CIP-2021 : G03F 7/008 : Azidas (G03F 7/075 tiene prioridad).

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G FISICA.

G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.

G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).

G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

G03F 7/008 · · Azidas (G03F 7/075 tiene prioridad).

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

COMPOSICION FOTOSENSIBLE Y PROCEDIMIENTO DE FORMACION DE DIBUJOS.

(01/04/2004). Solicitante/s: TOYO GOSEI KOGYO CO., LTD. Inventor/es: WATANABE, MASAHARU-PHOTO. MATERIALS RESEARCH LAB, TOCHIZAWA, NORIAKI-PHOTOSENSITIVE MATERIAL RES.LAB, IMAMURA, YUKARI-PHOTOSENSITIVE MATERIALS RES. LAB., KIKUCHI, HIDEO-PHOTOSENSITIVE MATERIALS RES. LAB.

COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES PREPARADAS SIN USO DE UN COMPUESTO DE CROMO. LAS COMPOSICIONES PRESENTAN UNA ALTA RESOLUCION Y SENSIBILIDAD SATISFACTORIA Y NO CAUSAN CONTAMINACION MEDIOAMBIENTAL. LAS COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES CONTIENEN UN COMPUESTO DE AZIDA HIDROSOLUBLE, QUE SIRVE COMO UN AGENTE DE FOTOENLACE CRUZADO Y POLI(N-VINILFORMANIDA) QUE ES FOTOENLAZABLE DE MANERA CRUZADA EN LA PRESENCIA DEL COMPUESTO DE AZIDA HIDROSOLUBLE.