POLIMEROS FOTOSENSIBLES Y PLACAS DE IMPRESION.
UN COMPUESTO DE LA FORMULA (I), EN DONDE R, Y, Y', X, X', R' Y R'' TIENEN LOS SIGNIFICADOS MOSTRADOS EN LA DESCRIPCION;
PROCESO PARA LA PREPARACION DEL COMPUESTO DE FORMULA (I) Y PLACAS DE IMPRESION DE OFFSET POSITIVAS O NEGATIVAS PRESENSIBILIDADAS QUE TIENEN UNA CAPA FOTOSENSIBLE QUE COMPRENDE UN COMPUESTO DE FORMULA (I).
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: LASTRA S.P.A.
Nacionalidad solicitante: Italia.
Dirección: VIA BRESCIA, 36,I-25025 MANERBIO.
Inventor/es: CANESTRI, GIUSEPPE, DE CANDIDO, STEFANO.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 6 de Diciembre de 1991.
Fecha Concesión Europea: 27 de Agosto de 1997.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C08G59/58 QUIMICA; METALURGIA. › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES. › C08G COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES DISTINTAS A AQUELLAS EN LAS QUE INTERVIENEN SOLAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO (procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para sintetizar un compuesto dado o una composición dada o para la separación de isómeros ópticos a partir de una mezcla racémica C12P). › C08G 59/00 Policondensados que contienen varios grupos epoxi por molécula; Macromoléculas obtenidas por reacción de policondensados poliepoxi con compuestos monofuncionales de bajo peso molecular; Macromoléculas obtenidas por polimerización de compuestos que contienen más de un grupo epoxi por molécula utilizando agentes de endurecimiento o catalizadores que reaccionan con los grupos epoxi. › con ácidos policarboxílicos o con anhídridos, haluros o ésteres de bajo peso molecular.
- C08G63/685 C08G […] › C08G 63/00 Compuestos macromoleculares obtenidos por reacciones que forman un enlace éster carboxílico en la cadena principal de la macromolécula (poliesteramidas C08G 69/44; poliesterimidas C08G 73/16). › que contienen nitrógeno.
- G03F7/021 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos de diazonio macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Países Bajos, Suecia, Finlandia, Rumania, Oficina Europea de Patentes, Australia, Barbados, Bulgaria, Brasil, Canadá, Hungría, Japón, República de Corea, Sri Lanka, Madagascar, Mongolia, Malawi, Noruega, Polonia, Sudán, Estados Unidos de América, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Senegal, Chad, Togo, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, República Popular Democrática de Corea, Checoslovaquia, Unión Soviética.
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