CAPAS PROTECTORAS PARA ARTÍCULO RECUBIERTO POR PULVERIZACIÓN CATÓDICA.

Un artículo recubierto que comprende:

(i) un substrato;

(ii) una primera capa dieléctrica depositada por pulverización catódica sobre el substrato (i),

comprendiendo la capa (ii):

(iia) una primera película de estannato de cinc depositada sobre el substrato (i) que tiene cinc en el intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90, y estaño en el intervalo de por ciento en peso de igual a y menor a 90 e igual a y superior a 10, y (iib) una película de potenciación eléctrica depositada sobre la película de estannato de cinc (iia), estando la película de potenciación eléctrica seleccionada entre el grupo de películas que consisten en una pulverización catódica de película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc y una segunda película de estannato de cinc, en la que la composición de la primera película de estannato de cinc (ia) es al menos aproximadamente 5 por ciento en peso diferente de la composición de la segunda película de estannato de cinc, y (iii) al menos una capa reflectante infrarroja sobre la primera capa dieléctrica (ii);

(iv) opcionalmente, una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii);

(v) opcionalmente, una segunda capa dieléctrica sobre una primera capa de imprimador de metal (iv); y

(vi) al menos una capa protectora que consiste en dos películas, en la que una película está seleccionada entre metales o silicio y la otra película está seleccionada entre metal-oxi- o sílice-oxi-materiales, en la que una de las películas se deposita primeramente con la otra película depositada sobre la primera película depositada, y en la que el metal es el mismo o diferente y está seleccionado entre titanio, circonio, niobio, tántalo, cromo, níquel y aleaciones de los mismos, y en la que los oxi-materiales están seleccionados entre óxidos de titanio, oxinitruro de titanio, óxidos de circonio, oxinitruro de circonio, óxidos de niobio, oxinitruro de niobio, óxidos de tántalo, oxinitruro de tántalo, óxidos crómicos, oxinitruro crómico, óxido de níquel, oxinitruro de níquel, óxido de silicio, dióxido de silicio, nitruro de aluminio y silic

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2000/015576.

Solicitante: PPG INDUSTRIES OHIO, INC..

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 3800 WEST 143RD STREET CLEVELAND, OH 44111 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.

Inventor/es: O\'SHAUGHNESSY,Dennis,J.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 6 de Junio de 2000.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C03C17/36 QUIMICA; METALURGIA.C03 VIDRIO; LANA MINERAL O DE ESCORIA.C03C COMPOSICIÓN QUÍMICA DE LOS VIDRIOS, VIDRIADOS O ESMALTES VÍTREOS; TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DEL VIDRIO; TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE FIBRAS O FILAMENTOS DE VIDRIO, SUSTANCIAS INORGÁNICAS O ESCORIAS; UNIÓN DE VIDRIO A VIDRIO O A OTROS MATERIALES.C03C 17/00 Tratamiento de la superficie del vidrio, p. ej. de vidrio desvitrificado, que no sea en forma de fibras o filamentos, por recubrimiento. › siendo un revestimiento al menos un metal.
  • C23C14/08L
  • C23C14/34B2

Clasificación PCT:

  • C03C17/36 C03C 17/00 […] › siendo un revestimiento al menos un metal.
  • C23C14/34 C […] › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento. › Pulverización catódica.

Clasificación antigua:

  • C03C17/36 C03C 17/00 […] › siendo un revestimiento al menos un metal.
  • C23C14/34 C23C 14/00 […] › Pulverización catódica.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania.

PDF original: ES-2372024_T3.pdf

 


Fragmento de la descripción:

Capas protectoras para artículo recubierto por pulverización catódica La presente invención se refiere, en general, a capas protectoras para artículos recubiertos por pulverización catódica tales como vidrios o productos transparentes recubiertos o no recubiertos. Dichos artículos con las capas protectoras son transportables, térmicamente tratables, pueden tener recubrimiento o recubrimientos de baja capacidad de emisión. La invención se refiere igualmente a los artículos recubiertos y al uso de los artículos recubiertos. La Patente de EE.UU. No. 4610.771 (P.E.U.N.`771) divulga una película de óxido metálico pulverizada catódicamente antireflectante depositada usando un objeto de aleación de cinc/estaño. La P.E.U.N.771 en la columna 3, línea 26, a la columna 4, línea 12, expone el uso de del objeto de aleación para depositar una película de estannato de cinc que tiene, en general, óxidos de cinc y de estaño preferiblemente en proporciones de 10 a 90 por ciento de cinc y 90 a 10 por ciento de estaño. Aunque el objeto de aleación de cinc/estaño en la P.E.U.N.771 para depositar la película de estannato de cinc es aceptable, tiene limitaciones. Más particularmente, en un recubrimiento de baja emisión, tal como el del tipo descrito en la P.E.U.N.771, sobre la película de estannato de cinc se deposita una capa o película de metal reflectante infra- rroja, por ejemplo, plata. Una película de plata depositada sobre una película de estannato de cinc pulverizada cató- dicamente tiene una resistividad eléctrica superior y una capacidad de emisión superior a una película de plata depositada sobre una película o capa de óxido de cinc pulverizada catódicamente. Más particularmente, la Patente de EE.UU. No. 5.821.001 (P.E.U.N.001) divulga una película de plata depositada sobre una película de óxido de cinc; los átomos de la película de plata se depositan en una forma caracterizada por una baja resistividad eléctrica que proporciona a la película de plata una baja capacidad de emisión. Durante el depósito de la película de óxido de cinc, los parámetros del proceso se seleccionan con el fin de depositar una capa de óxido de cinc con una adecuada cristalinidad o un crecimiento cristalino preferencial de manera que afecte favorablemente la deposición de los átomos de plata de la película de plata. La pulverización catódica de cinc en una atmósfera reactiva, por ejemplo, oxígeno, con el fin de proporcionar una película de óxido de cinc sobre la cual se deposite una película de plata que tenga baja resistividad eléctrica, tiene inconvenientes. Por ejemplo, es difícil pulverizar catódicamente de manera reactiva un objeto de cinc puro, es decir, un objeto de aproximadamente 100% de cinc metal, en una atmósfera reactiva tal como oxígeno, por razones expuesta con mayor detalle más adelante. La P.E.U.N.001 divulga igualmente una película de baja capacidad de emisión térmicamente tratable. El espesor de las capas de imprimador, por ejemplo, películas de titanio, puede incrementarse para proporcionar durabilidad mecánica incrementada, es decir, mejor resistencia al cizallado. El ensayo de resistencia al cizallado consiste en la aplicación de 20 golpes sucesivos de un paño humedecido con agua desionizada contra la superficie recubierta de vidrio, seguido del examen visual del área ensayada. Dependiendo del aspecto del área ensayada, se asignan grados de letras de D-, D, D+A, A+ al recubrimiento; a continuación, para análisis numérico, se realizan asignaciones de 5 a D-, 10 a D, 55 a A, y 60 a A+. Si un recubrimiento no muestra signos de cizallado, ni incluso rayas escasamente visibles, en ese caso, recibe una puntuación máxima de 60. Los recubrimientos que muestran cizallado uniforme y deslaminación en cualquier intercara del recubrimiento multicapa dentro del área de ensayo, reciben una puntuación fallida de cero. Otros valores de comportamiento reciben puntuaciones intermedias. Este procedimiento de caracterización de duración del recubrimiento se ha encontrado que se relaciona bien con el entorno de comportamiento del recubrimiento. El inconveniente con el uso de capas de imprimador espesas, es que el recubrimiento se apila después de calentamiento; por ejemplo, en las operaciones de templado del vidrio o plegado del vidrio, es probable que tenga un aspecto opalescente cuando se observa usando un ensayo de opalescencia con luz brillante focalizada, en cámara oscura. En el ensayo de oplescencia con luz brillante focalizada, en cámara oscura, la muestra recubierta se observa por reflexión en una cámara oscura a diversos ángulos de observación con relación a un punto de luz, con el fin de encontrar la geometría que proporciona el máximo de dispersión de luz, o, en otras palabras, opalescencia, posible procedente del recubrimiento. Si no existe geometría que pueda hacer observable la opalescencia, se asigna a la muestra una puntuación de A+. Muy pocas muestras reciben la D-. Para fines de análisis numérico, a los grados de letras se asignan valores de 5 a 60, tal como se ha descrito anteriormente para el ensayo de cizallado. Una opalescencia inferior corresponde a valores numéricos superiores. El Documento EP-A-803 481 se refiere a artículos recubiertos de baja capacidad de emisión, alta transmitancia, en los que un substrato transparente está recubierto con un recubrimiento multicapa apilado que incluye una sobrecapa dura protectora de óxido de titanio. A partir del Documento GB-A-2 311 540 se conoce una lámina recubierta para uso en un conjunto laminado que tiene un alto nivel de transmisión luminosa y una baja transmisión de energía. El substrato multi-recubierto de cinco capas tiene capas procedentes de materiales específicos dentro de límites de espesor específicos y relaciones específicas en el espesor respectivo de ciertas capas. Se divulga que el aplicar una capa protectora que protege al recubrimiento apilado y proporciona duración química y/o mecánica mejorada con poco o nulo cambio consiguiente 2 E00939609 17-11-2011   de sus propiedades ópticas. Como materiales protectores se mencionan óxidos, nitruros y oxinitruros de silicio y SiO2. Como materiales de sacrificio para la capa del metal reflector se divulga titanio y cinc. El Documento US-A-4.902.580 divulga artículos recubiertos multicapa que son recubrimientos que tienen alta transmitancia en el intervalo de longitud de onda visible, de baja capacidad de emisión. Se divulga una sobrecapa protectora preparada a partir de aleaciones de hierro o níquel, titanio, óxido de titanio. El Documento US-A-5.059.295 se refiere a un procedimiento de obtención de ventanas de baja capacidad de emisión. Con respecto a la sobrecapa protectora se divulga el uso de aleaciones de hierro o níquel y de titanio/óxido de titanio. El Documento WO 99/58763, que es un documento bajo el Artículo 54(3) EPC, se refiere a unos artículos recubiertos multicapa que tienen alta transmitancia en el intervalo de longitud de onda visible y baja capacidad de emisión. Para proporcionar durabilidad química y mecánica al recubrimiento apilado se aplica una sobrecapa protectora. Como materiales útiles se divulgan titanio, dióxido de titanio, óxido de silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio y aluminio. Si se desea, puede usarse más de una película protectora. Tal como puede ser apreciado por los expertos en la técnica de obtención de recubrimientos por pulverización catódica, sería ventajoso proporcionar un objeto de cinc que pueda ser pulverizado catódicamente en una atmósfera reactiva sin los inconvenientes de los objetos de cinc actualmente disponibles y proporcionar artículos recubiertos de baja capacidad de emisión que tengan durabilidad mecánica, de maneta que el artículo recubierto pueda ser transportado y posteriormente calentado sin que el recubrimiento calentado tenga opalescencia. El objetivo anteriormente mencionado se alcanza mediante un artículo recubierto de acuerdo con la presente invención, comprendiendo el artículo recubierto: (i) un substrato; (ii) una primera capa dieléctrica depositada por pulverización catódica sobre el substrato (i), comprendiendo la capa (ii): (iia) una primera película de estannato de cinc depositada sobre el substrato (i) que tiene cinc en el intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90, y estaño en el intervalo de por ciento en peso de igual a y menor a 90 e igual a y superior de 10, y (iib) una película de potenciación eléctrica depositada sobre la película de estannato de cinc (iia), estando la película de potenciación eléctrica seleccionada entre el grupo de películas que consisten en una película de óxido de cinc, óxido de estaño pulverizada catódicamente depositada a par- tir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5... 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Reivindicaciones:

(ii) una primera capa dieléctrica depositada por pulverización catódica sobre el substrato (i), comprendiendo la capa (ii): (iia) una primera película de estannato de cinc depositada sobre el substrato (i) que tiene cinc en el intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90, y estaño en el intervalo de por ciento en peso de igual a y menor a 90 e igual a y superior a 10, y (iib) una película de potenciación eléctrica depositada sobre la película de estannato de cinc (iia), estando la película de potenciación eléctrica seleccionada entre el grupo de películas que consisten en una pulverización catódica de película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc y una segunda película de estannato de cinc, en la que la composición de la primera película de estannato de cinc (ia) es al menos aproximadamente 5 por ciento en peso diferente de la composición de la segunda película de estannato de cinc, y (iii) al menos una capa reflectante infrarroja sobre la primera capa dieléctrica (ii); (iv) opcionalmente, una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii); (v) opcionalmente, una segunda capa dieléctrica sobre una primera capa de imprimador de metal (iv); y (vi) al menos una capa protectora que consiste en dos películas, en la que una película está seleccionada entre metales o silicio y la otra película está seleccionada entre metal-oxi- o sílice-oxi-materiales, en la que una de las películas se deposita primeramente con la otra película depositada sobre la primera película depositada, y en la que el metal es el mismo o diferente y está seleccionado entre titanio, circonio, niobio, tántalo, cromo, níquel y aleaciones de los mismos, y en la que los oxi-materiales están seleccionados entre óxidos de titanio, oxinitruro de titanio, óxidos de circonio, oxinitruro de circonio, óxidos de niobio, oxinitruro de niobio, óxidos de tántalo, oxinitruro de tántalo, óxidos crómicos, oxinitruro crómico, óxido de níquel, oxinitruro de níquel, óxido de silicio, dióxido de silicio, nitruro de aluminio y silicio. 2. El artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que la capa dieléctrica (ii) es una primera capa dieléctrica y la capa reflectante infrarroja (iii) es una primera capa reflectante infrarroja y el apilado incluye además: una segunda capa dieléctrica (v) sobre la capa de imprimador (iv) y (vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v); (viii) opcionalmente, una capa de imprimador sobre la segunda capa reflectante infrarroja (vii); y la capa protectora (vi) es una sobrecapa sobre la segunda capa dieléctrica (v). 3. El artículo recubierto de la reivindicación 2, en el que la capa protectora (vi) tiene al menos dos películas en cualquier orden de metal o silicio y metal-oxi o silicio-oxi-material localizadas entre la segunda capa dieléctrica (v) sobre la segunda capa dieléctrica (vii) y una tercera capa dieléctrica (ix). 4. El artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que el apilado comprende: (i) un substrato; E00939609 17-11-2011 (ii) una primera capa dieléctrica pulverizada catódicamente depositada sobre el substrato (i), comprendiendo la capa (ii): (iia) una primera película de estannato de cinc depositada sobre el substrato (i) que tiene cinc en el intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90, y estaño en el intervalo de por ciento en peso de igual a y menor a 90 e igual a y superior a 10, y (iib) una película de potenciación eléctrica depositada sobre la película de estannato de cinc (iia), estando la película de potenciación eléctrica seleccionada entre el grupo de películas que consisten en una pulverización catódica de película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc y una segunda película de estannato de cinc, en la que la composición de la primera película de estannato de cinc (ia) es al menos aproximadamente 5 por ciento en peso diferente de la composición de la segunda película de estannato de cinc, y 13   (iii) una capa reflectante infrarroja depositada sobre la capa dieléctrica (ii); (iv) una capa de imprimador de metal sobre la capa reflectante infrarroja (iii); (v) una segunda capa dieléctrica sobre la primera capa de imprimador (iv); y (vi) una capa protectora de al menos dos películas tal como se definen en la reivindicación 1, depositada sobre la segunda capa dieléctrica (v). 5. Un artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que el apilado comprende: (i) un substrato; (ii) una primera capa dieléctrica pulverizada catódicamente depositada sobre el substrato (i); (iii) una primera capa reflectante infrarroja sobre la primera capa dieléctrica (ii); (iv) una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii); (v) una segunda capa dieléctrica sobre la primera capa de imprimador de metal (iv); conteniendo la segunda capa dieléctrica (v): (va) una primera película dieléctrica seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc, óxido de estaño pulverizada catódicamente depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc y una primera película de estannato de cinc, y (vb) una segunda película dieléctrica, teniendo la segunda película dieléctrica una composición diferente de la primera película dieléctrica de la segunda capa dieléctrica; (vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v); (viii) una segunda capa de imprimador de metal sobre la segunda capa reflectante infrarroja (vii); (ix) una tercera capa dieléctrica sobre la segunda capa de imprimador de metal (ix); y (vi) una capa protectora de al menos dos películas tal como se definen en la reivindicación 1, depositada sobre la tercera capa dieléctrica (ix). 6. Un artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que el apilado comprende: (i) un substrato; (ii) una primera capa dieléctrica pulverizada catódicamente depositada sobre el substrato (i); (iii) una primera capa reflectante infrarroja sobre la primera capa dieléctrica (ii); (iv) una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii); (v) una segunda capa dieléctrica sobre la primera capa de imprimador de metal (iv); (vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v); (viii) una segunda capa de imprimador de metal sobre la segunda capa reflectante infrarroja; (ix) una tercera capa dieléctrica que tiene: (ixa) una primera película dieléctrica seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc; película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc; una primera película de estannato de cinc, y (ixb) una segunda película dieléctrica depositada sobre la primera película dieléctrica (ixa), teniendo la segunda película dieléctrica una composición diferente de la primera película dieléctrica (ixa); y (vi) una capa protectora depositada sobre la tercera capa dieléctrica (ix), en la que la capa protectora es de al menos dos películas tal como se definen en la reivindicación 1. 7. Un artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que el apilado comprende: 14 E00939609 17-11-2011   (i) un substrato; (ii) una primera capa dieléctrica sobre el substrato (i); (iii) una primera capa reflectante infrarroja sobre la primera capa dieléctrica (ii); (iv) una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii); (v) una segunda capa dieléctrica que tiene: (va) una primera película dieléctrica seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc y una primera película de estannato de cinc, y (vb) una segunda película dieléctrica depositada sobre la primera película dieléctrica (va) que tiene una composición diferente de la primera película dieléctrica (vb); (vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v); (viii) una segunda capa de imprimador de metal sobre la segunda capa reflectante infrarroja (vii); (ix) una tercera capa dieléctrica sobre la segunda capa de imprimador de metal (viii), teniendo la tercera capa dieléctrica: (ixa) una primera película dieléctrica seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc; y una primera película de estannato de cinc, y (ixb) una segunda película dieléctrica, que tiene una composición diferente de la primera película dieléctrica (ixa); y (vi) una capa protectora depositada sobre la tercera capa dieléctrica (ix), en la que la capa protectora es de al menos dos películas tal como se definen en la reivindicación 1. 8. El artículo recubierto de la reivindicación 4, en el que el metal de la capa reflectante infrarroja (iii) es plata y la plata está depositada sobre la película de óxido de cinc, óxido de estaño o la segunda película de estannato de cinc (iib). 9. El artículo recubierto de la reivindicación 4, en el que la capa dieléctrica (ii) es una primera capa dieléctrica y la capa reflectante infrarroja (iii) es una primera capa reflectante infrarroja y la capa de imprimador de metal (iv) es una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii); y que incluye además: (vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v); (viii) una segunda capa de imprimador de metal sobre la segunda capa reflectante infrarroja (vii); (ix) una tercera capa dieléctrica sobre la segunda capa de imprimador de metal (ix), y la capa protectora (vi) está sobre la tercera capa dieléctrica (x). 10. El artículo recubierto de las reivindicaciones 4 y 6, en el que al menos una de la segunda y tercera capas dieléctricas (v,ix) incluyen una película de estannato de cinc que tiene 10-90 por ciento en peso de cinc y 90-10 por ciento en peso de estaño. 11. El artículo recubierto de la reivindicación 4, en el que la segunda capa dieléctrica (v) comprende: (va) una primera película dieléctrica, y (vb) una película de estannato de cinc que tiene cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90. 12. El artículo recubierto de la reivindicación 11, en el que la primera película dieléctrica (va) de la segunda capa dieléctrica (v) comprende una película de óxido de cinc; una película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc o una película de estannato de cinc que tiene una composición diferente de la composición de la película de estannato de cinc (vb) de la segunda capa dieléctrica (v). E00939609 17-11-2011   13. El artículo recubierto de la reivindicación 12, en el que la película de estannato de cinc (va) de la segunda capa dieléctrica (v) tiene cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 60 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 40, y la tercera capa dieléctrica (ix) es una película de estannato de cinc. 14. El artículo recubierto de las reivindicaciones 5 a 9, en el que la tercera capa dieléctrica (ix) comprende: (ixa) una primera película dieléctrica, y (ixb) una película de estannato de cinc que tiene cinc dentro de un intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y menor de 90 e igual a y superior a 10. 15. El artículo recubierto de la reivindicación 14, en el que la primera película dieléctrica (ixa) de la tercera capa dieléctrica (ix) está seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc; unas películas de óxido de cinc, óxido de estaño depositadas a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc o una película de estannato de cinc que tiene una composición diferente de la composición de la primera película de estannato de cinc (ixb) de la tercera capa dieléctrica (ix). 16. El artículo recubierto de la reivindicación 15, en el que la película de estannato de cinc (ixa) de la tercera capa dieléctrica (ix) tiene cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 60 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 40. 17. El artículo recubierto de las reivindicaciones 5 y 7, en el que la segunda capa dieléctrica (v) comprende: (va) una primera película dieléctrica, y (vb) una película de estannato de cinc que tiene cinc dentro de un intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90, y la tercera capa dieléctrica (ix) comprende: (ixa) una primera película dieléctrica, y (ixb) una película de estannato de cinc que tiene cinc dentro de un intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y menor de 90 e igual a y superior a 10. 18. El artículo recubierto de la reivindicación 17, en el que la primera película dieléctrica (va) de la segunda capa dieléctrica (v) y la primera película dieléctrica (ixa) de la tercera capa dieléctrica (ix) tienen una película cada una seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc; película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc o una segunda película de estannato de cinc que tiene una composición diferente de la composición de la película de estannato de cinc (vb,ixb) en la respectiva segunda o tercera capa dieléctrica. 19. El artículo recubierto de la reivindicación 10, en el que la película de estannato de cinc (iia,va) de la primera y segunda capa dieléctrica (ii,v) incluye cada una cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 60 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 40. 20. El artículo recubierto de las reivindicaciones 5, 7 ó 11, en el que la segunda capa dieléctrica (v) incluye además: (vc) una tercera capa dieléctrica sobre las películas de estannato de cinc (vb) de la segunda capa dieléctrica (v), en el que la tercera película dieléctrica (vc) es una película seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc; una película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc que tiene una composición diferente de la composición de la película de estannato de cinc (vb) más próxima a la película de estannato de cinc (vc). 21. El artículo recubierto de la reivindicación 12, en el que la primera y tercera películas dieléctricas (va,vc) de la segunda capa dieléctrica (v) y la primera capa dieléctrica (ixa) de la tercera capa dieléctrica (ix) incluyen cada una cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 60 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 40. 22. El artículo recubierto de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 21, en el que la capa protectora (vi) tiene un espesor para las películas de 0,005 hasta 0,0060 µm (5 a 60 ) para la película de metal o de silicio y de 0,0020 hasta 0,050 µm (20 a 50 ), para las películas de oxi-material. 16 E00939609 17-11-2011   23. El artículo recubierto de la reivindicación 22, en el que la capa protectora (vi) tiene un espesor para las películas de 0,0010 hasta 0,0030 µm (10 a 30 ) para la película de metal o de silicio y de 0,0030 hasta 0,0040 µm (30 a 40 ), para la película de oxi-material. 24. El artículo recubierto de la reivindicación 4, en el que o bien el silicio, o bien el metal o el metal oxi-material es la primera película de la capa (vi). 25. El artículo recubierto de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 24, en el que el substrato (i) es vidrio. 26. Uso del artículo recubierto de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 25, como un producto transparente para automóvil. 27. Uso de la reivindicación 26, en el que el producto transparente para automóvil es un parabrisas que tiene un par de láminas de vidrio laminadas conjuntamente y una de las láminas es el artículo recubierto de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 25. 28. El uso de la reivindicación 27, en el que el artículo recubierto se calienta hasta su temperatura de plegado para proporcionar un objeto de parabrisas recubierto y, después del calentamiento, el recubrimiento tiene opalescencia reducida; y el objeto recubierto se lamina a otra pieza de vidrio para proporcionar el parabrisas para automóvil. 17 E00939609 17-11-2011

 

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