Procedimiento para la fabricación de una placa de impresión litográfica,

que comprende las etapas de: (1) proporcionar un precursor de placa de impresión litográfica sensible al calor que comprende un soporte que tiene una superficie hidrofílica, o que está provista de una capa hidrofílica, un recubrimiento sensible al calor, (2) exponer dicho precursor a modo de imagen con radiación infrarroja o calor, y (3) desarrollar dicho precursor expuesto a modo de imagen con una solución alcalina de desarrollo, caracterizado porque un agente de inhibición de sedimentos está presente en dicho precursor o en dicha solución de desarrollo o en dicho precursor dicha solución de desarrollo, y en el que dicho agente de inhibición de sedimentos es un compuesto de triazaindolisina, que tiene una estructura de acuerdo con la fórmula I, **(Ver fórmula)**en donde R1 es hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, aralquilo, alquinilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, -OR4, -COOR5, -CO-NR6R7, -NR8-CO-R12 o -NR10R11; R2 es hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, un halógeno,-COOR5, -CO-NR6R7, -NR8-CO-R12 o -NR10R11; R3 es hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, -SR9, -COOR5,-CO-NR6R7, -NR8-CO-R12 o -NR10R11; R4 a R11 son seleccionados independientemente entre hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido; R12 se selecciona entre hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido -OR13 o -NR10R11; R13 se selecciona entre un alquilo grupo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, o cada uno de R1 y R2, R6 y R7, R8 y R12 o R10 y R11 representan los átomos necesarios para formar un anillo de 5 a 7 miembros

Campo de la invención

La presente invención se refiere a un procedimiento para fabricar una placa de impresión litográfica en el que precursor expuesto a modo de imagen que se desarrolla con una solución de desarrollo alcalina en el que un agente de inhibición de sedimentos está presente en dicho precursor o en dicha solución de desarrollo, o en dicho precursor y en dicha solución de desarrollo, y en el que dicho agente de inhibición de sedimentos es un compuesto de triazaindolisina. La presente invención se refiere también a un precursor de placa de impresión litográfica que comprende dicho agente de inhibición de sedimentos.

Antecedentes de la invención

La impresión litográfica típicamente implica el uso de un llamado maestro de impresión, tal como una placa de impresión que se monta en un cilindro de una prensa de impresión rotativa. El maestro lleva una imagen litográfica en su superficie y se obtiene una impresión mediante la aplicación de tinta a dicha imagen y luego se transfiere la tinta del maestro a un material receptor, que es típicamente papel. En la impresión litográfica convencional, la tinta, así como una solución de fuente acuosa (también llamado líquido amortiguador) se suministran a la imagen litográfica, que consiste en áreas oleofílicas (o hidrofóbicas, es decir, que aceptan tinta, que repelen el agua), así como áreas hidrofílicas (u oleofóbicas, es decir, que aceptan el agua, repelen la tinta). En la llamada impresión driográfica, la imagen litográfica consiste en áreas que aceptan tinta y que no aceptan tinta (repelen tinta) y durante la impresión driográfica, sólo se suministra tinta al maestro. Los maestros de impresión se obtienen generalmente mediante exposición a modo de imagen y procesamiento de un material de imagen llamado precursor de placa. Un precursor de placa de trabajo positivo típico comprende un soporte hidrofílico y un recubrimiento oleofílico que no se disuelve fácilmente en un desarrollador alcalino acuoso en el estado no expuesto y se vuelve soluble en el desarrollador después de la exposición a radiación. Además de los materiales de imagen fotosensibles bien conocidos que son adecuados para la exposición UV de contacto a través de una máscara de película (las llamadas placas pre-sensibilizadas), también los precursores de placa de impresión sensibles al calor se han vuelto muy populares. Estos materiales térmicos ofrecen la ventaja de la estabilidad a la luz del día y son especialmente utilizados en el llamado procedimiento de ordenador a placa (CtP) en el que el precursor de placa se expone directamente, es decir, sin el uso de una máscara de película. El material es expuesto al calor o a luz infrarroja y el calor generado provoca un proceso (físico) químico, tal como la ablación, la polimerización, la insolubilización mediante reticulación de un polímero o mediante la coagulación de partículas de látex de polímero termoplástico, y la solubilización mediante la destrucción de las interacciones intermoleculares o por el aumento de la penetración de una capa de barrera de desarrollo. Aunque algunos de estos procesos térmicos permiten la fabricación de placas sin procesamiento húmedo, las placas térmicas más populares forman una imagen mediante una diferencia de solubilidad inducida por calor en un desarrollador alcalino entre las zonas expuestas y no expuestas del recubrimiento. El recubrimiento comprende típicamente un ligando oleofílico, cuya velocidad de disolución en el desarrollador puede reducirse (trabajo negativo) o aumentarse (trabajo positivo) mediante la exposición a modo de imagen. Típicamente, la resina oleofílica en una placa sensible al calor es una resina fenólica, tal como, novolac, resol o una resina polivinilfenólica. La resina fenólica se puede modificar químicamente, con lo cual la unidad monomérica fenólica es sustituida por un grupo tal como se describe en los documentos WO99/01795, EP 934 822, EP 1 072 432, US 3929488, WO 2004/035687, WO 2004/035686, WO 2004/035.645, WO 2004/035310. La resina fenólica también se puede mezclar con otros polímeros tal como se describe en los documentos WO2004/020484, US 6,143,464, WO2001/09682, EP 933 682, WO99/63407, W02002/53626, EP 1 433 594 y EP 1 439 058. El recubrimiento puede también estar compuesto por dos o más capas, comprendiendo cada una de ellas una o más de las resinas descritas anteriormente, tal como se describe, por ejemplo en EP 864420, EP 909657, EP-A-1011970, EP-A-1263590, EP-A-1268660, EP-A-1072432, EP-A-1120246, EP-A-1303399, EP-A-1311394, EP-A-1211065, EPA-1368413, EP-A-1241003, EP-A-1299238, EP-A-1262318, EP-A-1275498, EP -A-1291172, WO2003/74287, W02004/33206, EP-A-1433594 y EP-1439058 A.

Para una placa térmica de trabajo positivo, un inhibidor de la disolución se añade a una resina fenólica como ligando, mediante el cual se reduce la velocidad de disolución del recubrimiento. Al calentarse, esta velocidad reducida de disolución del recubrimiento es mayor en las áreas expuestas en comparación con las áreas no expuestas, lo que resulta en una diferencia suficiente en la solubilidad del recubrimiento después de la grabación a modo de imagen mediante calor o radiación IR. Muchos inhibidores de disolución diferentes son conocidos y descritos en la literatura, tales como compuestos orgánicos que tienen un grupo aromático y un sitio de unión de hidrógeno o polímeros o tensioactivos que comprenden siloxano o unidades de fluoroalquilo.

Durante el procesamiento, la solubilidad diferencial conduce a la eliminación de las áreas sin imagen (no impresas) del recubrimiento, revelando así el soporte hidrofílico, mientras que las áreas de imagen (impresas) del recubrimiento permanecen sobre el soporte. De este modo, el recubrimiento de las áreas sin imagen (no impresas) se solubiliza en la solución de desarrollo alcalina y los ingredientes que constituyen el recubrimiento se acumulan en la solución de desarrollo y puede dar lugar a la formación de sedimentos. Bajo sedimentos se entiende todo tipo de materias insolubles, tales como productos no disueltos, floculados o precipitados o estructuras de gel, formadas en la solución de desarrollo mediante la interacción entre los componentes del recubrimiento y la solución de desarrollo. Esta materia insoluble puede adherirse en la superficie de la placa, perjudicando a la imagen en la placa y también pueden contaminar la estación de desarrollo mediante la adhesión sobre la superficie de los rodillos y los tanques de desarrollo. Como resultado de la formación de sedimentos, el proceso de desarrollo puede verse obstaculizado (aumento de la viscosidad de la solución de desarrollo, que afecta a la imagen en la placa y contaminación de la estación de desarrollo, obstrucción de los filtros) y la solución de desarrollo debe cambiarse regularmente.

El documento WO 97/39894 describe una composición sensible al calor oleofílica que comprende un polímero soluble en un desarrollador acuoso, y un compuesto de inhibición tal como un compuesto heterocíclico que contiene nitrógeno (por ejemplo, quinolina y 1,2,4-triazol), que reduce la solubilidad acuosa del polímero, y en el que la solubilidad de la composición en el desarrollador se incrementa después del calentamiento.

El documento EP 1 439 058 describe un precursor de placa de impresión planográfico que incluye un soporte hidrofílico y, sobre el mismo, una capa inferior, que comprende un compuesto de tiazol, y una capa de formación de la imagen. La solución de desarrollo puede comprender bencimidazol.

El documento WO 2004/020484 describe un precursor de placa de impresión litográfica sensible al calor de trabajo positivo que comprende un substrato con un tratamiento previo opcional y un recubrimiento sensible al calor de trabajo positivo. El recubrimiento puede comprender un compuesto de triazol o un compuesto de benztiazol.

El documento US 2002/0132193 describe una solución de desarrollo para una fotoresistencia que comprende un compuesto de amina alicíclico tal como pirrol, pirrolidina, pirrolidona, piridina, morfolina, pirazina, piperidina, oxazol o tiazol, y un alcalino compuesto no metálico.

El documento WO 2005/001571 describe una composición sensible a infrarrojos que comprende una cadena de agentes de transferencia, tales como 2-mercaptobenzimidazol, 2-mercaptobenztiazol, 2-mercaptobenzoxazol o 3mercapto-1,2,4-triazol.

El documento US 6.162.575 describe un proceso para fabricar una placa de impresión litográfica, que comprende someter un material de impresión litográfica que tiene núcleos de desarrollo físico entre un soporte de aluminio anodizado y una capa... [Seguir leyendo]

1. Procedimiento para la fabricación de una placa de impresión litográfica, que comprende las etapas de: (1) proporcionar un precursor de placa de impresión litográfica sensible al calor que comprende un soporte que tiene una superficie hidrofílica, o que está provista de una capa hidrofílica, un recubrimiento sensible al calor,

(2) exponer dicho precursor a modo de imagen con radiación infrarroja o calor, y (3) desarrollar dicho precursor expuesto a modo de imagen con una solución alcalina de desarrollo,

caracterizado porque un agente de inhibición de sedimentos está presente en dicho precursor o en dicha solución de desarrollo o en dicho precursor dicha solución de desarrollo, y en el que dicho agente de inhibición de sedimentos es un compuesto de triazaindolisina, que tiene una estructura de acuerdo con la fórmula I,

**(Ver fórmula)**

en donde R1 es hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, aralquilo, alquinilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, -OR4, -COOR5, -CO-NR6R7, -NR8-CO-R12 o -NR10R11; R2 es hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, un halógeno,-COOR5, -CO-NR6R7, -NR8-CO-R12 o -NR10R11; R3 es hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, -SR9, -COOR5,-CO-NR6R7, -NR8-CO-R12 o -NR10R11; R4 a R11 son seleccionados independientemente entre hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido; R12 se selecciona entre hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido -OR13 o -NR10R11; R13 se selecciona entre un alquilo grupo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, o cada uno de R1 y R2, R6 y R7, R8 y R12 o R10 y R11 representan los átomos necesarios para formar un anillo de 5 a 7 miembros.

2. Procedimiento según la reivindicación 1, en el que R1 y R2 se seleccionan independientemente entre hidrógeno o 35 un grupo alquilo opcionalmente sustituido.

3. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que R3 se selecciona entre hidrógeno, un grupo alquilo opcionalmente sustituido con 1 a 5 átomos de carbono, o -SR9.

40 4. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que R3 es hidrógeno.

5. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el precursor comprende dicho agente de inhibición de sedimentos y en el que durante dicha etapa de desarrollo por lo menos parte de dicho agente de inhibición de sedimentos se elimina de dicho precursor.

45

6. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que durante o después de dicha etapa de desarrollo, se añade una solución de reposición que comprende dicho agente de inhibición de sedimentos a dicha solución de desarrollo.

50 7. Procedimiento según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que dicha solución de desarrollo alcalina que comprende dicho agente de inhibición de sedimentos también comprende un silicato o metasilicato.

8. Precursor de placa de impresión litográfica sensible al calor, que comprende sobre un soporte que tiene una superficie hidrofílica, o que está provista de una capa hidrofílica, un recubrimiento sensible al calor que comprende

55 (i) un agente de absorción de infrarrojos, (ii) una resina oleofílica alcalina soluble cuya solubilidad en una solución de desarrollo alcalina se reduce en el recubrimiento y cuya solubilidad en una solución de desarrollo alcalina aumenta bajo calentamiento o radiación de infrarrojos y (iii) un agente de inhibición de sedimentos que es un compuesto de triazaindolisina que tiene una estructura según la fórmula I, tal como se define en la reivindicación 1.

9. Procedimiento para reducir la formación de sedimentos mediante el desarrollo de un precursor de placa de impresión litográfica sensible al calor según la reivindicación 1, con una solución alcalina de desarrollo, en el que dicho precursor y/o dicha solución de desarrollo comprenden un agente de inhibición de sedimentos que es un compuesto de triazaindolisina que tiene una estructura de acuerdo con la fórmula I, tal como se define en la reivindicación 1.