Procedimiento de lucha contra la aparición de neblina durante el recubrimiento de soportes flexibles con una composición de silicona líquida reticulable, en un dispositivo de cilindros.

Procedimiento de lucha contra la aparición de neblina ("bruma") durante el recubrimiento de soportes flexibles que comprende las etapas I) y II) siguientes:

I) la preparación de una composición de silicona líquida X precursora de revestimiento(s) de silicona que comprende:

- al menos un poliorganosiloxano A reticulable por poliadición, por deshidrogenocondensación, por policondensación, por vía catiónica o por vía radicalaria,

- eventualmente al menos un compuesto organosilícico reticulante B,

- eventualmente al menos un catalizador o fotocebador C cuya naturaleza se selecciona según el tipo de reacción considerada para dicho poliorganosiloxano A,

- eventualmente, al menos un sistema modulador de adherencia K, et

- eventualmente al menos un inhibidor de reticulación D; et

II) el recubrimiento de dicha composición de silicona líquida X sobre un soporte flexible con la ayuda de un dispositivo de recubrimiento de cilindros,

caracterizándose dicho procedimiento por que en la etapa I) se añade a dicha composición de silicona líquida X un aditivo anti-neblina E (aditivo "antibruma") que tiene las características siguientes:

- se presenta en una forma líquida, eventualmente tras una dilución con la ayuda de un diluyente J', de un disolvente J" o en unos de los constituyentes de dicha composición de silicona líquida X, y

- es susceptible de obtenerse:

1) haciendo reaccionar, preferentemente a una temperatura comprendida entre 0°C y 200°C uno o varios compuestos seleccionados entre los compuestos a) a d) siguientes:

a) una resina organosilícico F (eventualmente diluida con la ayuda de un diluyente J', de un disolvente J" o en uno de los constituyentes de dicha composición de silicona líquida X) que comprende en su estructura, al menos dos unidades silóxilos diferentes seleccionadas entre las de fórmula:

- (R1)3SiO1/2 (unidad M),

- (R1)2SiO2/2 (unidad D),

- R1SiO3/2 (unidad T), et

- SiO4/2 (unidad Q),

unidades en las que:

- los radicales R1, idénticos o diferentes, se seleccionan entre los radicales alquilo lineales o ramificados de C1 a C6, los radicales alquenilos de C2 a C4, fenilo, trifluoro-3,3,3 propilo con, como condiciones:

- que una al menos de estas unidades sea una unidad T o Q, y

- que dicha resina organosilícica F comprenda unos grupos ≡SiOH y/o ≥SiOR2, siendo el contenido ponderal en grupos OH y/o OR2 comprendido entre el 0,2 y el 10% en peso, siendo R2 un radical alquilo lineal o ramificado de C1 a C6,

b) un compuesto organosilicié N de fórmula general:

R3 dSi X4-d

en la que R3 es un grupo hidrocarbonado monovalente que tiene de 1 a 5 átomos de carbono, X es un grupo hidrolizable y d tiene un valor medio ≤ 1;

c) un condensado L parcialmente hidrolizado de dicho organosiliciado N;

d) un condensado M de dicha resina organosilícica F con dicho compuesto organosiliciado N o dicho condensado L;

- con:

e) al menos un monómero, oligómero y/o polímero organosiloxano G de fórmula:**Fórmula**

en la que: 1 ≤ f ≤ 2000, preferentemente 1 ≤ f ≤ 1000. - en presencia:

- de al menos un catalizador de policondensación H,

- de eventualmente una carga Z, y

- de eventualmente al menos un diluyente J' o un disolvente J", y

2) aislando el aditivo anti-neblina E, eventualmente después de la eliminación del catalizador de condensación H y/o desvolatilización y/o neutralisación.