Procedimiento y dispositivo para el tratamiento con plasma por el lado interior de cuerpos huecos.

Procedimiento para el tratamiento con plasma de unas piezas de trabajo en forma de cuerpos huecos,

en el que dentro de una cámara del reactor es puesta en vacío por lo menos parcialmente una zona de tratamiento, un gas de proceso se introduce en la zona de tratamiento, en particular en la pieza de trabajo, y mediante una energía electromagnética irradiada se genera un plasma en el entorno de por lo menos una parte de la superficie de la pieza de trabajo, caracterizado por que el plasma durante una excitación de un gas mediante una descarga de efluvios se inflama en un recinto (28) separado de la cámara (2) del reactor mediante una irradiación de energía electromagnética en el gas de proceso introducido y por que el gas de proceso durante el tratamiento con plasma circula a través de la zona de tratamiento entre extremos opuestos de la zona.

Procedimiento y dispositivo para el tratamiento con plasma por el lado interior de cuerpos huecos El invento se refiere de modo general al tratamiento con plasma por el lado interior de unos substratos que tienen la forma de cuerpos huecos, en particular de unos substratos con unos pequeños diámetros tales como por ejemplo unos típicos envases para productos farmacéuticos.

A partir del documento de patente europea EP 1 206 389 B1 se conocen un procedimiento y un dispositivo para el envasado en condiciones estériles de materiales dentro de recipientes de materiales sintéticos. En este caso se lleva a cabo un tratamiento con plasma, p.ej. una esterilización con plasma, en la que se llevan a cabo una excitación espacial y/o cronológicamente selectiva del plasma en diferentes zonas de las paredes del recipiente. Con el procedimiento y el dispositivo se debe de poder llevar a cabo un envasado aséptico e incluso exento de pirógenos en el caso de productos farmacéuticos, de líquidos dentro de unos recipientes de materiales sintéticos, tales como ampollas, botellas o viales y se debe de poder combinarlo con otras etapas de tratamiento.

El documento EP 1 251 190 A1 describe un procedimiento para el revestimiento uniforme de cuerpos huecos, siendo cerrado con una tapa uno de los extremos abiertos de un cuerpo hueco de un modo estanco a los gases, siendo empleado el cuerpo hueco en un reactor de CVD (acrónimo de Chemical Vapor Deposition" = deposición química desde la fase de vapor) inducida por plasma, aplicándose un vacío al cuerpo hueco, ajustándose una temperatura de revestimiento y efectuándose el revestimiento inducido por plasma.

Por lo demás, a partir del documento de patente alemana DE 196 29 877 C1 se conocen un procedimiento de CVD y un dispositivo para efectuar el revestimiento interior de cuerpos huecos, en cuyos casos se puede predecir, ya durante la producción, la calidad del revestimiento. En este caso se trata de un procedimiento con impulsos y plasma, en el que el plasma es inflamado por una sucesión cronológica de impulsos de inflamación, midiéndose, tanto durante la fase de calentamiento como también durante la fase de revestimiento, la correlación cronológica de los impulsos de luz de un plasma de oxígeno con los impulsos de inflamación, así como la intensidad de por lo menos una línea de emisión del gas, y evaluándose durante la fase de revestimiento.

El documento DE 196 34 795 C2 describe una instalación de CVD con plasma que comprende una fila (del inglés "array") de electrodos en plasma y microondas y un circuito de regulación. En cada caso dos electrodos en plasma contiguos son cargados en tal caso, mediante el circuito de regulación, en diferentes momentos, con impulsos de microondas, siendo la duración de los impulsos breve en comparación con la duración de un impulso que se emplea usualmente para los procedimientos de CVD con plasma e impulsos.

A partir del documento DE 44 38 359 C2 se conoce un recipiente que está constituido a base de un material sintético, con un revestimiento de barrera, consistiendo el revestimiento de barrera en un paquete de capas que está provisto de unas capas de barrera dispuestas secuencialmente, constituidas a base de uno o varios óxidos, nitruros u oxinitruros inorgánicos o de una mezcla de materiales inorgánicos que se compone de éstos, y de un material polimérico orgánico. El paquete que capas contiene en tal caso por lo menos dos capas de barrera que están constituidas a base del material inorgánico. Las capas se depositan preferentemente mediante una polimerización en plasma.

Un proceso para el revestimiento interior de cuerpos huecos es conocido a partir de otras publicaciones. Así, a partir del documento de solicitud de patente alemana DE 31 16 026 A1 se conoce un procedimiento para la producción de unas capas biocompatibles sobre los lados interiores y/o los lados exteriores de unas prótesis vasculares y de unos tubos flexibles que están destinados a entrar en contacto con sangre o con otros líquidos biológicos. En este caso se describe una deposición de unas capas con un plasma a baja presión dentro de un tubo de reacción, con el que está conectado un sistema combinado de bombeo y de mezcladura de gases así como un sistema de aportación de gases. El plasma que está destinado a realizar el proceso de revestimiento con unos materiales tales como carbono, silicio, un poli (acrilonitrilo) o un poli (tetrafluoroetileno) , es conseguido a través de unos electrodos anulares concéntricos, que son abastecidos inductivamente con una potencia de alta frecuencia.

El documento EP 1 251 190 A1 divulga un procedimiento que está destinado a revestir a unos cuerpos huecos que son ejecutados por ejemplo como cuerpos de jeringas por medio de un plasma inflamado dentro de un reactor para la deposición química a partir de la fase gaseosa (CVD) .

El procedimiento y el dispositivo del documento del documento de solicitud de patente internacional WO 02/36850 A2 sirve también para realizar el revestimiento del interior de cuerpos huecos. En este caso se genera un plasma producido por medio de una irradiación de microondas, pero no en el espacio interior de los cuerpos huecos.

El documento WO 2004/031438 A1 describe un procedimiento para el tratamiento con plasma de unas piezas de trabajo que tienen la forma de cuerpos huecos, en el que un gas de proceso se incorpora o respectivamente se

evacua, es decir se evacua por bombeo, durante el tratamiento con plasma entre lados opuestos del recinto de tratamiento. El procedimiento de revestimiento, que se ha empleado y descrito para efectuar el revestimiento de unos cuerpos huecos tales como tubos flexibles de material sintético plástico, usa una fuente de HF (alta frecuencia) de 13, 56 MHz, para la generación de un plasma y trabaja con unas presiones de revestimiento de 0, 3 -15 mbar.

Un electrodo anular es sostenido de un modo simétrico en rotación junto a la envoltura de calibración tubular, que al mismo tiempo forma el potencial opuesto al electrodo anular. Ciertamente las envolturas de calibración tubulares deben ser intercambiables para la adaptación a diferentes diámetros de los tubos pero no es insignificante el gasto en equipamiento.

Finalmente, el documento EP 0 773 167 A1 describe un procedimiento y un dispositivo para la producción de unos recipientes de materiales sintéticos ejecutados, entre otras formas, a modo de botellas, que se revisten con una película de carbono. En este caso, junto a un electrodo introducido dentro del recipiente se emplea un electrodo exterior, que forma un espacio en vacío.

También en el documento de patente japonesa JP 05 255 857 A1 se describe una deposición de películas mediante un plasma de CVD dentro de unos cuerpos huecos de forma tubular, que se pueden hacer girar durante el proceso de revestimiento.

El invento se basa en la misión de mejorar el tratamiento con plasma de unos cuerpos huecos pequeños y/o estirados longitudinalmente, con unas secciones transversales estrechas. El revestimiento de tales piezas de trabajo que tienen la forma de cuerpos huecos es un desafío técnico, que a pesar de muchos modos de abordarlo existentes, hasta ahora se había resuelto solamente de un modo insuficiente.

El problema planteado por esta misión es resuelto ya de un modo sorprendentemente muy sencillo, por medio del objetivo de las reivindicaciones independientes. Unas formas de ejecución y unos perfeccionamientos ventajosos/as del invento se indican en las reivindicaciones secundarias.

Por consiguiente, el invento prevé un procedimiento para el tratamiento con plasma de unas piezas de trabajo, en el que dentro de una cámara del reactor se pone en vacío por lo menos parcialmente una zona de tratamiento, se introduce un gas de proceso dentro de la zona de tratamiento, tal como por ejemplo la cavidad de la pieza de trabajo y por medio de una energía electromagnética irradiada se genera un plasma en el entorno de por lo menos una parte de la superficie de la pieza de trabajo. En tal caso, el plasma es inflamado durante una excitación de un gas mediante una descarga de efluvios en un recinto que está separado con respecto de la cámara del reactor, por medio de una irradiación de energía electromagnética dentro del gas de proceso introducido, y el gas de proceso circula a través de la zona de tratamiento entre unos extremos opuestos de la zona durante el tratamiento con plasma. Al realizar la excitación resultan unas especies ricas en energía en forma de partículas excitadas y de una radiación rica en energía, que apoyan a la inflación del plasma.

Un correspondiente dispositivo para el tratamiento con plasma de piezas de trabajo, que está organizado en particular... [Seguir leyendo]

1. Procedimiento para el tratamiento con plasma de unas piezas de trabajo en forma de cuerpos huecos, en el que dentro de una cámara del reactor es puesta en vacío por lo menos parcialmente una zona de tratamiento, un gas de proceso se introduce en la zona de tratamiento, en particular en la pieza de trabajo, y mediante una energía electromagnética irradiada se genera un plasma en el entorno de por lo menos una parte de la superficie de la pieza de trabajo, caracterizado por que el plasma durante una excitación de un gas mediante una descarga de efluvios se inflama en un recinto (28) separado de la cámara (2) del reactor mediante una irradiación de energía electromagnética en el gas de proceso introducido y por que el gas de proceso durante el tratamiento con plasma circula a través de la zona de tratamiento entre extremos opuestos de la zona.

2. Procedimiento de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado por que el tratamiento con plasma se lleva a cabo exclusivamente por el lado interior (13) del cuerpo huerco (10) .

3. Procedimiento de acuerdo con la reivindicación 1 ó 2, caracterizado por que el tratamiento con plasma se lleva a cabo exclusivamente por el lado exterior de la pieza de trabajo (10) .

4. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 hasta 3, caracterizado por que el tratamiento con plasma se lleva a cabo tanto por el lado interior (13) como también por el lado exterior del cuerpo hueco (10) y por que de manera preferida los tratamientos con plasma son diferentes por el lado interior (13) y por el lado exterior del cuerpo hueco (10) o repercuten de diferente manera sobre las superficies.

5. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que la pieza de trabajo

(10)

i) está conformada en forma de cilindro o de una manera similar a la de un cilindro y tiene un diámetro exterior máximo comprendido entre 1 mm y 50 mm, de manera preferida entre 3 mm y 30 mm, de manera especialmente preferida de 5 mm a 20 mm y tiene una altura de 10 mm a 200 mm, de manera preferida de 30 mm a 150 mm, de manera especialmente preferida de 50 mm a 100 mm, o ii) tiene un diámetro interior máximo comprendido entre 1 mm y 50 mm, de manera preferida entre 2 mm y 29 mm, de manera especialmente preferida de 4 a mm a 20 mm y una altura de 10 mm a 200 mm, de manera preferida de 30 mm a 150 mm, de manera especialmente preferida de 50 mm a 100 mm y tiene un espesor de pared de 0, 2 mm a 10 mm, de manera preferida de 0, 3 mm a 8 mm, de manera especialmente preferida de 2 mm a 5 mm, o iii) por que la pieza de trabajo comprende una segunda conformación (15) cilíndrica o similar a la de un cilindro con un diámetro más pequeño y una más pequeña que son menores por lo menos en un 20 % de manera preferida menores en un 50 % que el diámetro máximo y la altura, o iv) por que la pieza de trabajo (10) comprende una segunda conformación (15) cilíndrica o similar a la de un cilindro con un diámetro más pequeño y una longitud más pequeña, que tiene un diámetro interior a modo de una cánula preferiblemente estrecho, comprendido entre 0, 01 y 15 mm, de manera especialmente preferida entre 0, 05 y 4 mm, o v) tiene un volumen situado en el intervalo de 0, 1 -100 ml, de manera preferida en el intervalo de 0, 2 y 40 ml de manera especialmente preferida de 0, 5 -20 ml.

6. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que la pieza de trabajo (10) está conformada en forma cilíndrica o similar a la de un cilindro, con una primera superficie cilíndrica o similar a la de un cilindro y tiene una conformación (11) cilíndrica o similar a la de un cilindro con una segunda superficie cilíndrica o similar a la de un cilindro (15) , siendo aplicada sobre la primera superficie cilíndrica o similar a la de un cilindro por lo menos una delgada capa que tiene un espesor de capa D1 y sobre la segunda superficie similar a la de un cilindro se aplica la capa que tiene un espesor D2, cumpliéndose para la relación de los espesores D1 y D2 que 0, 2 D2/D1 5, de manera preferida 0, 4 D2/D1 1, 5, de manera especialmente preferida 0, 7 D2/D1 1, 2.

7. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que el gas de proceso se introduce en la zona de tratamiento a través de por lo menos una cánula (64) , cuyo diámetro interior del orificio está situado entre 0, 1 y 5, 0 mm, de manera preferida entre 0, 2 y 3, 0 mm, de manera especialmente preferida entre 0, 3 mm y 2, 0 mm y cuyo espesor de pared está situado entre 0, 05 mm y 3, 0 mm, de manera preferida entre 0, 1 mm y 2, 0 mm, de manera especialmente preferida entre 0, 15 mm y 1, 0 mm.

8. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que la pieza de trabajo

(10) es puesta en vacío a través de un orificio (12) situado junto a un primer extremo y el gas de proceso es introducido a través de otro orificio (16) situado junto a un segundo extremo (15) de la pieza de trabajo (10) , que está opuesto al primer extremo y por que de manera preferida se ha introducido y acoplado energía electromagnética en una dirección axial, de manera especialmente preferida de manera axialmente simétrica con respecto a la pieza de trabajo (10) .

9. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que unos cuerpos de jeringas (10) son tratados con plasma por el lado interior.

10. Procedimiento de acuerdo con la reivindicación 9, en el que la cavidad (13) de la jeringa (10) es puesta en vacío a través de su orificio (12) para el embolo.

11. Procedimiento de acuerdo con la reivindicación 9 ó 10, siendo aportado el gas de proceso a través del cono Luer

(15) del cuerpo de la jeringa (10) .

12. Procedimiento de acuerdo con la reivindicación 9 ó 10, siendo aportado el gas de proceso a través del orificio (16) para el embolo del cuerpo de la jeringa (10) .

13. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que el tratamiento con plasma comprende por lo menos una, y de manera preferida dos de las siguientes etapas: revestimiento con plasma, activación con plasma, tratamiento previo con plasma, limpieza o purificación con plasma, inmersión en plasma, modificación con plasma y esterilización con plasma.

14. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que con el tratamiento

con plasma se deposita por lo menos una capa que i) posee un efecto de barrera contra los gases, o ii) tiene un efecto de barrera contra ciertas partes componentes de la pieza de trabajo, tales como por ejemplo las comunicaciones de salida o secundarias o extremas procedentes de la producción de la pieza de trabajo, o que iii) posee una capa de barrera con un efecto de barrera química, o iv) se deposita una capa de protección contra los arañazos o v) se deposita una capa reflectora de los rayos UV o absorbente de los rayos UV, o vi) se deposita una capa conferidora de color, de manera preferida una capa que aparece de color azul, o vii) se deposita una capa de azogamiento o eliminadora de reflejos.

15. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que se trata una superficie de un material sintético de la pieza de trabajo (10) que contiene por lo menos uno de los siguientes materiales: unos hidrocarburos policíclicos, tales como p.ej. unos polímeros o copolímeros cíclicos, de manera preferida unos copolímeros o polímeros poliolefínicos cíclicos, de manera especialmente preferida un COC, en particular el Topas o un COP, unos policarbonatos, de manera preferida unos policarbonatos que se pueden tratar en un autoclave, unos poli (tereftalatos de etileno) (PET) o unos PETG, un poliestireno, un polietileno, tal como un MDPE, pero en particular un HDPE o un LDPE, un polipropileno, también un polipropileno orientado (o-PP) , o un polipropileno orientado biaxialmente (BOPP) , un poli (metacrilato de metilo) , un PES, unos poli (naftalatos de etileno) (PEN) , unos SAN, unos polímeros que contienen flúor, de manera preferida unos policlorotrifluoroetilenos (PCTFE) , unos EVOH, una poliamida, unos PVC, unos PVDC, unos PMMI, unas PA, unos ABS, unos MABS, unas PMP, unas PES o unas PSI.

16. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 hasta 14, caracterizada por que se trata con plasma una pieza de trabajo que está constituida a base de un vidrio, un material vitrocerámico o un material cerámico.

17. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que la energía electromagnética se irradia dentro de la cavidad (13) por medio de unos electrodos (56, 58) .

18. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que se produce un flujo axialmente simétrico del gas de proceso a través de la cavidad (13) de la pieza de trabajo (10) y por que de manera preferida se introduce y acopla en la cavidad (13) una energía electromagnética en dirección axial, de manera especialmente preferida de una manera axialmente simétrica.

19. Procedimiento para el tratamiento con plasma de piezas de trabajo, de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, siendo inflamado el plasma por medio de la excitación de un gas en un recinto (28) que está separado con respecto de la cámara (2) del reactor, mientras que la energía electromagnética es irradiada para la generación del plasma en el gas de proceso introducido y al realizar la excitación resultan unas especies ricas en energía o una radiación, tales como i) unos electrones excitados ii) unos iones excitados iii) unas partículas neutras excitadas iv) una radiación ultravioleta, y a través de éstas se apoya la inflamación del plasma.

20. Procedimiento de acuerdo con la reivindicación 19, caracterizado por que el plasma se inflama en el entorno mediante una descarga de efluvios en el recinto (28) separado y por que la descarga de efluvios se enciende de manera preferida mediante por lo menos unos siguientes parámetros: i) una alta tensión eléctrica comprendida en el intervalo de 0, 1 kV -100 kV ii) una corriente eléctrica alterna con una frecuencia de 0, 2 KHz -100 MHz, de manera preferida de 1 KHz -100 kHz iii) una corriente eléctrica alterna efectiva comprendida en el intervalo de 0, 01 mA -2A, de manera preferida en el intervalo de 0, 1 mA a 500 mA.

21. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que la energía electromagnética es aportada a través de un conductor coaxial (19) y un gas de proceso es aportado a través del conductor interior (20) del conductor coaxial.

22. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que la energía electromagnética se irradia a través de un conductor coaxial (19) de manera preferida en dirección axial y la zona de tratamiento es puesta en vacío por medio del conductor coaxial.

23. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que se deposita una capa funcional mediante un proceso de deposición con plasma sobre un envase de productos farmacéuticos, en particular un cuerpo de jeringa (10) , un vial, un tubito de extracción de sangre o una cárpula, de manera preferida con una potencia media de a lo sumo 300 vatios, de manera especialmente preferida de a lo sumo 100 vatios.

24. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que mediante el tratamiento con plasma se deposita una capa que contiene por lo menos una de las sustancias SiOx, SiOxCy, SiOxNy, SiNy, . TiOx, AlxOyNz, AlxNz, AlxOy, CxHy, CxFy o TiNx.

25. Procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado por que por lo menos un cuerpo de relleno (84) rellena por lo menos parcialmente a una cavidad (13) de una pieza de trabajo (10) que ha de ser sometida a tratamiento y la distribución de las temperaturas sobre la pieza de trabajo (10) durante y después del tratamiento con plasma se hace más uniforme de esta manera.

26. Dispositivo para el tratamiento con plasma de unas piezas de trabajo en forma de cuerpos huecos, que está organizada para la realización del procedimiento de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, que comprende una cámara del reactor, una zona de tratamiento en la cámara del reactor, una disposición para la puesta en vacío por lo menos parcial de la zona de tratamiento en la cámara del reactor, una disposición para la irradiación de energía electromagnética en la zona de tratamiento para la generación de un plasma y una disposición para la introducción de un gas de proceso en la zona de tratamiento, caracterizado por que la disposición para la introducción de un gas de proceso y la disposición para la puesta en vacío de la zona de tratamiento están dispuestas de tal manera que el gas de proceso durante el funcionamiento circula a través de la zona de tratamiento entre unos extremos opuestos de la zona, y caracterizado por una disposición para la generación de una descarga de efluvios (29) en un recinto (28) que está separado de la cámara (2) del reactor, con el fin de poner a disposición unas especies excitadas en la zona de tratamiento para la generación del plasma.

27. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 26, comprendiendo la disposición para la introducción de un gas de proceso en la zona de tratamiento por lo menos una cánula (64) , cuyo diámetro interior del orificio está situado entre 0, 1 y 5, 0 mm, de manera preferida entre 0, 2 mm y 3, 0 mm, de manera especialmente preferida entre 0, 3 mm y 2, 0 mm, y cuyo espesor de pared está situado entre 0, 05 mm y 3, 0 mm, de manera preferida entre 0, 1 mm y 2, 0 mm, de manera especialmente preferida entre 0, 15 mm y 1, 0 mm.

28. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 26 ó 27, caracterizado por que la disposición para la introducción de un gas de proceso comprende una disposición para la introducción del gas de proceso a través de otro orificio situado junto a un segundo extremo de la pieza de trabajo (10) que está opuesto al primer extremo.

29. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 26 hasta 28, que está organizado para el tratamiento con plasma por el lado interior de unos cuerpos de jeringa (10) .

30. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 29, caracterizado por una disposición de conexión para la conexión de una disposición de puesta en vacío (90) destinada a la puesta en vacío por lo menos parcial de la cavidad (13) del cuerpo de la jeringa (10) junto al orificio (12) para el embolo de la jeringa.

31. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 29 ó 30, caracterizado por una disposición para la introducción del gas de proceso a través del cono Luer (15) del cuerpo de la jeringa (10) .

32. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 27 hasta 32, caracterizado por al menos un apantallamiento local (30, 32) , que rodea a la pieza de trabajo (10) y apantalla la energía electromagnética irradiada localmente con respecto de ciertas zonas de la cavidad (13) de la pieza de trabajo (10) .

33. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 26 hasta 32, que está organizado para un proceso de revestimiento exterior de unas piezas de trabajo (10) , con una disposición (90) para la puesta en vacío por lo menos parcial del entorno de una pieza de trabajo (10) en la cámara (2) del reactor.

34. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 26 hasta 33, caracterizado por unos reactores (100) que son movibles a lo largo de un camino de transporte para el tratamiento con plasma de unas piezas de trabajo (10) , por una posición de aportación para la aportación de las piezas de trabajo (10) a los reactores (100) , por una posición de retirada para la retirada de las piezas de trabajo (10) desde los reactores (100) , y por una disposición para el tratamiento con plasma entre una posición de aportación y una posición de retirada con una disposición para la irradiación de energía electromagnética (54) en la cavidad (13) .

35. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación precedente, caracterizado por que los múltiples sitios de revestimiento tienen en cada caso unas fuentes de energía (101) separadas para la puesta a disposición de energía electromagnética, así como unos recintos preliminares (28) separados, que están unidos con las zonas de revestimiento y que están unidos con una disposición común de generación de vacío (90) de manera preferida a través de otra cámara, estando dispuestas en los recintos preliminares (28) en cada caso unas disposiciones para la excitación del gas de proceso, las cuales están conectadas en cada caso a unas segundas fuentes de energía (101) separadas.

36. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 26 hasta 35, caracterizado por un apantallamiento (30, 32) para la energía electromagnética destinada al desacoplamiento de la conducción de aportación de la cámara (2) del reactor con respecto de la disposición de puesta en vacío (90) .

37. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 26 hasta 36, caracterizado por un recinto preliminar (28) con respecto al recinto (2) del reactor, estando la disposición destinada a la puesta en vacío (90) conectada con el recinto preliminar (28) .

38. Dispositivo para el tratamiento con plasma de unas piezas de trabajo de acuerdo con una de las reivindicaciones 26 hasta 37, con una cámara (2) del reactor para el alojamiento de una pieza de trabajo (10) que ha de ser revestida, con una disposición para la puesta en vacío por lo menos parcial (90) de por lo menos una zona de la cámara (2) del reactor, con una disposición para la irradiación de una energía electromagnética (54) en la cámara (2) del reactor así como con un recinto separado con respecto de la cámara (2) del reactor, y una disposición de inflamación para un plasma en la cámara (2) del reactor, comprendiendo la disposición de inflamación una disposición para la excitación de un gas en el recinto (28) que está separado de la cámara (2) del reactor.

39. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 38, caracterizado por que la disposición de inflamación comprende una disposición para la generación de una descarga de efluvios en el recinto (28) que está separado de la cámara

(2) del reactor.

40. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 39 caracterizado por una disposición de vigilancia preferiblemente óptica para la descarga de efluvios.

41. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 26 a 40, caracterizado por que la disposición para la irradiación de energía electromagnética (54) en la cámara (2) del reactor comprende un conductor coaxial (19) pudiendo la zona de tratamiento ser puesta en vacío a través del conductor coaxial (19) .

42. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 41, caracterizado por que el conductor coaxial (19) tiene un canal que discurre axialmente, a través del que se puede aportar el gas de proceso.

43. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 42, caracterizado por que está prevista una disposición de inflamación, en particular un electrodo de encendido (29) para la generación de una descarga de efluvios en el canal a través del conductor interior (20) .

44. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 26 hasta 43, caracterizado por un cuerpo de relleno (84) que rellena por lo menos parcialmente a una cavidad (13) de una pieza de trabajo (10) que ha de ser sometida a tratamiento.

45. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 44, caracterizado por que el cuerpo de relleno (84) absorbe o refleja una energía electromagnética de alta frecuencia.

46. Dispositivo de acuerdo con la reivindicación 44 ó 45, caracterizado por que el cuerpo de relleno (84) impide una inflamación de un plasma en un entorno inmediato de la zona rellena.

47. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 42 hasta 44, caracterizado por que el cuerpo de relleno

(84) está integrado en un conductor interior coaxial (20) .