SISTEMAS AUTOMATIZADOS DE DISPENSACION DE GAS HIPERPOLARIZADO SENSIBLE A UNA PRESION DINAMICA, Y PROCEDIMIENTOS Y PRODUCTOS DE PROGRAMA INFOMATIVO ASOCIADOS.

Sistema de producción de gas hiperpolarizado, que comprende: una fuente de gas hiperpolarizado (15) que comprende una célula de bombeo óptico configurada para hiperpolarizar un gas por medio de un intercambio de espín con un metal alcalino bombeado ópticamente,

teniendo la célula de bombeo óptico un volumen conocido, en el que, en funcionamiento, la célula de bombeo óptico tiene una presión asociada por encima de aproximadamente 1 atm; una vía de flujo de gas cerrada (10p) que se extiende entre la fuente de gas hiperpolarizado (15) y un orificio de salida de dispensación, teniendo la vía de flujo de gas (10p) al menos una primera (V1), una segunda (V2), y una tercera (V3) válvulas separadas operables de manera individual situadas en comunicación de fluido con aquella y situadas a lo largo de la vía de flujo de gas (10p), estando la primera válvula (V1) situada corriente arriba de la segunda válvula (V2) y más cerca de la fuente de gas hiperpolarizado (15), en el que la vía de flujo de gas (10p) situada en posición intermedia respecto de la primera, segunda y tercera válvulas separadas, define un primer espacio de retención calibrado (20f) con un volumen asociado que puede cerrarse de manera selectiva respecto del resto de la vía de flujo de gas (10p), estando el orificio de dispensación situado en posición opuesta a la segunda válvula (V2) con relación al primer espacio calibrado (20f); en el que la cuarta (V4) y quinta (V5) válvulas están operativamente asociadas con la vía de flujo de gas (10p) y situadas a lo largo de la vía de flujo de gas opuestas a la tercera válvula (V3) respecto del espacio calibrado (20f), en el que la porción de la vía de flujo de gas situada en posición intermedia respecto de la primera (V1), la segunda (V2), la cuarta (V4) y la quinta (V5) válvulas, define un segundo espacio calibrado (20c); una fuente (30) de gas amortiguador noble, inerte, no polarizado, bajo presión, de calidad médica, situada opuesta a la quinta válvula (V5) con relación al segundo espacio calibrado (20c); un sensor de presión (PG1) asociado operativamente con la vía de flujo de gas (10p); y un módulo de control (12) asociado operativamente con las válvulas (V1, V2, V3, V4, V5) y estando configurados el sensor de presión (PG1) y el módulo de control (12) para dirigir automáticamente la secuencia operativa de la apertura y cierre de las válvulas para capturar una cantidad discreta de, o bien el gas hiperpolarizado o bien del gas amortiguador dentro de un espacio existente entre el primer (20f) y segundo (20c) espacios calibrados para liberar la cantidad discreta del gas hiperpolarizado o del gas amortiguador en su interior a través del orificio de dispensación.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: ARIZONA BOARD OF REGENTS, ACTING ON BEHALF OF ARIZONA STATE UNIVERSITY.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: BOX 873511,TEMPE, AZ 85287-3511.

Inventor/es: KEIM, PAUL, S., ZINNAMON, KRISTEN.

Fecha de Publicación: 16 de Junio de 2007.

Fecha Solicitud PCT: 24 de Enero de 2003.

Clasificación Internacional de Patentes:

G03F1/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, p. ej. mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación.
G03F1/14

Clasificación PCT:

A61K49/06 NECESIDADES CORRIENTES DE LA VIDA. › A61 CIENCIAS MEDICAS O VETERINARIAS; HIGIENE. › A61K PREPARACIONES DE USO MEDICO, DENTAL O PARA EL ASEO (dispositivos o métodos especialmente concebidos para conferir a los productos farmacéuticos una forma física o de administración particular A61J 3/00; aspectos químicos o utilización de substancias químicas para, la desodorización del aire, la desinfección o la esterilización, vendas, apósitos, almohadillas absorbentes o de los artículos para su realización A61L; composiciones a base de jabón C11D). › A61K 49/00 Preparaciones para examen in vivo. › Preparaciones de contraste para la resonancia magnética nuclear (RMN); Preparaciones de contraste para el diagnóstico por imagen por resonancia magnética (MRI).
A61K51/12 A61K […] › A61K 51/00 Preparaciones que contienen sustancias radioactivas utilizadas para la terapia o para el examen in vivo. › caracterizadas por un aspecto físico particular, p. ej. emulsión, microcápsulas, liposomas.
F17C9/04 MECANICA; ILUMINACION; CALEFACCION; ARMAMENTO; VOLADURA. › F17 ALMACENAMIENTO O DISTRIBUCION DE GASES O LIQUIDOS. › F17C RECIPIENTES PARA CONTENER O ALMACENAR GASES COMPRIMIDOS, LICUADOS O SOLIDIFICADOS; GASOMETROS DE CAPACIDAD FIJA; LLENADO O DESCARGA DE RECIPIENTES CON GASES COMPRIMIDOS, LICUADOS O SOLIDIFICADOS (utilización de cámaras o cavidades naturales o artificiales para el almacenamiento de fluidos B65G 5/00; construcción o ensamblaje de depósitos almacenadores empleando las técnicas de la ingeniería civil E04H 7/00; gasómetros de capacidad variable F17B; máquinas, instalaciones o sistemas de refrigeración o licuefacción F25). › F17C 9/00 Métodos o aparatos para el vaciado de gases licuados o solidificados de recipientes no bajo presión. › Recuperación de la energía térmica.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania.

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