FOTORRESISTENCIAS TERMICAMENTE ESTABLES CON FONDO DE ALTA SENSIBILIDAD DE LA INVENCION.
LA PRESENTE INVENCION DESCRIBE MATERIALES POLIMEROS LITOGRAFICOS ESPECIALES Y METODOS PARA UTILIZAR ESTOS MATERIALES,
EN LOS QUE LOS MATERIALES POLIMEROS TIENEN GRUPOS LABILES A LOS ACIDOS O FOTOLABILES PENDIENTES DE LA COLUMNA POLIMERA. LOS MATERIALES POLIMEROS SON SUFICIENTEMENTE TRANSPARENTES A LA RADIACION UV PROFUNDA PARA PERMITIR IMPRESIONAR UV PROFUNDO, SE PUEDEN UTILIZAR PARA OBTENER ESTRUCTURAS RESISTENTES QUE TIENEN ESTABILIDAD TERMICA A TEMPERATURAS SUPERIORES A 160 (GRADOS) C APROXIMADAMENTE, Y SON SUFICIENTEMENTE RESISTENTES A ENTRECRUZAMIENTO EXCESIVO CUANDO SE CALIENTAN A TEMPERATURAS ENTRE 160 Y 250 (GRADOS) C APROXIMADAMENTE, QUE PERMANECEN SOLUBLES EN REVELADORES Y LAVADORES LITOGRAFICOS COMUNES. LA PRESENTE INVENCION TAMBIEN DESCRIBE RESISTENCIAS QUE COMPRENDEN BENZOATOS DE POLIVINILO SUSTITUIDO QUE, DESPUES DE FORMAR IMAGEN, MUESTRAN INESPERADAMENTE UNA ALTA ESTABILIDAD TERMICA, EN CONDICIONES DE FLUJO PLASTICO. ESTAS RESISTENCIAS NO SE PUEDEN IMPRESIONAR UTILIZANDO UV PROFUNDO DEBIDO A QUE MUESTRAN UN ALTO GRADO DE OPACIDAD POR DEBAJO DE 280 NM; SIN EMBARGO SON UTILES COMO LA ANTERIOR, CAPA DE FORMACION DE IMAGEN EN UN PROCESO DE RESISTENCIA BICAPA EN EL QUE LA CAPA SUPERIOR ACTUA COMO UNA PANTALLA DURANTE LA EXPOSICION A UV PROFUNDO DE LA CAPA DEL FONDO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: OLD ORCHARD ROAD ARMONK, N.Y. 10504.
Inventor/es: BRUNSVOLD, WILLIAM ROSS, CROCKATT, DALE MURRAY, CHOW, MING-FEA, FRECHET, JEAN-MARIE JOSEPH, CONLEY, WILLARD EARL, HEFFERSON, GEORGE JOSEPH, ITO, HIROSHIIWAMOTO, NANCY ELLEN, WILLSON, CARLTON GRANT.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 4 de Enero de 1995.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/02
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