(27/11/2019). Solicitante/s: GOO CHEMICAL CO., LTD.. Inventor/es: SAKAI,YOSHIO, HIGUCHI,MICHIYA.

Una composición resistente de soldadura que comprende: (A) una resina que contiene un grupo carboxilo; (B) un compuesto epoxídico; (C) dióxido de titanio; (D) un iniciador de fotopolimerización; y (E) un antioxidante, el componente (B) contiene un compuesto epoxídico de hidroquinona representado por la siguiente fórmula : **(Ver fórmula)** el componente (D) contiene (D1) un iniciador de fotopolimerización a base de óxido de bisacilfosfina y (D2) un iniciador de fotopolimerización a base de α-hidroxialquilfenona, R1, R2, R3 y R4 en la fórmula son independientemente un grupo metilo, un átomo de hidrógeno o un grupo t-butilo; y un punto de fusión del componente (E) está dentro de un intervalo de 50 a 150 °C.

PDF original: ES-2770707_T3.pdf

(05/06/2019). Solicitante/s: Joanneum Research Forschungsgesellschaft mbH. Inventor/es: NEES,DIETER, STADLOBER,BARBARA, RUTTLOFF,STEPHAN, AUNER,CHRISTOPH, BELEGRATIS,MARIA.

Laca de estampado basada en una composición prepolimérica polimerizable UV que contiene por lo menos un monómero de acrilato, caracterizada por que la composición prepolimérica contiene, además del monómero de acrilato, por lo menos un tiol seleccionado de entre el grupo: 3-mercaptopropionatos, mercaptoacetatos, tioglicolatos y alquiltioles, así como un aditivo antiadherente activador de superficie seleccionado de entre el grupo de tensioactivos no iónicos, tales como polietersiloxanos, etoxilatos de alcoholes grasos, tales como polioxietilen- -lauriléteres, (met)acrilatos de alquilo monofuncionales, (met)acrilatos de polisiloxano, (met)acrilatos de perfluoroalquilo y (met)acrilatos de perfluoropoliéter, así como un fotoiniciador.

PDF original: ES-2744336_T3.pdf

(24/05/2016). Solicitante/s: UNIVERSIDAD AUTONOMA DE MADRID. Inventor/es: MANSO SILVAN,Miguel Jose, VALSESIA,ANDREA, MARCHESINI,GERARDO, GARCÍA RUIZ,Josefa Predestinación, PELLACANI,Paola, PARRACINO,María Antonietta.

Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras. La presente invención se refiere a una resina negativa fotosensible de óxidos de metales de transición que comprende un contenido orgánico menor o igual a 20% en peso respecto al peso total de la resina, un contenido inorgánico auxiliar al nominal menor o igual a 0,01% en peso respecto al peso total de la resina y que presenta un índice de refracción desde aproximadamente 1,8 hasta aproximadamente 2,4. La invención además se refiere a estructuras de óxidos de metales de transición obtenidas mediante escritura directa sobe la resina de la invención, así como al método de preparación de la resina de la invención, al método de escritura directa de las estructuras de la invención y a los usos tanto de la resina como de las estructuras.

PDF original: ES-2571177_A1.pdf

PDF original: ES-2571177_B1.pdf

(01/06/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: ECKSTEIN, ERNST, KIHLER, MANFRED, AEBLI, BEAT, MICHAEL, HOLER, MARTIN, KIHLER, INGA, KIHLER, VIVIAN, KIHLER, ANTOIN, KAMRAN.

Una suspensión que no sedimenta, estable al almacenamiento y acuosa, en donde las partículas del sólido en la suspensión de de 12 µm o inferior, que comprende (a) por lo menos un óxido de bis-acilfosfina de fórmula en donde R1 es alquilo C1-C20; alquilo C2-C20 interrumpido por uno o mas átomos de O; alcoxilo C1-C12; fenil-alquilo C1-C4; o fenilo que está sin sustituir o sustituido por alquilo C1- C20, alcoxilo C1-C12, halógeno, ciclopentilo, ciclohexilo, alquenilo C2-C12, alquilo C2-C18 interrumpido por uno o mas átomos de O, y/o por fenil-alquilo C1-C4; o R1 es difenililo; R2 es el radical R3 y R4 son cada uno, independientemente, alquilo C1-C12, alcoxilo C1-C12 o halógeno; y R5 es hidrógeno, alquilo C1-C12, alcoxilo C1-C12 o halógeno; (b) por lo menos un dispersante; (c) agua y, opcionalmente, (d) otros aditivos.

(16/06/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: COATES BROTHERS PLC. Inventor/es: HERLIHY, SHAUN, LAWRENCE, BURROWS, ROGER, EDWARD, ILLSLEY, DEREK, RONALD.

Un fotoiniciador multi-funcional de fórmula (I) R1m-Q-(A1-PI)n (I) en donde Q es un heteroátomo seleccionado entre Si, Ti, Zr y Sn o cualesquiera dos seleccionados de forma independiente entre dichos heteroátomos unido por un enlace covalente o por un grupo alquileno de C1-16, preferiblemente de C1-9; n es al menos 2 y n + m = la funcionalidad de Q; cada R1 es igual o diferente y es un grupo no fotoiniciador; cada grupo PI es igual o diferente y es un grupo fotoiniciador; y cada -A1- es igual o diferente y está seleccionado entre los grupos de unión de fórmula -(A2)p-Z- en donde p tiene un valor promedio comprendido entre 1 y 10, preferiblemente entre 3 y 5 y los grupos -A2- están: (a) seleccionados de forma independiente entre grupos alquilenoxi de C2-4; o (b) están seleccionados de forma independiente entre grupos de fórmula -O-(CH2)qCO- en donde q está comprendido entre 3 y 5, y Z está seleccionado entre -O-, -S- y -NR6- en donde R6 es alquilo de C1-6.

(01/04/2005). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY. Inventor/es: MAHONEY, WAYNE S., PALAZZOTTO, MICHAEL C..

LA PRESENTE INVENCION PROPORCIONA UNA COMPOSICION POLIMERIZABLE POR ENERGIA QUE COMPRENDE AL MENOS UN MONOMERO EPOXIDO O AL MENOS UN MONOMERO DE VINIL - ETER Y UN SISTEMA DE INICIACION DEL MISMO, INCLUYENDO EL SISTEMA DE INICIACION AL MENOS UNA SAL COMPLEJA ORGANOMETALICA Y AL MENOS UN ADITIVO ESTABILIZADOR. LA COMPOSICION ENDURECIDA PERMITE OBTENER ARTICULOS UTILES O ARTICULOS RECUBIERTOS.

(16/03/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: HUG, GEBHARD, WOLF, JEAN-PIERRE.

Monoacilalquilfosfinas organometálicas. Son compuestos correspondientes a las fórmulas I, II o III, en donde los radicales Ar, M, R6, Ax, Y1, Z1, y los radicales subordinados correspondientes se describen en la descripción y en las reivindicaciones. Se describen también procesos para la preparación de estos compuestos. Los compuestos I se usan como materiales de partida para la preparación de mono- o bisacilfosfinas, óxidos de mono- o bisacilfosfinas, o sulfuros de mono- bisacilfosfinas. Los compuestos II y III se usan como iniciadores de fotopolimerización de compuestos monoméricos no volátiles, y compuestos oligoméricos o poliméricos que tengan al menos un doble enlace etilénico insaturado.

(01/03/2005). Solicitante/s: DSM IP ASSETS B.V.. Inventor/es: LAWTON, JOHN, ALAN, CHAWLA, CHANDER, PRAKASH.

Una composición fotosensible que comprende: (a) 30-70% en peso de un material que contiene epóxido; (b) 5-35% en peso de un material acrílico; (c) al menos un fotoiniciador catiónico; y (d) al menos un fotoiniciador por radicales libres, caracterizada porque dicha composición comprende además un componente seleccionado del grupo que consiste en un material que contiene epóxido que tiene una cadena principal de poli(óxido de tetrametileno) o un politetrahidrofurano-poliéter-poliol o un policarbonato-poliol alifático, y en la que la composición, tras el curado completo, tiene (i) un módulo de tracción en el intervalo de 1000 hasta 2000 N/mm2; (ii) un alargamiento a rotura promedio de al menos 10%; y (iii) un esfuerzo a fluencia de 24 hasta 40 N/mm 2.

(01/03/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: HUG, GEBHARD, WOLF, JEAN-PIERRE, AEBLI, BEAT, MICHAEL.

Monoacilarilfosfinas organometálicas. Estos compuestos corresponden a la fórmula I, en la que los radicales M y R1-R10 vienen definidos en la Memoria y en las reivindicaciones. La invención se refiere también a procedimientos para la obtención selectiva de estos compuestos, y a la utilización de ellos para la obtención de mono- o bisacilfosfinas, óxidos de mono- o bisacilfosfinas, o sulfuros de mono- o bisacilfosfinas. También es objeto de la invención una composición fotorreticulable. Los compuestos de la invención se usan para la obtención de acilfosfinas, óxidos de acilfosfinas o sulfuros de acilfosfinas, que se usan como fotoiniciadores de la fotopolimerización de compuestos monoméricos, oligoméricos o poliméricos.

(01/07/2004). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY.

LA PRESENTE INVENCION PROPORCIONA UNA COMPOSICION POLIMERIZABLE DE ENERGIA QUE COMPRENDE AL MENOS UN MONOMERO EPOXIDO O AL MENOS UN MONOMERO DE VINILETER Y UN SISTEMA DE INICIACION PARA EL MISMO, COMPRENDIENDO EL SISTEMA DE INICIACION AL MENOS UNA SAL DE UN COMPLEJO ORGANOMETALICO Y AL MENOS UN ADITIVO DE ESTABILIZACION. LA COMPOSICION CURADA PROPORCIONA ARTICULOS UTILES O ARTICULOS RECUBIERTOS.

(01/04/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALITY CHEMICALS HOLDING INC. Inventor/es: WOLF, JEAN-PIERRE, BIRBAUM,JAEN-LUC, SCHULZ,REINHARD, ILG,STEPHAN, YAMATO,HITOSHI, ASAKURA,TOSHIKAGE.

Sales yodonio como dadores latentes de acido. El invento se refiere a composiciones sensibles a la radiación que contienen, (a1) un compuesto polimerizable o reticulable por cationes o por catálisis ácida o (a2) un compuesto que por acción aumenta su solubilidad en el revelador; y (b) por lo menos una sal diarilyodonio de la fórmula I, en donde X, X{sub,1}, Y, A- y R{sub,1} tienen el significado expuesto en las reivindicaciones. Estas composiciones poseen una gran sensibilidad, una buena estabilidad al almacenaje, buena solubilidad y poca tendencia a cristalizar.

(16/03/2003). Solicitante/s: RHODIA CHIMIE. Inventor/es: DHALER, DIDIER, FRANCES, JEAN-MARC, PRIOU, CHRISTIAN.

Procedimiento de reticulación y/o polimerización por haz de electrones y/o rayos gamma, de composiciones a base de monómeros y/o de polímeros con agrupamientos organofuncionales, caracterizado porque la reticulación y/o polimerización se efectúa en presencia de un iniciador, activable por haz de electrones y/o rayos gamma, que comprende un derivado de boro de fórmula M+B(Ar)44 . (I) en la que: M+, entidad que lleva una carga positiva, es un metal alcalino elegido entre los de las columnas IA y IIA de la clasificación periódica (versión CAS) Ar es un derivado aromático, eventualmente sustituido con al menos un sustituyente elegido entre un radical flúor, un radical cobre, una cadena alquilo lineal o ramificada, que puede ella misma estar sustituida con al menos un grupo electroactractor tal como CnF2n+1, estando n comprendido entre 1 y 18, F, y OCF3.

(01/07/2002). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: SITZMANN, EUGENE VALENTINE, ANDERSON, RUSSELL, FRANK, BARNES, DARRYL, KEITH, PATEL, ASHWIN, B.

SE PROPORCIONA LAS FORMULACIONES DE UN PRECURSOR POLIMERICO ADECUADAS PARA LA ESTEROLITOGRAFIA QUE PUEDEN SER PREPARADAS A PARTIR DE UNAS COMPOSICIONES QUE CONTIENEN COMPUESTOS PUESTOS EN FUNCIONAMIENTO CON ETER DE VINILO Y COMPUESTOS PUESTOS EN FUNCIONAMIENTO CON EPOXIDOS MAS UNA CANTIDAD EFECTIVA DE UN FOTOINICIADOR CATIONICO Y UN COMPUESTO ABSORBENTE DE LA LUZ ULTRAVIOLETA PARA PROPORCIONAR UNA DETERMINADA PROFUNDIDAD DE CURA. PREFERIBLEMENTE, EL COMPUESTO ABSORBENTE DE LUZ ULTRAVIOLETA ES ANTRACENO O SUS DERIVADOS. LOS ANTRACENOS QUE TIENEN UNOS GRUPOS ALCOXIDOS PENDIENTES SON PREFERIDOS PARA SU UTILIZACION CON LONGITUDES DE ONDA DE LUZ MAYORES QUE 360 NM, EN CONCRETO ANTRACENO ETILICO-2 DIMETOXIDO-9,10.

(01/12/2001). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: KUNZ, MARTIN, CUNNINGHAM,ALLAN FRANCIS.

Estos colorantes corresponden a la fórmula , en la que X es, por ejemplo, CH, C-CH{sub, 3} o +NORL-; R es, entre otros, alquilo C{sub, 1}-C{sub, 6}; R{sub, l} es, por ejemplo, alcoxi C{sub, 1}-C{sub, 6} o alquilo C{sub, 1}C{sub, 12}; s es un número de 0 a 4; R{sub, 2} es, por ejemplo, hidrógeno; Ar es, por ejemplo, un grupo (A), (B), (D) o (E); Y es, entre otros, alquilo C{sub, l}-C{sub, 6} o alcoxi C{sub, 1}-C{sub, 6}; en la fórmula (A), r es un número de 0 a 5; en las fórmulas (B) y (E) es un número de 0 a 9, y en la fórmula (D) es un número de 0 a 7; y L es un anión. Los colorantes de la fórmula (I), en combinación con un compuesto dador de electrones, en especial un compuesto borato, son idóneos como fotoiniciadores de la fotopolimerización de composiciones polimerizables por radicales.

(01/09/2001). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: LEPPARD, DAVID, GEORGE, KOHLER, MANFRED, CONTICH,PATRIK.

Composición pigmentada fotorreticulable que contiene (a) por lo menos un compuesto fotopolimerizable provisto de insaturaciones etilénicas, (b) como fotoiniciador un compuesto del tipo óxido de mono-, bis- o trisacilfosfina o una mezcla de tales compuestos con una -hidroxicetona, -aminocetona y/o derivados de benzoina, (c) un blanqueante óptico, y (d) un pigmento. El compuesto óxido de mono-, bis- o trisacilfosfina del apartado (b) es un compuesto de fórmula I, en la que R{sub, 1}, R{sub, 2} y R{sub, 3} tienen el significado expresado en las reivindicaciones. El compuesto a- hidroxicetona, a-aminocetona o derivados de benzoina es un compuesto de fórmula II en la que R{sub, 4}, R{sub, 5}, R{sub, 6} y R{sub, 7} tienen el significado expresado en las reivindicaciones. Las composiciones de la invención presentan una reticulación en profundidad muy buena, siendo especialmente idóneas como materiales de recubrimiento, por ejemplo como pinturas blancas.

(16/03/2001). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: DOMINGUEZ HORNA,CARLOS, MUÑOZ PASCUAL,FRANCISCO J.

Procedimiento de fotoenmascaramiento de poliimidas fotosensibles con compuestos organometálicos para procesos fotolitográficos en tecnología de silicio. Es un proceso fotolitográfico monocapa sobre topografías irregulares que se basa en la silanización superficial de los grupos metacrilato del ácido poliámico precursor de la poliimida fotosensible para que actúen como máscara ante el revelado por plasma en modo RIE, con oxígeno como gas reactivo. El proceso permite la obtención de motivos positivos o negativos, con respecto a la máscara, utilizando los mismos precursores fotosensibles ya que esto depende únicamente de la secuencia con que se realicen los pasos de exposición y silanización. Este proceso puede aplicarle a la fotodefinición de capas poliméricas de cualquier espesor. Aplicación en la encapsulación se sensores químicos, módulos multichip, tecnología microelectrónica, sectores electrónicos, óptica integrada.

(16/10/2000). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Inventor/es: KOHLER, MANFRED, LEPPARD, DAVID G., DR.

COMPUESTOS DE LA FORMULA I DONDE Z ES OXIGENO O AZUFRE, N Y M DE FORMA INDEPENDIENTE UNO DE OTRO SIGNIFICAN 0 O 1, Y R1, R2, R3, R4 Y X SE DEFINEN COMO EN LA SOLICITUD 1, SON APROPIADOS COMO FOTOINICIADORES PARA POLIMERIZACION DE COMPUESTOS NO SATURADOS ETILENICAMENTE.

(16/04/2000). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SIEGEL, WOLFGANG, LOKAI, MATTHIAS, SCHROEDER, JOCHEN, DR.

OXIDO DE ARENBISFOSFINA DE LA FORMULA GENERAL DONDE LOS RESTOS R1 HASTA R4 INDEPENDIENTE UNO DE OTRO SON UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO C1 C10 C5 ENO O AZUFRE EN EL SISTEMA DE ANILLO O 1 O 2 ATOMOS DE HALOGENO, PUEDEN PORTAR GRUPOS C1 ITUYENTES EN EL SISTEMA DE ANILLO O SON UN GRUPO C1 OXI, UN GRUPO C3 ILOXI O UN GRUPO C7 UNTA FORMAN UN PUENTE DESDE 2 HASTA 10 ATOMOS DE CARBONO, CON LO CUAL TAMBIEN PUEDEN SER UNA PARTE DEL COMPONENTE DE ATOMO DE CARBONO DE UN ANILLO AROMATICO.