(16/12/1997). Solicitante/s: BAKELITE AG LACKWERKE PETERS GMBH + CO KG. Inventor/es: LIEBETANZ, KLAUS-PETER, HANSEN, ACHIM, DR., GRUNDKE, ULRICH, ZEHRFELD, JURGEN, DR., SCHARRE, RAINER, PETERS, WERNER.

LOS MEDIOS DE RECUBRIMIENTO RETICULABLES MEDIANTE IRRADIACION CONTIENEN COMO COMPONENTES AGLUTINANTES UN ESTER OLEFINICO NO SATURADO DE UNA RESINA NOVOLACA EPOXIDO Y UN AGLUTINANTE QUE SE OBTIENE MEDIANTE LA TRASFORMACION DE UN COMPUESTO EPOXIDO CON MAS DE 1 GRUPO EPOXIDO POR MOLECULA CON UNO O VARIOS ACIDOS ORGANICOS EN UNA RELACION MOLAR DE LOS GRUPOS EPOXIDOS CON LOS GRUPOS CARBOXILICOS DE 1:0,5 A 0,9 Y TRANSFORMACION CONSIGUIENTE DEL PRODUCTO DE REACCION CON UNO O VARIOS ESTERES NO SATURADOS DE ISOCIANATOCARBAMATO, QUE SE OBTIENE MEDIANTE LA TRASFORMACION DE COMPUESTOS CON AL MENOS DOS GRUPOS DE ISOCIANATO CON ESTERES DE ACIDO ACRILICO, METACRILICO O CIANOACRILICO QUE CONTIENEN GRUPOS HIDROXILOS.

(16/07/1997). Solicitante/s: W.R. CHESNUT ENGINEERING, INC. Inventor/es: BRESSLER, DAVID, E., CALIGARO, DANIEL, CHESNUT, W., RICHARD.

UN MEDIO DE IMPRESION O PORTADOR DE IMAGENES PARA SU APLICACION A UN APARATO O SUBSTRATO DE IMPRESION QUE COMPRENDE UNA COMPOSICION PLASTICA QUE SE APLICA A UN SUBSTRATO DE IMPRESION PARA FORMAR UN REVESTIMIENTO PLASTICO QUE CUBRE EL SUBSTRATO, REVESTIMIENTO PLASTICO QUE SE IMPRIME PARA PROPORCIONAR UN MEDIO DE IMPRESION. LAS COMPOSICIONES PLASTICAS PREFERIDAS SON AQUELLAS QUE INCLUYEN RESINAS EPOXIDICAS TALES COMO LAS RESINAS EPOXIDICAS CICLOALIFATICAS, LOS PRODUCTOS DE REACCION DE EPICLOROHIDRINA Y BISFENOL A, LAS RESINAS EPOXIDICAS DE BISFENOL A MODIFICADAS CON CRESOL NOVOLAC(S), LAS RESINAS EPOXIDICAS-NOVOLAC Y LOS ESTERES DE VINILO BASADOS EN EPOXI-NOVOLAC. LA PRESENTE INVENCION PREVE UN MEDIO DE IMPRESION DE ROTOGRABADO EFICAZ SIN EL USO Y/O DISPOSICION DE PRODUCTOS QUIMICOS PELIGROSOS.

(01/02/1996). Solicitante/s: MONSANTO COMPANY. Inventor/es: LEE, KANG IN.

TERPOLIMEROS DE ESTIRENO MALEADOS MONO-ISO-BUTILO Y MALEADOS MONO-2-(N-BUTOXI)ETILO , EN DONDE LA PROPORCION DE UNIDADES DE ESTIRENO PARA LAS UNIDADES MALEADAS ESTA EN UNA ESCALA DE ALREDEDOR DE 1:1 A 1.6:1 Y LA PROPORCION DE UNIDADES MALEADAS MONO-ISO-BUTILOS PARA LOS MALEADOS MONO-2-(N-BUTOXI)ETILO ESTA EN UNA ESCALA DE ALREDEDOR DE 3:2 A 1:3. LOS TERPOLIMEROS SON UTILES COMO SUBSTANCIAS AGLUTINANTES SOLUBLES ALCALI, PARA LOS COMPUESTOS DE FOTORESISTENCIA.

(16/12/1994). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BLUM, RAINER, REHMER, GERD, SCHUPP, HANS.

EL INVENTO CONSISTE EN UNAS MEZCLAS RADIOREACTIVAS ADECUADAS PARA LA ELABORACION DE POLIMIDOS, POLIISOINDOLOQUINAZOLINDIONES , POLIOXAINDIONES, POLIQUINAZOLINDIONES O POLIQUINAZOLONES A PARTIR DE COMPUESTOS CARBONILO QUE CONTIENEN FASES PREVIAS DETERMINADAS Y DE RESTOS AROMATICOS QUE, EN ESTADO EXCITADO MEDIANTE RADIACION UV, SON CAPACES DE LA ABSTRACCION DEL HIDROGENO Y QUE, AL SER RADIADOS CON LUZ ACTINICA, EXPERIMENTAN UNA DIFERENCIACION DE LA SOLUBILIDAD. SON ADECUADAS PARA LA ELABORACION DE CAPAS AISLANTES Y DE CIRCUITOS IMPRESOS.

(16/11/1994). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY. Inventor/es: BROWN, MCCORMICK, FRED B.

SE PRESENTAN COMPUESTOS ENERGICAMENTE POLIMERIZABLES QUE COMPRENDEN AL MENOS UN MONOMERO DE CIANATO Y COMO AGENTE ENDURECEDOR UN COMPUESTO ORGANOMETALICO. LOS COMPUESTOS SON UTILES EN APLICACIONES QUE REQUIERAN ALTO RENDIMIENTO, TALES COMO UN BUEN COMPORTAMIENTO A ALTA TEMPERATURA; EN COMPUESTOS, PARTICULARMENTE, COMPUESTOS ESTRUCTURALES, ADHESIVOS ESTRUCTURALES, HERRAMIENTAS PARA COMPUESTOS ESTRUCTURALES, APLICACIONES ELECTRONICAS TALES COMO CIRCUITOS IMPRESOS Y ENCAPSULANTES DE SEMICONDUCTORES; ARTES GRAFICAS, MOLDEADO A INYECCION; Y AMALGAMADORE DE ALTO RENDIMIENTO.

(16/08/1994). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BLUM, RAINER, REHMER, GERD, SCHUPP, HANS.

EL INVENTO SE REFIERE A LA ELABORACION DE MEZCLAS ADECUADAS DE POLIAMIDAS, POLIISOINDOLOGINAZOLINDIONES , POLIOXAZINDIONES, POLIGINAZOLINDIONES O POLIGINAZOLONES SENSIBLES A LA RADIACION A PARTIR DE DETERMINADAS FASES PREVIAS Y DE COMPUESTOS DE CARBONILO QUE CONTIENEN RESTOS AROMATICOS, QUE EN UN ESTADO EXCITADO MEDIANTE RADIACION UV SON CAPACES DE LA ABSTRACCION DEL AGUA Y EXPERIMENTAN EXPUESTOS A LA LUZ ACTINICA UNA DIFERENCIACION DE LA SOLUBILIDAD. SON ADECUADAS PARA LA ELABORACION DE CAPAS AISLANTES Y DE LAMINAS A PRESION.

(16/06/1991). Solicitante/s: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Inventor/es: FRECHET, JEAN, M., J., WILLSON, CARLTON GRANT, ALLEN, ROBERT DAVID, TWIEG, ROBERT JAMES.

EN CALOR ESTABLE, EL POLO NEGATIVO DE COMPOSICIONES RESISTENTES SON SUMINISTRADOS PARA SU USO, PARTICULARMENTE EN GRANDES RAYOS X DE LUZ ULTRAVIOLETA Y HACES ELECTRONICAS. LA COMPOSICION COMPRENDE UN ACIDO GENERANTE DE TODA SAL FOTOINICIADORA, UNA FUENTE DE POLIFUNCIONALES CADENAS AROMATICAS ACTIVADAS Y UNA FUENTE DE POLIFUNCIONALES IONES CARBONO, CON AL MENOS UNA DE DICHAS FUENTES SIENDO UN POLIMERO.

(16/10/1986). Solicitante/s: AMERICAN TELEPHONE & TELEGRAPH COMPANY.

PROCEDIMIENTO LITOGRAFICO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES. CONSISTE EN FORMAR UNA REGION DE MATERIAL DELINEABLE SOBRE UN SUSTRATO QUE CONTIENE SILICIO, CUYO MATERIAL COMPRENDE UN POLIMERO QUE INCLUYE AL MENOS UN PRIMER SEGMENTO Y UN SEGUNDO SEGMENTO. CADA UNO DE ESTOS SEGMENTOS CONFIERE UNA PROPIEDAD QUIMICA DIFERENTE A DICHO POLIMERO E INCLUYE AL MENOS 10 UNIDADES MONOMERICAS. LAS SIGUIENTES ETAPAS DE LA FABRICACION SON: DELINEAR DICHO MATERIAL Y CONTINUAR LA REFERIDA FABRICACION MEDIANTE UN PROCEDIMIENTO ELEGIDO ENTRE MORDENTADO (EL MORDENTADO COMPRENDE UN PROCEDIMIENTO QUE UTILIZA UN PLASMA), METALIZACION E IMPLANTACION IONICA.

(01/10/1984). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

PROCEDIMIENTO PARA LA CREACION DE IMAGENES POR CALENTAMIENTO E IRRADIACION CONSECUTIVA CON LUZ ACTINICA.COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE PREPARA UNA MEZCLA LIQUIDA FORMADA POR UN POLIMERIZANTE LATENTE, TERMOACTIVADO, POR UN COMPUESTO FOTOSENSIBLE, POR UN COMPUESTO QUE CONTENGA A LO MENOS UN GRUPO DE 1,2-EPOXIDO, Y POR UN COMPUESTO QUE CONTENGA UN GRUPO DE CHALCONA O DE ESTER DE ACIDO CINAMICO; SEGUNDA, SE DEPOSITA UNA CAPA DE DICHA MEZCLA LIQUIDA SOBRE UN SOPORTE; Y POR ULTIMO, LA CAPA SOLIDIFICADA SE IRRADIA CON LUZ ACTINICA, DE MANERA QUE LAS PARTESEXPUESTAS DE DICHA CAPA SE RETICULEN, QUEDANDO SIN RETICULAR AQUELLAS PARTES PROTEGIDAS QUE FORMAN UN MODELO PREDETERMINADO.

(16/02/1981). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE MOLDES PARA LA FABRICACION DE CIRCUITOS INTEGRADOS DE GRAN ESCALA. SOBRE UNA CAPA DEL ARTICULO A FABRICAR SE SUPERPONE UNA CAPA DE ELABORACION ACTINICA, SENSIBLE A LA RADIACION, SOMETIENDO ESTA A RADIACION SE DEFINE LA FORMA DEL PATRON, PARA QUE POSTERIORMENTE UN AGENTE DE REVELADO ELIMINE LAS ZONAS NO IRRADIADAS Y FINALMENTE UN AGENTE DE ALTERACION ATAQUE LAS ZONAS DEL ARTICULO DONDE NO QUEDA CAPA DE ELABORACION.

(01/09/1980). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY INCORPORATED.

1. Procedimiento de fabricación de circuitos integrados, y/o de circuitos integrados a gran escala, en donde se lleva a cabo una operación durante la cual el circuito a fabricar comprende una superficie de artículo y una capa de procesado actínica superyacente que consiste esencialmente en un material polimérico, y en donde se modela la capa de procesado y se tratan las regiones de la superficie del artículo, sin proteger por la capa de procesado modelada, con un agente de alteración adecuado.

(01/06/1976). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

Resumen no disponible.