Composición de poliamida ignífuga libre de halógeno.
Una composición termoplástica de poliamida ignífuga libre de halógeno que comprende:
a) al menos un polímero de poliamida termoplástica,
b) al menos una sal metálica de ácido hipofosforoso como un primer componente ignífugo
c) al menos un agente ignífugo a base de nitrógeno, como un segundo componente ignífugo
d) al menos un aditivo polihídrico orgánico, como un tercer componente ignífugo, seleccionado de pentaeritritol, dipentaeritritol, polipentaeritritol o sus mezclas
e) aditivos convencionales.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/IB2011/002263.
Solicitante: ITALMATCH CHEMICALS S.P.A..
Inventor/es: ZUCCHELLI,UGO.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- C08K5/00 QUIMICA; METALURGIA. › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES. › C08K UTILIZACION DE SUSTANCIAS INORGANICAS U ORGANICAS NO MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE LA COMPOSICION (colorantes, pinturas, pulimentos, resinas naturales, adhesivos C09). › Utilización de ingredientes orgánicos.
- C08K5/053 C08K […] › C08K 5/00 Utilización de ingredientes orgánicos. › Alcoholes polihidroxílicos.
- C08K5/3492 C08K 5/00 […] › Triazinas.
- C08K5/51 C08K 5/00 […] › Fósforo enlazado a oxígeno.
PDF original: ES-2577178_T3.pdf
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