FABRICACION DE DISPOSITIVO QUE COMPRENDE UN PROCESO LITOGRAFICO.
FABRICACION DE DISPOSITIVOS CON TAMAÑO DE CARACTERISTICAS MINIMAS DE MICRA Y SUBMICRA,
QUE SE LLEVA A CABO MEDIANTE PROCESAMIENTO LITOGRAFICO EN QUE INTERVIENE UN FILTRO PLANO FOCAL TRASERO (8). UN TRATAMIENTO DE LA FABRICACION QUE IMPORTA PARTICULARMENTE DEPENDE DE LOS MODELOS DE MASCARA QUE PRODUCEN IMAGENES BASADAS EN LA DISCRIMINACION, COMO ENTRE LA RADIACION DISEMINADA (1B) Y SIN DISEMINAR (1A) MEDIANTE ELECTRONES ACELERADOS. POR EL CAMBIO DE FILTRO ES POSIBLE PRODUCIR DOS MODELOS COMPLEMENTARIOS DE LA MISMA MASCARA.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: AT&T CORP..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 32 AVENUE OF THE AMERICAS,NEW YORK, NY 10013-2412.
Inventor/es: BERGER, STEVEN DAVID, GIBSON, JOHN MURRAY.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 18 de Octubre de 1995.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01J37/317 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › para modificar las propiedades de objetos o para aplicarles revestimientos de capa delgada, p. ej. implantación de iones (H01J 37/36 tiene prioridad).
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