COMPOSICIONES ESTABILIZADAS LIMPIADORAS, NO ACUOSAS, PARA SUSTRATOS MICROELECTRONICOS.

Una composición decapante y de limpieza no acuosa para la limpieza de dispositivos microelectrónicos,

comprendiendo la composición:

a) por lo menos un compuesto polar orgánico sulfurado como solvente de decapado,

b) por lo menos una fuente anhidra de una base fuerte de hidróxido, y

c) por lo menos una hidroxipiridina como agente estabilizador

Tipo: Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: W07002911US.

Solicitante: MALLINCKRODT BAKER, INC..

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 222 RED SCHOOL LANE,PHILLIPSBURG, NEW JERSEY 08865.

Inventor/es: KANE,SEAN,M.

Fecha de Publicación: 15 de Diciembre de 2009.

Fecha Concesión Europea: 26 de Agosto de 2009.

Clasificación Internacional de Patentes:

C11D7/06 QUIMICA; METALURGIA. › C11 ACEITES, GRASAS, MATERIAS GRASAS O CERAS ANIMALES O VEGETALES; SUS ACIDOS GRASOS; DETERGENTES; VELAS. › C11D COMPOSICIONES DETERGENTES; UTILIZACION DE UNA SOLA SUSTANCIA COMO DETERGENTE; JABON O SU FABRICACION; JABONES DE RESINA; RECUPERACION DE LA GLICERINA. › C11D 7/00 Composiciones de detergentes basadas esencialmente en compuestos no tensioactivos. › Hidróxidos.
C11D7/50A2
G03F7/42L4
H01L21/02F4D

Clasificación PCT:

C11D7/06 C11D 7/00 […] › Hidróxidos.
C11D7/32 C11D 7/00 […] › que contienen nitrógeno.
C11D7/34 C11D 7/00 […] › que contienen azufre.
C11D7/50 C11D 7/00 […] › Solventes.
G03F7/42 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Eliminación de reservas o agentes a este efecto.
H01L21/02 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › Fabricación o tratamiento de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas.

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