Derivados de 3-fenil-benzofuran-2-ona que contienen fósforo como estabilizadores.

Una composicion que comprende

a) un material organico susceptible a la degradacion oxidativa,

termica o inducida por la luz, y

b) un compuesto de formula I-P, I-O o I-M

**(Ver fórmula)**

en la que

YP, YO y YM son oxigeno o representan un enlace covalente; cuando YP, YO y YM son oxigeno,

R1P representa una de las subformulas II-P, II-O o II-M

**(Ver fórmula)**

R1O representa una de las subformulas II-O o II-M,

R1M representa la subformula II-M, o

R1P junto con R2P, R1O junto con R2O y R1M junto con R2M representan una de las subformulas III, IV o V

**(Ver fórmula)**

R1P, R1O y R1M son alquilo C6-C10, que no esta sustituido o esta sustituido por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halogeno o un fenilo, alquilo C1-C18, cicloalquilo C3-C16, aralquilo C7-C13, alquenilo C2-C18, alquilo C2-C30, que esta interrumpido por uno o mas atomos de oxigeno, o alquilo C2-C16, que esta interrumpido por un atomo de azufre, y

R2P representa una de las subformulas II-P, II-O o II-M,

R2O representa una de las subformulas II-O o II-M,

R2M representa la subformula II-M, o

R2P junto con R1P, R2O junto con R1O y R2M junto con R1M representan una de las subformulas III, IV o V, o

R2P, R2O y R2M son alquilo C6-C10, que no esta sustituido o esta sustituido por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halogeno o

un fenilo, alquilo C1-C18, cicloalquilo C3-C16, aralquilo C7-C13, alquenilo C2-C18, alquilo C2-C30, que es interrumpido por uno o mas atomos de oxigeno, o alquilo C2-C16, que es interrumpido por un atomo de azufre;

cuando YP, YO y YM representan un enlace covalente,

R1P representa una de las subformulas II-P, II-O o II-M,

R1O representa una de las subformulas II-O o II-M,

R1M representa la subformula II-M, o

R1P, R1O y R1M son alquilo C6-C10, que no esta sustituido o esta sustituido por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halogeno o

un fenilo, alquilo C1-C18, cicloalquilo C3-C16, aralquilo C7-C13, alquenilo C2-C18, alquilo C2-C30, que esta interrumpido por uno o mas atomos de oxigeno, o alquilo C2-C16, que esta interrumpido por un atomo de azufre, y

R2P, R2O y R2M son alquilo C6-C10, que no esta sustituido o esta sustituido por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8, halogeno o un fenilo;

R4, R5, R6 y R7 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8,

RP2, RP3, RP5 y RP6 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8,

RO1, RO2, RO5 y RO6 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8,

RM1, RM3, RM5 y RM6 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8,

Ra1, Ra2, Ra3 y Ra4 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8,

Rb1, Rb2, Rb3, Rb4, Rb5 y Rb6 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8, y

Rc1, Rc2, Rc3 y Rc4 son independientemente uno del otro hidrogeno o alquilo C1-C8.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2016/068657.

Solicitante: BASF SE.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: Carl-Bosch-Strasse 38 67056 Ludwigshafen am Rhein ALEMANIA.

Inventor/es: PAUQUET, JEAN-ROCH, HOELZL,WERNER, KING,ROSWELL III.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C08K5/523 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES.C08K UTILIZACION DE SUSTANCIAS INORGANICAS U ORGANICAS NO MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE LA COMPOSICION (colorantes, pinturas, pulimentos, resinas naturales, adhesivos C09). › C08K 5/00 Utilización de ingredientes orgánicos. › con compuestos hidroxiarílicos.
  • C08K5/526 C08K 5/00 […] › con compuestos hidroxiarílicos.
  • C08K5/53 C08K 5/00 […] › unido únicamente a oxígeno y carbono.
  • C08K5/5317 C08K 5/00 […] › Compuestos fosfónicos, p. ej. R — P(:O)(OR') 2.
  • C08K5/5333 C08K 5/00 […] › Esteres de ácidos fosfónicos.

PDF original: ES-2814128_T3.pdf

 

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