Lavavajillas con pulverización directa variable.

Lavavajillas, con al menos un tanque de lavado, así como con dispositivos de pulverización (22,

23) para pulverizar una solución de agente limpiador sobre la vajilla a limpiar, con al menos un dispositivo sensor para el reconocimiento del tipo de vajilla y con un dispositivo de control (24) para el control del dispositivo de pulverización que está configurado para el control de las boquillas de pulverización en función del tipo de vajilla reconocido, caracterizado por las características siguientes:

a) los dispositivos de pulverización presentan boquillas de pulverización (22, 23) para pulverizar la vajilla con una solución de agente limpiador recién preparada al menos desde arriba y abajo,

b) los dispositivos de pulverización están configurados para pulverizar una solución de agente limpiador recién preparada con un caudal de 0,2 a 10 l/min;

c) las boquillas de pulverización (22) para pulverizar desde arriba y las boquillas de pulverización (23) para pulverizar desde abajo se pueden controlar de forma separada.

Lavavajillas con pulverización directa variable La invención se refiere a un lavavajillas con al menos un tanque de lavado, así como con dispositivos de pulverización para pulverizar una solución de agente limpiador sobre la vajilla a limpiar. El objeto de la invención es además un procedimiento para la limpieza de la vajilla y eventualmente otras piezas, como por ejemplo piezas industriales, usando un lavavajillas semejante.

En la limpieza de la vajilla se usan así los denominados lavavajillas industriales en particular en el sector industrial y en la gastronomía, en los que la vajilla se limpia en un tiempo comparablemente corto y está a disposición para un nuevo uso. Con frecuencia los lavavajillas industriales semejantes están configurados como máquinas con transporte automático de la vajilla, por ejemplo, como lavavajillas de cinta o lavavajillas con transporte de cajas.

En los tanques de lavado de un lavavajillas semejante se hace circular el baño de agente limpiador y se enjuaga sobre la vajilla y ésta se rocía con él. El suministro de agentes limpiadores en el baño de lavado se puede realizar mediante dosificación de polvos o en particular líquidos directamente en el baño situado en el tanque. Alternativamente es posible (EP 282 214 A1, EP 1 046 370 A1) pulverizar directamente sobre la vajilla una solución de agente limpiador recién preparada, en general muy concentrada, en lugar o adicionalmente a la dosificación de un agente limpiador en el baño. Esta pulverización de la solución muy concentrada del agente limpiador puede impedir que sobre la vajilla más sucia (por ejemplo, suciedades por almidón o café o manchas de té) se formen revestimientos de mal aspecto y a retirar sólo con dificultades, que luego se deben retirar de forma costosa en una así denominada limpieza base separada.

Los documentos DE 10 2008 017 597 A1 y EP 2 039 280 A2 dan a conocer lavavajillas en los que dispositivos sensores controlan de forma variable la circulación del baño de lavado en función del grado de suciedad de la vajilla.

La invención tiene el objetivo de poner a disposición un lavavajillas, así como un procedimiento del tipo mencionado al inicio, que hagan posible una limpieza eficaz de la vajilla con bajo consumo de agente limpiador y/o agua.

En el lavavajillas según la invención este objetivo se resuelve mediante las características siguientes:

a) los dispositivos de pulverización presentan boquillas de pulverización para pulverizar la vajilla con una solución de agente limpiador recién preparada al menos desde arriba y abajo,

b) los dispositivos de pulverización están configurados para pulverizar una solución de agente limpiador recién preparada con un caudal de 0, 2 a 10 l/min;

c) las boquillas de pulverización para pulverizar desde arriba y las boquillas de pulverización para pulverizar desde abajo se pueden controlar de forma separada.

d) al menos un equipo sensor para el reconocimiento del tipo de vajilla,

e) un dispositivo de control para el control del dispositivo de pulverización que está configurado para el control de las boquillas de pulverización en función del tipo de vajilla reconocido.

El procedimiento según la invención usando un lavavajillas semejante presenta las etapas siguientes:

a) clasificación esencialmente por tipos de la vajilla y carga en el lavavajillas,

b) reconocimiento del tipo de vajilla mediante el dispositivo sensor para el reconocimiento del tipo de vajilla,

c) selección de un programa de control apropiado para el control del dispositivo de pulverización en función del tipo de vajilla reconocido,

d) realización del proceso de limpieza o enjuague con control de las boquillas de pulverización por el programa de control seleccionado mediante el dispositivo de control.

En primer lugar se explican algunos de los términos usados en el marco de la invención. Un lavavajillas limpia la vajilla después de la puesta en marca de forma automática sin intervención manual. El término vajilla designa todos los objetos usados o usables en la zona de la cocina y que sean abordables en una limpieza automática semejante. En el marco de la invención el término vajilla comprende adicionalmente otros objetos que sean abordables en una limpieza a máquina similar a la de la vajilla. A modo de ejemplo se mencionan aquí piezas industriales apropiadas.

El lavavajillas presenta al menos un tanque de lavado. En un tanque de lavado semejante se puede hacer circular un baño de agente limpiador y se puede enjuagar varias veces sobre la vajilla situada en el tanque de lavado. El lavavajillas puede estar configurado como máquina de un tanque en la que se introduce la vajilla y permanece allí de forma estacionaria durante el proceso de lavado. Preferiblemente se trata de una máquina con transporte automático de la vajilla (por ejemplo, una cinta o máquina con transporte por cajas) , en la que la vajilla se conduce a intervalos o preferiblemente de forma continua durante el proceso de limpieza a través del lavavajillas. Una máquina semejante puede estar configurada eventualmente como máquina de un tanque o preferiblemente como máquina mutitanque con al menos dos tanques de lavado.

Según la invención están previstos dispositivos de pulverización con boquillas de pulverización para pulverizar una solución de agente limpiador. El término solución de agente limpiador designa aquí la solución de agente limpiador recién preparada, es decir, ningún baño de lavado tomado del tanque de lavado que se hace circular a través de las bombas de circulación habituales. Esta circulación del baño de lavado se puede realizar en el marco de la invención de forma simultánea o de forma separada temporalmente o (en máquinas con transporte de la vajilla) espacialmente de la pulverización con la solución de agente limpiador. En los lavavajillas de cinta habituales en un tanque de lavado se hace circular un baño de agente limpiador en una cantidad de aproximadamente 500 a 1.500 l/min (con frecuencia aproximadamente 1.000 l/min) y se enjuaga sobre la vajilla. Los dispositivos de pulverización presentan boquillas de pulverización para pulverizar la vajilla al menos desde arriba y abajo. Adicionalmente pueden estar dispuestas boquillas de pulverización para pulverizar desde el lado (en máquinas con transporte de la vajilla preferiblemente perpendicularmente a la dirección de transporte de la vajilla, es decir, referido a la dirección de transporte en ángulo recto desde el lado) . La controlabilidad separada significa que se puede pulverizar una solución de agente limpiador, por ejemplo, sólo desde arriba, sólo desde abajo, sólo desde el lado o simultáneamente desde dos o más direcciones.

Según la invención está presente al menos un dispositivo sensor para el reconocimiento del tipo de vajilla. El término tipo de vajilla designa las categorías de vajilla que se destacan por similares tipos de limpieza y/o requisitos de limpieza y/o la dirección espacial de botellas sucias o especialmente sucias.

El dispositivo sensor puede estar configurado para el reconocimiento inmediato de las propiedades de la vajilla (altura en el estado introducido en el lavavajillas, forma o similares) o estar configurado para el reconocimiento de los dispositivos de señalización en la vajilla y/o, por ejemplo, en la cesta de transporte de la vajilla.

La invención hace posible realizar una pulverización de una solución preferiblemente concentrada de agente limpiador de manera orientada a las necesidades en función del tipo de vajilla a limpiar y/o el grado de ensuciamiento y permite así una limpieza eficiente y económica de la vajilla. Concentrada significa en el marco de la invención que la concentración de la solución de agente limpiador es más elevada que la concentración del agente limpiador en el baño de lavado hecho circular. Además, esta solución concentrada de agente limpiador está recién preparada, por ejemplo, a partir de un concentrado del agente limpiador líquido y agua fresca.

En función del tipo de vajilla se pueden cambiar según la invención, por ejemplo, la dirección de pulverización, concentración del agente limpiador y también composición del agente limpiador. De esta manera se puede concentrar una pulverización con la solución de agente limpiador sobre aquellas zonas superficiales que presentan realmente una suciedad correspondiente En el caso de tazas, fuentes y otros recipientes, como por ejemplo así denominados recipientes Normalizados para catering en general se han ensuciado más fuertemente las superficies interiores y se orientan hacia abajo sobre la cinta de transporte o en una cesta para vajilla. Por ello la solución... [Seguir leyendo]

1. Lavavajillas, con al menos un tanque de lavado, así como con dispositivos de pulverización (22, 23) para pulverizar una solución de agente limpiador sobre la vajilla a limpiar, con al menos un dispositivo sensor para el reconocimiento del tipo de vajilla y con un dispositivo de control (24) para el control del dispositivo de pulverización que está configurado para el control de las boquillas de pulverización en función del tipo de vajilla reconocido, caracterizado por las características siguientes:

a) los dispositivos de pulverización presentan boquillas de pulverización (22, 23) para pulverizar la vajilla con una solución de agente limpiador recién preparada al menos desde arriba y abajo,

b) los dispositivos de pulverización están configurados para pulverizar una solución de agente limpiador recién preparada con un caudal de 0, 2 a 10 l/min;

c) las boquillas de pulverización (22) para pulverizar desde arriba y las boquillas de pulverización (23) para pulverizar desde abajo se pueden controlar de forma separada.

2. Lavavajillas según la reivindicación 1, caracterizado porque el dispositivo de pulverización presenta adicionalmente boquillas de pulverización para pulverizar la vajilla desde el lado.

3. Lavavajillas según la reivindicación 1 ó 2, caracterizado porque los dispositivos de pulverización están configurados para pulverizar una solución de agente limpiador con un caudal de 0, 4 a 5 l/min, preferentemente 0, 5 a 1 l/min.

4. Lavavajillas según una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque el dispositivo sensor para el reconocimiento del tipo de vajilla presenta dispositivos seleccionados del grupos compuesto por dispositivos mecánicos para el reconocimiento de la altura de la vajilla, sensores ópticos y sensores electromagnéticos.

5. Lavavajillas según la reivindicación 4, caracterizado porque los sensores electromagnéticos presentan al menos un receptor RFID para la identificación de los transpondedores RFID en la vajilla y/o en las cestas para vajilla.

6. Lavavajillas según una de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizado porque el dispositivo sensor para el reconocimiento de los tipos de vajilla seleccionados del grupo compuesto por platos, tazas, fuentes, recipientes Normalizados para catering, cubertería, vasos y bandejas.

7. Lavavajillas según una de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque el dispositivo de control para el control del dispositivo de pulverización en función del tipo de vajilla reconocido está configurado como sigue:

a) platos, cubertería y bandejas: pulverización desde arriba,

b) tazas, fuentes y vasos: pulverización desde abajo.

8. Lavavajillas según una de las reivindicaciones 1 a 7, caracterizado porque el dispositivo de control para el control del dispositivo de pulverización está configurado en función del tipo de vajilla reconocido está configurado para la variación de la composición de la solución de agente limpiador, de la concentración de la solución de agente limpiador, de la duración de la pulverización y/o del instante de pulverización.

9. Lavavajillas según una de las reivindicaciones 1 a 8, caracterizado porque está configurado como lavavajillas con transporte de vajilla automático y presenta preferentemente dos o más tanques de lavado.

10. Procedimiento para la limpieza de la vajilla en un lavavajillas según una de las reivindicaciones 1 a 9, que comprende las etapas siguientes:

a) clasificación esencialmente por tipos de la vajilla y carga en el lavavajillas,

b) reconocimiento del tipo de vajilla mediante el dispositivo sensor para el reconocimiento del tipo de vajilla,

c) selección de un programa de control apropiado para el control del dispositivo de pulverización en función del tipo de vajilla reconocido, caracterizado por la etapa de la realización del proceso de limpieza o enjuague con control de las boquillas de pulverización por el programa de control seleccionado mediante el dispositivo de control para la pulverización de la vajilla con una solución de agente limpiador recién preparada con un caudal de 0, 2 a 10 l/min.

11. Procedimiento según la reivindicación 10, caracterizado porque el caudal del dispositivo de pulverización durante el funcionamiento de pulverización es preferentemente de 0, 4 a 5 l/min, aun más preferentemente de 0, 5 a 1 l/min.

12. Procedimiento según la reivindicación 10 u 11, caracterizado porque el dispositivo de pulverización se hace

funcionar en el modo a intervalos. 13. Procedimiento según una de las reivindicaciones 10 a 12, caracterizado porque la pulverización en función del tipo de vajilla reconocido se realiza como sigue:

a) platos, cubertería y bandejas: pulverización desde arriba, b) tazas, fuentes y vasos: pulverización desde abajo.