PIRIDO-TIENO-DIAZEPINAS , SU PROCEDIMIENTO DE PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LAS CONTIENEN.

Los compuestos de la fórmula general I bajo forma racémica, o como enantiómeros o diastereoisómeros o todas las combinaciones de estas formas,

y en la cual R1 representa un átomo de hidrógeno o un radical de la fórmula R’1-NH-C(Y R’1 representa un radical arilo o heteroarilo, estando los radicales arilo y heteroarilo eventualmente sustituidos con uno o varios sustituyentes, idénticos o diferentes, seleccionados entre los radicales siguientes: alquilo inferior, alcoxi inferior, alquiltio inferior, (alcoxi inferior)-carbonilo, (alquilo inferior)-sulfonilo, halo, trifluorometilo, trifluorometoxi, hidroxi, nitro, ciano, arilo, ariloxi, cicloalquilo o heterocicloalquilo; R2 representa un radical alquilo inferior, trifluorometilo o el radical fenilo eventualmente sustituido con uno o varios sustituyentes, idénticos o diferentes, seleccionados entre: el radical hidroxi, halo, un radical alquilo inferior o alcoxi inferior; X e Y representan independientemente O ó S; R3a representa un átomo de hidrógeno, un radical alquilo inferior, hidroxi o el radical de la fórmula -OC(O)R’3a; R’3a representa un radical alquilo que comprende de 1 a 10 átomos de carbono eventualmente sustituido con uno o varios sustituyentes, idénticos o diferentes, seleccionados entre los radicales siguientes: cicloalquilo; heterocicloalquilo; arilo; heteroarilo; guanidilo eventualmente sustituido con nitro o ciano; un radical de la fórmula NR”3aR”’3a en la que R”3a y R”’3a representan, independientemente, un átomo de hidrógeno, un radical alquilo inferior, arilo, arilalquilo inferior, heteroarilalquilo inferior, alquilcarbonilo o alcoxicarbonilo; R3b representa un átomo de hidrógeno o un radical alquilo inferior; R4 representa un radical de la fórmula -(CH2) n-CHR’4R”4.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: SOCIETE DE CONSEILS DE RECHERCHES ET D'APPLICATIONS SCIENTIFIQUES (S.C.R.A.S.).

Nacionalidad solicitante: Francia.

Dirección: 51/53 RUE DU DOCTEUR BLANCHE,75016 PARIS.

Inventor/es: BIGG, DENNIS, LIBERATORE, ANNE-MARIE.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 7 de Abril de 2000.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • A61K31/55 NECESIDADES CORRIENTES DE LA VIDA.A61 CIENCIAS MEDICAS O VETERINARIAS; HIGIENE.A61K PREPARACIONES DE USO MEDICO, DENTAL O PARA EL ASEO (dispositivos o métodos especialmente concebidos para conferir a los productos farmacéuticos una forma física o de administración particular A61J 3/00; aspectos químicos o utilización de substancias químicas para, la desodorización del aire, la desinfección o la esterilización, vendas, apósitos, almohadillas absorbentes o de los artículos para su realización A61L; composiciones a base de jabón C11D). › A61K 31/00 Preparaciones medicinales que contienen ingredientes orgánicos activos. › que tienen ciclos con siete eslabones, p. ej. azelastina, pentilentetrazol.
  • A61P5/00 A61 […] › A61P ACTIVIDAD TERAPEUTICA ESPECIFICA DE COMPUESTOS QUIMICOS O DE PREPARACIONES MEDICINALES.Medicamentos para el tratamiento de trastornos del sistema endocrino.
  • C07D495/14 QUIMICA; METALURGIA.C07 QUIMICA ORGANICA.C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › C07D 495/00 Compuestos heterocíclicos que contienen en el sistema condensado al menos un heterociclo que tiene átomos de azufre como únicos heteroátomos del ciclo. › Sistemas orto-condensados.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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