CIP-2021 : G03F 1/88 : preparado por los procesos fotográficos para la producción de originales simulando relieve.

CIP-2021GG03G03FG03F 1/00G03F 1/88[1] › preparado por los procesos fotográficos para la producción de originales simulando relieve.

G FISICA.

G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.

G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).

G03F 1/00 Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, p. ej. mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación..

G03F 1/88 · preparado por los procesos fotográficos para la producción de originales simulando relieve.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Método de producción de una imagen en relieve.

(16/03/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: EASTMAN KODAK COMPANY. Inventor/es: BROWN, DAVID, ALI,M, FOHRENKAMM,ELSIE, HELLER,MICHAEL.

Un método de elaboración de una imagen en relieve, comprendiendo el método: (a) proporcionar una película que comprende un material capaz de formar imágenes dispuesto sobre una lámina portadora; (b) formar una imagen de máscara sobre la lámina portadora produciendo zonas expuestas y no expuestas del material capaz de formar imágenes, formando una máscara transferible; (c) poner la máscara transferible que tiene la imagen de máscara próxima a un material fotosensible y transferir la imagen de máscara al material fotosensible que es sensible a radiación curadora UV, de tal modo que el material capaz de formar imágenes se adhiera más al material fotosensible que a la lámina portadora; (d) exponer el material fotosensible a la radiación curadora UV a través de la imagen de máscara, formando un artículo con imagen, en el que la imagen de máscara es sustancialmente opaca a la radiación curadora UV; y (e) revelar el artículo con imagen, formando la imagen en relieve.

PDF original: ES-2569920_T3.pdf

Método de pre-exposición de plancha de impresión de imágenes en relieve.

(05/11/2014) Un método de producción de una plancha de impresión de imágenes en relieve que comprende las etapas de: proporcionar un elemento de impresión fotosensible, comprendiendo dicho elemento de impresión fotosensible una capa fotosensible dispuesta sobre un sustrato de base, donde la imagen deseada se puede crear en una superficie de la capa fotosensible por medio de curado selectivo de la superficie de la capa fotosensible para crear áreas curadas y no curadas en la superficie de la capa fotosensible y donde dicha imagen que se va a crear se encuentra incluida en un archivo de imágenes digitales; proporcionar un archivo de datos de protuberancia de tinta serigráfica…

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