REVESTIMIENTOS ANTIRREFLEXIVOS PARA UTILIZACION EN FOTOLITOGRAFIA.
LA REFLEXION DE LA RADIACION OPTICA INCIDENTE (18) PROCEDENTE DE UNA CAPA DE METAL ALTAMENTE REFLECTOR (12),
TAL COMO ALUMINIO O TITANIO, EN UNA CAPA DE MATERIAL FOTOENDURECIBLE (14) SE DISMINUYE INTERPONIENDO UNA CAPA DE NITRURO DE TITANIO (16) ENTRE LAS CAPAS DE METAL Y MATERIAL FOTOENDURECIBLE. EL ESPESOR DE LA CAPA DE TIN DEPENDE DELA LONGITUD DE ONDA DE LA RADIACION OPTICA UTILIZADA PARA EXPONER EL MATERIAL FOTOENDURECIBLE Y DE LAS PROPIEDADES OPTICAS DE LA CAPA DE METAL SUBYACENTE. SE PUEDE CONSEGUIR REFLECTANCIA DE MENOS QUE 2 % APROXIMADAMENTE UTILIZANDO LA CAPA DE TIN JUNTO CON AL Y MENOS QUE APROXIMADAMENTE 5 % JUNTO CON TI, DE ACUERDO CON LA INVENCION. SI QUEDA EN EL SITIO DESPUES DE DISEÑAR UNA CAPA DE AL SUBYACENTE, LA CAPA DE TIN TAMBIEN SIRVE PARA SUPRIMIR LA FORMACION DE MONTICULOS EN LA CAPA DE AL.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ADVANCED MICRO DEVICES INC..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 901 THOMPSON PLACE P.O. BOX 3453,SUNNYVALE, CA 94088.
Inventor/es: ARNOLD, WILLIAM H., III, FARNAAM, MOHAMMAD, SLIWA, JACK.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 9 de Noviembre de 1994.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/02
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