DISPOSITIVO DE TRATAMIENTO DE GAS MEDIANTE PLASMA.
Dispositivo de tratamiento de gas mediante plasma particularmente mantenido por microondas,
del tipo que comprende una estructura hueca (12) que forma guía ondas destinada para ser conectada a un generador (60) de microondas, y medios (29) para hacer circular el gas a tratar a través de la indicada estructura en una zona en la cual la amplitud del campo eléctrico asociado con la onda incidente es elevada y de preferencia máxima, caracterizado porque los medios para hacer circular el gas comprenden al menos una antorcha (29) de plasma para la producción, a la salida de esta última, de un plasma en el gas a tratar, comprendiendo la antorcha un inyector (30) de material conductor eléctrico montado en una primera gran superficie (33A) de la estructura (12) que forma guía ondas y que se extiende en saliente a través de un orificio (26) previsto en una segunda superficie mayor (33B) opuesta a la indicada primera superficie mayor, extendiéndose un intersticio (26A; 105A) de paso de las ondas incidentes alrededor del inyector (30).
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'E.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: TUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE,75, QUAI D'ORSAYF-75321 PARIS.
Inventor/es: MOISAN, MICHEL, ZAKRZEWSKI, ZENON, KEROACK, DANIELLE, ROSTAING, JEAN-CHRISTOPHE.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 23 de Octubre de 2001.
Fecha Concesión Europea: 6 de Mayo de 2004.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01J37/32 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).
- H05H1/30 H […] › H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26). › H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00). › utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/28 tiene prioridad).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Finlandia, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Emiratos Árabes Unidos, Antigua y Barbuda, Armenia, Australia, Azerbayán, Bosnia y Herzegovina, Barbados, Bulgaria, Brasil, Bielorusia, Belice, Canadá, China, Colombia, Costa Rica, República Checa, Dominica, Argelia, Ecuador, Estonia, Granada, Georgia, Ghana, Gambia, Croacia, Hungría, Indonesia, Israel, India, Islandia, Japón, Kenya, Kirguistán, República de Corea, Kazajstán, Santa Lucía, Sri Lanka, Liberia, Lesotho, Marruecos, República del Moldova, Madagascar, Mongolia, Malawi, México, Mozambique, Noruega, Nueva Zelanda, Polonia, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, Turquía, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Cuba, República Popular Democrática de Corea, Filipinas, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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