MÉTODO Y APARATO PARA EL TRATAMIENTO CON PLASMA DE LÍQUIDOS EN FORMA CONTINUA.

La invención se refiere a un método, cámara de reacción y sistema para el tratamiento líquidos en forma continua,

caracterizado porque comprende las siguientes etapas: a) recibir un flujo de líquido a tratar en una cámara de reacción, a través de al menos una abertura de entrada en dicha cámara de reacción, dirigiendo dicho flujo de líquido a tratar hacia una sección de entrada de la cámara de reacción; b) convertir el flujo de líquido a tratar en un flujo bifásico líquido-gas en dicha sección de entrada; c) dirigir el flujo bifásico hacia una sección intermedia de la cámara de reacción, donde se aplica un campo eléctrico; d) ionizar la fracción gaseosa del flujo bifásico que circula a través de dicha sección intermedia, producto de la interacción entre el flujo bifásico y el campo eléctrico aplicado; e) mantener un régimen de ionización, generando plasma no térmico a lo largo de la sección intermedia de la cámara de reacción, en donde dicho régimen se mantiene por medio del control del campo eléctrico aplicado en dicha sección intermedia; f) dirigir el flujo bifásico en régimen de ionización hacia una sección de descarga de la cámara de reacción, separada de la sección intermedia donde se aplica el campo eléctrico, generando desionización de la fracción gaseosa, y produciendo una pérdida de velocidad en el flujo de líquido que resulta en la condensación del flujo bifásico; y g) retirar un flujo de líquido tratado desde dicha sección de descarga, a través de al menos una abertura de descarga en la cámara de reacción.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/IB2018/059072.

Solicitante: AIC Chile SpA.

Nacionalidad solicitante: Chile.

Dirección: Avenida El Parque 375, oficina 203 Concón, CHILE.

Inventor/es: ZOLEZZI-GARRETON,ALFREDO, SAONA ACUÑA,Maximiliano, VIÑUELA SEPÚLVEDA,Rubén, CONTRERAS MACHUCA,Roberto, ZOLEZZI CAMPUSANO,Alfredo, KNOP RODRÍGUEZ,Frederik, URRUTIA PIEPER,Javier.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C02F1/46 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C02 TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS.C02F TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS (procedimientos para transformar las sustancias químicas nocivas en inocuas o menos perjudiciales, efectuando un cambio químico en las sustancias A62D 3/00; separación, tanques de sedimentación o dispositivos de filtro  B01D; disposiciones relativas a las instalaciones para el tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla en los buques, p. ej. para producir agua dulce, B63J; adición al agua de sustancias para impedir la corrosión C23F; tratamiento de líquidos contaminados por radiactividad G21F 9/04). › C02F 1/00 Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla (C02F 3/00 - C02F 9/00 tienen prioridad). › por procesos electroquímicos.

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