CIP-2021 : C25D 21/08 : Enjuagado.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.
C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B).
C25D 21/00 Procedimientos para el servicio u operación de las células para revestimiento electrolítico.
C25D 21/08 · Enjuagado.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Sistema de galvanoplastia de producción portátil y modular.
(26/02/2020). Solicitante/s: SNAP-ON INCORPORATED. Inventor/es: TABOR,KRAIG A, KASSOUF,THOMAS L, GUEDES,RICARDO M, FORMELLA,GREG P, BIRSCHBACH,ALAN J, EISCH,PETER W, DILLON,GARRY L, KASCHAK,CHAD J, GENTILE,MICHAEL G.
Un sistema de galvanoplastia para revestir objetos, que comprende
un armazón ;
un tanque de revestimiento dispuesto en el armazón ;
una bastidor en forma de U para transportar los objetos hacia y desde el tanque de revestimiento ; y
un dispositivo móvil dispuesto en el armazón y adaptado para permitir que el sistema de galvanoplastia sea móvil;
en donde el bastidor en forma de U tiene un primer ánodo en un primer extremo del bastidor en forma de U , y un segundo ánodo en un segundo extremo del bastidor en forma de U.
PDF original: ES-2782191_T3.pdf
Método para lavar y/o secar una cámara de replicación electroquímica de modelos (ECPR), y mandriles y conjuntos de mandril correspondientes.
(08/06/2016). Solicitante/s: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST). Inventor/es: MÖLLER,PATRIK, FREDENBERG,MIKAEL, LINDGREN,LENNART, SVENSSON,STEFAN, CHAUVET,JEAN-MICHEL, SANTOS,ANTONIO.
Un mandril destinado a asegurar un sustrato o un electrodo maestro durante un proceso de replicación electroquímica de modelos (ECPR), que comprende una superficie de interacción con un electrodo maestro o un sustrato;
medios de aseguramiento para asegurar el sustrato o el electrodo maestro en dicha superficie de interacción ;
una superficie de mandril que rodea circularmente a la superficie de interacción ; y al menos una entrada de secado o lavado y al menos una salida de secado o lavado en dicha superficie de mandril, estando posicionadas dicha al menos una entrada de secado o lavado y dicha al menos una salida de secado o lavado , una en relación con otra, en lados opuestos de la superficie de interacción.
PDF original: ES-2590130_T3.pdf