESIONADA MEDIANTE LASER QUE COMPRENDE UNA PELICULA DESLIZADA MULTICAPA.

(01/11/2006) Artículo fotoendurecible e impresionable mediante láser que comprende: a)un fondo ; b)una capa fotoendurecible dispuesta sobre dicho fondo presentando dicha capa fotoendurecible una baja capacidad de absorción de radiación a una longitud de onda seleccionada en el intervalo comprendido entre 300 y 400 nm y un iniciador activable a la longitud de onda seleccionada; y c)una película deslizada fotoablativa multicapa , comprendiendo dichas capas de dicha película deslizada fotoablativa multicapa un polímero formador de película y un aglomerante autooxidante, en el que por lo menos una primera capa de dicha película deslizada fotoablativa multicapa comprende un absorbente de LTV que presenta una alta capacidad de absorción en…

LAMINADO DE RESINA FOTOSENSIBLE.

(01/11/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: TOYO BOSEKI KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: MOTOI, KEIICHI, WADA, TORU, TAGUCHI, YUJI, IMAHASHI, SATOSHI, MATSUDA, MASAOU, TAKAHASHI, KASUO, SYOKI, KOJI.

Un laminado de resina fotosensible que comprende un soporte, una capa de resina fotosensible, una capa para ablación por rayos IR y una película de recubrimiento, en la que la capa para ablación por rayos IR comprende una capa que consiste esencialmente en un metal que absorbe rayos IR, la capa de metal que absorbe los rayos IR está en contacto con la capa de resina fotosensible y la capa de metal que absorbe los rayos IR tiene un grosor de 430 Å – 20.000 Å.

PELICULA DE PROCESO, TINTA DE PROCESO Y PROCEDIMIENTO Y SISTEMA QUE USAN LA PELICULA.

(16/07/2005) UNA PELICULA PARA REALIZACION DE CLISE TIENE UNA CAPA DISPUESTA SOBRE UN SUBSTRATO TRANSPARENTE, CONSISTIENDO BASICAMENTE LA CAPA DE UN COMPUESTO POLIMERICO FORMADO POR UNA UNIDAD REPETIDA, REPRESENTADA POR LA SIGUIENTE FORMULA GENERAL : EN DONDE A ES X, Y Y Z, DENOTAN CADA UNO UN ENTERO DE 1 O MAS, X ES UN RESIDUO DE UN COMPUESTO ORGANICO QUE TIENE DOS GRUPOS ACTIVOS DE HIDROGENO, Y ES UN GRUPO DE HIDROCARBUROS QUE TIENE UNO O MAS ATOMOS DE CARBONO, Y R 1 ES UN RESIDUO DE UN COM PUESTO DE ACIDO DICARBOSILICO O UN RESIDUO DE UN COMPUESTO A BASE DE DIISOCIANATO. EN LA PELICULA DE REALIZACION DEL CLISE, SE FORMA UNA IMAGEN, PREFERENTEMENTE POR CHORROS DE TINTA, UTILIZANDOSE, A SER POSIBLE, UNA TINTA FORMADORA…

METODO Y DISPOSITIVO DE DESPLAZAMIENTO DE FASE EN LA FABRICACION DE UN CIRCUITO.

(01/03/2005). Solicitante/s: NUMERICAL TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: WANG, YAO-TING, PATI, YAGYENSH, C.

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA CREAR UNA MASCARA DE DESPLAZAMIENTO DE FASE Y UNA MASCARA DE ESTRUCTURA PARA CONTRAER LOS DISEÑOS DE CIRCUITOS INTEGRADOS. UNA REALIZACION DE LA INVENCION INCLUYE UTILIZAR UN PROCESO DE DOS MASCARAS. LA PRIMERA MASCARA ES UNA MASCARA DE DESPLAZAMIENTO EN FASE Y LA SEGUNDA ES UNA MASCARA CON ESTRUCTURA DE UNA SOLA FASE. LA MASCARA DE DESPLAZAMIENTO DE FASE DEFINE PRINCIPALMENTE LAS ZONAS QUE REQUIEREN DESPLAZAMIENTO DE FASE. LA MASCARA CON ESTRUCTURA DE UNA SOLA FASE DEFINE PRINCIPALMENTE LAS ZONAS QUE NO PRECISAN DEL DESPLAZAMIENTO DE FASE. LA MASCARA CON ESTRUCTURA DE UNA SOLA FASE PREVIENE TAMBIEN QUE SE BORREN LAS ZONAS DE DESPLAZAMIENTO DE FASE Y EVITA LA CREACION DE ZONAS DE ARTEFACTOS NO DESEABLES QUE SE CREARIAN EN CASO CONTRARIO MEDIANTE LA MASCARA CON DESPLAZAMIENTO DE FASE. AMBAS MASCARAS SE DERIVAN DE UN CONJUNTO DE MASCARAS UTILIZADAS EN TECNOLOGIA CON UN PROCESO DE DIMENSIONES MINIMAS MAYOR.

DISPOSITIVO PARA APLICAR UN LIQUIDO DE RECUBRIMIENTO EN UN CILINDRO.

(01/05/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: SCHABLONENTECHNIK KUFSTEIN AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: FISCHER, HANNES.

LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA APLICAR UN LIQUIDO DE RECUBRIMIENTO SOBRE UN CILINDRO EN UNA ESTACION DE MECANIZADO FORMADA POR AL MENOS UN EQUIPO DE FIJACION PARA COLOCAR UN CILINDRO POR SU PARTE FRONTAL; UN EQUIPO MOTRIZ PARA HACER GIRAR EL CILINDRO ALREDEDOR DE SU EJE (1B); UN BANCO DE MECANIZADO MOVIL QUE PUEDE DESPLAZARSE EN SENTIDO PARALELO AL EJE DEL CILINDRO (1B); Y UN DISPOSITIVO DE CONTROL PARA CONTROLAR EL EQUIPO MOTRIZ , EL MOVIMIENTO DEL BANCO DE MECANIZADO Y LA ESTACION DE HERRAMIENTAS DISPUESTA SOBRE EL BANCO DE MECANIZADO . PARA PODER APLICAR UNA CAPA OPACA DE REVESTIMIENTO SEGUN UN DETERMINADO PATRON SOBRE UN CILINDRO, EN PARTICULAR SOBRE UNA CAPA FOTOELASTOMERICA DE UN MOLDE FLEXOGRAFICO, LA INVENCION PREVE QUE LA ESTACION DE HERRAMIENTAS ESTE COMPUESTA POR VARIOS INYECTORES APTOS PARA PULVERIZAR UN LIQUIDO DE RECUBRIMIENTO Y ALINEADOS EN EL SENTIDO LONGITUDINAL DEL CILINDRO.

PLACAS VIRGENES PARA FOTOMASCARAS ATENUADORAS DE DESPLAZAMIENTO INTEGRAL.

(01/04/2004). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: CARCIA, PETER, FRANCIS, FRENCH, ROGER, HARQUAIL.

BLANCOS DE FOTOMASCARAS CON DESPLAZAMIENTO DE FASE EMPOTRADOS Y DE ATENUACION CAPACES DE PRODUCIR UN DESPLAZAMIENTO DE FASE DE 180°, Y QUE TIENEN UNA TRANSMISIVIDAD OPTICA DE AL MENOS 0,001 A LONGITUDES DE ONDAS LITOGRAFICAS SELECCIONADAS < 400 NM, Y QUE COMPRENDEN AL MENOS UNA CAPA DE UN COMPUESTO DE ALUMINIO Y AL MENOS UN COMPONENTE OPTICAMENTE MAS ABSORBENTE QUE EL COMPUESTO DE ALUMINIO A LONGITUDES DE ONDAS LITOGRAFICAS SELECCIONADAS < 400 NM, Y QUE SE REALIZAN, POR DEPOSITO SOBRE UN SUBSTRATO DE AL MENOS UNA CAPA DE UN COMPUESTO DE ALUMINIO Y AL MENOS UN COMPONENTE OPTICAMENTE MAS ABSORBENTE QUE EL COMPUESTO DE ALUMINIO.

PLACA DE IMPRESION DE IMAGENES DE RELIEVE COMPUESTAS Y PROCEDIMIENTOS DE PREPARACION DE LAS MISMAS.

(16/12/2003). Solicitante/s: POLYFIBRON TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: CUSDIN, GEORGE, CROWELL, JOSEPH.

ELEMENTOS DE IMPRESION COMPUESTOS DE ALTA CALIDAD PREPARADOS SIN QUE SE NECESITE LA COLOCACION PRECISA DE ELEMENTOS FOTOENDURECIBLES. SE DISPONE AL MENOS UN ELEMENTO FOTOENDURECIBLE Y, PREFERENTEMENTE, VARIOS SOBRE UNA SUPERFICIE DE UNA HOJA PORTADORA BASICAMENTE PLANAR CON UNA COLOCACION APROXIMADA Y SE TRANSMITE UN NEGATIVO GENERADO POR ORDENADOR SOBRE UNA SUPERFICIE DE LOS ELEMENTOS.

PROCEDIMIENTO DE IMPRESION CONTINUA DE UNA PELICULA PLASTICA, DISPOSITIVO PARA SU APLICACION Y PELICULA PLASTICA IMPRESA OBTENIDA POR EL PROCEDIMIENTO.

(16/11/2003). Solicitante/s: SOCIETE D'ENDUCTION ET DE FLOCKAGE. Inventor/es: LION, JEAN-PIERRE.

procedimiento de impresión en continuo de una película plástica caracteriza porque consiste en: aplicar sobre el inverso de la película plástica un soporte provisional antiadherente, calentar el conjunto de la película plástica y del soporte provisional a una temperatura tal que la película plástica alcance su punto de reblandecimiento para pegar temporalmente en el soporte provisional, transferir por sublimación un motivo constituido por una tinta que puede sublimarse preimpresa sobre un papel de impresión , por contacto bajo una presión y a una temperatura determinadas con el recto de la película plástica termopegada en el soporte provisional, refrigerar el conjunto de la película plástico así impreso y del soporte provisional a una temperatura que permite el despegue del soporte provisional.

MATERIAL Y PROCEDIMIENTO PARA CUBRIR LOS BORDES DE PLANCHAS IMPRESORAS FOTOPOLIMERIZABLES PARA IMPRESION FLEXOGRAFICA.

(16/04/2002). Solicitante/s: DU PONT DE NEMOURS (DEUTSCHLAND) GMBH. Inventor/es: DUDEK, DIETMAR, DR., ALINCE, WOLGANG, DR.

MATERIAL Y PROCEDIMIENTO PARA EL REVESTIMIENTO DE BORDES Y PROCEDIMIENTO PARA EVITAR RESALTES NO DESEADOS EN LA IRRADIACION DE PLANCHAS IMPRESORAS FOTOPOLIMERIZABLES Y PROCESABLES CON LASER PREMONTADAS SOBRE MANGUITOS O CILINDROS, DONDE SE APLICA ANTES DE LA IRRADIACION DE LAS PLANCHAS IMPRESORAS FOTOPOLIMERIZABLES UN MATERIAL PARA EL RECUBRIMIENTO DE LOS BORDES QUE CONTIENE AL MENOS UN POLIMERO FORMADOR DE PELICULA SOLUBLE, AL MENOS UN ABSORBENTE UV Y UN DISOLVENTE O UNA MEZCLA DE DISOLVENTES, SOBRE LOS BORDES DE PLANCHAS IMPRESORAS FOTOPOLIMERIZABLES.

PLACAS VIRGENES PARA FOTOMASCARAS.

(16/03/2002). Ver ilustración. Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: SHARP, KENNETH, GEORGE, FRENCH, ROGER, HARQUAIL.

PLACAS PARA FOTOMASCARAS DE DESPLAZADOR DE FASE EMPOTRADO, ATENUADO Y TRANSMISIVO, QUE COMPRENDEN AL MENOS UN MATERIAL POLIMERICO, PREFERENTEMENTE UN FLUORPOLIMERO AMORFO O UN FLUORPOLIMERO AMORFO AL QUE SE HA AÑADIDO UN ORGANOSILANO CON FUNCION DE FLUOR, Y ORGANOSILICATOS, O SUS COMBINACIONES, TENIENDO EL MATERIAL POLIMERICO: (A) UN INDICE DE REFRACCION (N) EN LA ESCALA DE 1,2 A 2,0, PREFERENTEMENTE EN LA ESCALA DE 1,26 A 1,8, A UNA LONGITUD DE ONDA LITOGRAFICA SELECCIONADA INFERIOR A 400 NM; Y (B) UN COEFICIENTE DE EXTINCION (K) EN LA ESCALA DE 0,04 A 0,8, Y PREFERENTEMENTE EN LA ESCALA DE 0,06 A 0,59, A LA LONGITUD DE ONDA LITOGRAFICA SELECCIONADA INFERIOR A 400 NM.

PLACA DE FOTOCOMPOSICION POR LASER.

(16/01/2000). Solicitante/s: PT SUB, INC. Inventor/es: KANGA, RUSTOM, SAM, YANG, MICHAEL WEN-CHIEN, RANDALL, ALVIN VARNARD.

PLACAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICAS IMPRESIONABLES POR LASER Y UN METODO DE HACER LAS MISMAS SE DESCRIBE. UNA FINA PELICULA POLIMERICA DOPADA CON UN ABSORBEDOR DE UV ESTA LAMINADA EN UNA CAPA FOTOPOLIMERA. LA PELICULA ES EXTIRPADA DEL FOTOPOLIMERO USANDO UN LASER QUE OPERA EN UNA LONGITUD DE ONDA SELECCIONADA PARA CREAR UN NEGATIVO IN SITU. EL NEGATIVO RESULTANTE PUEDE SER SOMETIDO A EXPOSICION DE INUNDACION DE UV Y REVELADO TIPICOS.

MASCARAS LITOGRAFICAS DE DESPLAZAMIENTO DE FASE QUE TIENEN CAPAS DE DESPLAZAMIENTO DE FASE DE COMPOSICIONES DIFERENTES.

(16/08/1999) UNA MASCARA LITOGRAFICA DE DESPLAZAMIENTO DE FASE (500 O 600), PARA SU USO CONJUNTAMENTE CON RADIACION OPTICA DE LONGITUD DE ONDA LAMBDA, TIENE UN SUSTRATO TRANSPARENTE SOBRE EL CUAL RADIAN ( 2M + 1) PI INFERIOR Y UNA CAPA DE DESPLAZAMIENTO DE FASE RADIAN (2N + 1) PI SUPERIOR CON FIGURAS GEOMETRICAS TENIENDO CADA UNA AL MENOS APROXIMADAMENTE EL MISMO INDICE DE REFRACCION EN LA LONGITUD DE ONDA LAMBDA COMO LA DEL SUSTRATO. UNA CAPA DE CROMO OPACA CON FIGURAS GEOMETRICAS MAS FINAS ESTA SITUADA SOBRE LA CAPA DE DESPLAZAMIENTO DE FASE SUPERIOR CON FIGURAS GEOMETRICAS. LA CAPA DE DESPLAZAMIENTO INFERIOR ES QUIMICAMENTE DIFERENTE TANTO DEL SUSTRATO COMO DE LA CAPA SUPERIOR, CON EL FIN DE PROPORCIONAR BIEN LA DETECCION DE LA PARADA DEL ATAQUE AL ACIDO O LA DETECCION…

UTILIZACION DEL ENTRAMADO CON MODULACION DE FRECUENCIA PARA ALIGERAR EN OFFSET LAS SUPERFICIES IMPRIMIDAS.

(01/03/1999). Solicitante/s: NOUEL, JEAN-MARIE. Inventor/es: NOUEL, JEAN-MARIE.

LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A LA UTILIZACION DEL EFECTO PANTALLA CON MODULACION DE FRECUENCIA O EFECTO PANTALLA ESTOCASTICO PARA ALIGERAR LAS SUPERFICIES DE IMPRESION, E TECNICAS DE IMPRESION OFFSET SECO U OFFSET HUMEDO. SE REFIERE TAMBIEN A LAS PELICULAS Y PLACAS, UTILIZADAS EN ESTAS TECNICAS DE IMPRESION QUE, DE MANERA CARACTERISTICA, GENERAN SUPERFICIES DE IMPRESION ALIGERADAS SEGUN UN EFECTO PANTALLA ESTOCASTICO (O EFECTO PANTALLA CON MODULACION DE FRECUENCIA).

PELICULA A PRUEBA DE POLVO.

(16/02/1999). Solicitante/s: MITSUI CHEMICALS, INC.. Inventor/es: NAKAGAWA, HIROAKI, MATSUMOTO, MUNEYUKI.

SE OBTIENE UNA PELICULA A PRUEBA DE POLVO A PARTIR DE UN MATERIAL QUE CONTIENE UN ESTER DE CELULOSA Y CUYAS TRANSMITANCIAS DE LUZ QUE TIENE UNA LONGITUD DE ONDA DE 365 NM Y UNA LONGITUD DE ONDA DE 436 NM SON 98 % O MAS, O LA PELICULA A PRUEBA DE POLVO SE FORMA DE PROPIONATO DE CELULOSA, CUYO PESO MOLECULAR MEDIO, UTILIZANDO POLIESTIRENO COMO REFERENCIA, ES 60000-400000. LA PELICULA A PRUEBA DE POLVO TIENE UNA VIDA LARGA Y AVENTAJA EN PROPIEDADES DE RESISTENCIA A LA LUZ RESPECTO DE LA LINEA I. ADEMAS, LA PELICULA A PRUEBA DE POLVO ES UTIL COMO PELICULA DE LARGA VIDA PARA UNA LINEA ANCHA Y MUESTRA PROPIEDADES DE TRANSMITANCIA DE LA LUZ ELEVADAS RESPECTO DE LA LINEA I Y LA LINEA G.

PROCESO Y DISPOSITIVO PARA LA FABRICACION DE MOLDES DE IMPRESION FLEXOGRAFICA.

(16/01/1999). Solicitante/s: SCHABLONENTECHNIK KUFSTEIN AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: FISCHER, HANS, ING.

LA INVENCION SE REFIERE A LA FABRICACION DE PLANTILLAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICA, LAS CUALES SE EMPLEAN, EN PARTICULAR, EN EL CAMPO DE LA INDUSTRIA TEXTIL. ESTAS PLANTILLAS ESTAMPADORAS SE COMPONEN DE UN CILINDRO RECUBIERTO CON UNA CAPA DE ELASTOMERO FOTOSENSIBLE, PARA LO CUAL ESTA CAPA SE RECUBRE CON UN MODELO (1A) Y A CONTINUACION SE ILUMINA, CON EL FIN DE RETICULAR POR ESTA ILUMINACION SUS ZONAS NO CUBIERTAS POR EL MODELO (1A). A CONTINUACION SE LAVAN LAS ZONAS NO ILUMINADAS DE LA CAPA DE ELASTOMERO FOTOSENSIBLE. DE ACUERDO CON LA INVENCION SE APLICA PARA LA GENERACION DEL MODELO (1A) UN LIQUIDO DE CUBRICION SOBRE LA SUPERFICIE DE LA CAPA DE ALASTOMERO FOTOSENSIBLE, POR EJEMPLO, CON AYUDA DE BOQUILLAS DE PULVERIZACION ELECTROSTATICA.

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA ELABORACION DE UNA PLANTILLA DE IMPRESION.

(01/01/1999). Solicitante/s: LUSCHER, URSULA LUSCHER, HANS. Inventor/es: BERNER, PETER.

PARA LA ELABORACION DE UNA PLANTILLA DE IMPRESION SE DISPONE DE UN TAMIZ DE MALLA FINA, PROVISTO CON UNA CAPA DE FOTOEMULSION NO ILUMINADA. SOBRE ELLA SE CUBREN LOS LUGARES CORRESPONDIENTES, QUE NO SON ILUMINADOS, SEGUN LAS CONDICIONES DE MUESTRA DE ACUERDO CON LA CAPA NO TRANSPARENTE A LA LUZ. LA CAPA SE ELIMINA DESPUES DE LA ILUMINACION DE LOS LUGARES NO RECUBIERTOS. COMO MATERIAL PARA LA CAPA NO PERMEABLE A LA LUZ SE UTILIZA CERA. PARA EVITAR UNA LINEA DE PRINCIPIO NO RECONOCIBLE EN UN TAMIZ DE FORMA TUBULAR EL PRINCIPIO DE MUESTRA SE VARIA DE MANERA REGULAR, PARA EVITAR UNA LINEA DE SEPARACION REMARCADA. COMO VARIACION REGULAR SE CONSIGUE UNA LINEA SINUSOIDAL. CON ELLO PUEDE SER CONSEGUIDO, QUE A TRAVES DE LA CAPA DE CERA SE OBTENGA UNA COBERTURA IMPERMEABLE A LA LUZ Y QUE SE APLIQUE DE FORMA REGULAR.

METODO MEJORADO PARA ENDURECER SELECTIVAMENTE UNA RESINA FOTOSENSIBLE LIQUIDA MEDIANTE EXPOSICION DE ENMASCARAMIENTO.

(16/03/1995). Solicitante/s: YAMASHITA, TAKASHI. Inventor/es: YAMASHITA, TAKASHI, KOJIMA, TSUTOMU.

SE SUMINISTRA UN METODO MEJORADO PARA ENDURECER SELECTIVAMENTE UNA RESINA FOTOSENSIBLE LIQUIDA MEDIANTE EXPOSICION ENMASCARADA EN EL CUAL SE SUMINISTRA UN CONTACTO ASPERO, DESIGUAL O IRREGULAR DIRECTA O INDIRECTAMENTE ENTRE LA PELICULA DE ENMASCARAMIENTO Y EL SUBSTRATO. DEBIDO A ESTA CARACTERISTICA, SE EVITA LA COEXION INTERFACIAL ENTRE LA SUPERFICIE INFERIOR DE LA PELICULA DE ENMASCARAMIENTO QUE MIRA HACIA EL SUBSTRATO Y LA SUPERFICIE SUPERIOR DEL SUBSTRATO QUE MIRA A LA PELICULA DE ENMASCARAMIENTO. DE ESTA FORMA NO EXISTEN BOLSAS DE AIRE FORMADAS ENTRE LAS DOS SUPERFICIES. ADEMAS, NO HAY PELIGRO DE QUE EL SUBSTRATO PUDIERA SOBRESALIR DE LA CAPA DE RESINA DE TAL FORMA QUE LA PLANCHA DE IMPRESION PODRIA TENER UNA DISMINUCION LOCAL NO DESEABLE EN SU GROSOR. COMO RESULTADO MEDIANTE EL METODO DEL PRESENTE INVENTO, SE PUEDE OBTENER UNA LAMINA DE IMPRESION QUE TIENE UN ALTO GRADO DE UNIFORMIDAD EN SU GROSOR, CON BUENA REPRODUCTIBILIDAD.

PROCEDIMIENTO DE DECORACION DE UNA PIEZA EN BRUTO A CONFORMAR, UTILIZACION DE DICHO PROCEDIMIENTO Y PRODUCTOS OBTENIDOS.

(16/06/1992). Solicitante/s: CEBAL. Inventor/es: PHILIPPE, MICHEL, MASSE, CHRISTOPHE.

EL INVENTO TIENE POR PRIMER OBJETO UN PROCEDIMIENTO DE DECORACION EN EL QUE SE CONFORMA UNA PIEZA BRUTA QUE TIENE UNOS PUNTOS DE REFERENCIA, Y SE PREDEFORMA UNA DECORACION A OBTENER TENIENDO EN CUENTA LA EVOLUCION DE LOS PUNTOS DE REFERENCIA EN LA CONFORMACION, A MODO DE PELICULAS UTILIZADAS PARA DECORAR LAS PIEZAS BRUTAS . SEGUN EL INVENTO, LOS PUNTOS DE REFERENCIA ESTA REPARTIDOS POR TODA LA SUPERFICIE CONFORMADA DE FORMA QUE SE PUEDA PROPORCIONAR INFORMACION DE CUALQUIER PUNTO DE ESTA SUPERFICIE, Y SE EFECTUA LA PREDEFORMACION DE LA DECORACION EN LOS PIXELS COLOREADOS CON POSICIONES REFERENCIADAS EN RELACION A LOS PUNTOS DE REFERENCIA. EL PROCEDIMIENTO DEL INVENTO SE UTILIZA EN PARTICULAR PARA LA FABRICACION DE CUERPOS DE LATAS DE CONSERVAS Y OTROS RECIPIENTES O ELEMENTOS DE EMBALAJE CONFORMADOS. EL INVENTO SE REFIERE IGUALMENTE A LOS CUERPOS DE CAJAS, CAPSULAS Y RECIPIENTES CONFORMADOS OBTENIDOS. EL INVENTO SE APLICA EN PARTICULAR EN LA INDUSTRIA DE LAS CONSERVAS ALIMENTARIAS.

PROCEDIMIENTO DE PREPARACION DE CINTAS QUE IMPIDEN EL PASO DE LA LUZ.

(16/12/1987). Solicitante/s: SOMAR CORPORATION.

PROCEDIMIENTO DE PREPARACION DE CINTAS QUE IMPIDEN EL PASO DE LA LUZ. CONSTA DE UNA APLICACION DE UN ADHESIVO SENSIBLE A LA PRESION SOBRE UN SUSTRATO DE PELICULA DE PLASTICO Y SECARLO A UNA TEMPERATURA DETERMINADA Y DURANTE UN TIEMPO, PARA FORMAR UNA CAPA SENSIBLE A LA PRESION Y APLICAR DESPUES UNA MEZCLA QUE COMPRENDE: CAUCHO DE NITRILO, NITROCELULOSA, MEJORADOR DE PEGAJOSIDAD Y COLORANTE QUE IMPIDE EL PASO DE LA LUZ, SEGUIDO DE SECADO PARA FORMAR UNA CAPA EXFOLIABLE QUE IMPIDA EL PASO DE LA LUZ. EL MEJORADOR DE PEGAJOSIDAD ES UN ESTER DE ACIDO GRASO, ESTER DE ACIDO TRIMETILICO COMPUESTO EPOXI O UNA COMBINACION DE ELLOS.

PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE ORIGINALES Y GRAFICOS PARA LA CREACION O PUBLICACION DE EDICIONES.

(16/05/1977). Solicitante/s: ESTUDIOS SAUCE, S.A.

Resumen no disponible.

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