REACTOR LIQUIDO CABEZAL REGISTRO.

UN REACTOR LIQUIDO CABEZAL REGISTRO, TENIENDO UNA SENDA LIQUIDA COMUNICADA AL EVACUADOR DE DESCARGA DEL LIQUIDO PROBADO EN UNA SUPERFICCIE DE SUSTRATO,

DICHA SENDA ES FORMADA EXPONIENDO UNA VETA DE RESINA COMPOSICION CURABLE CON UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA A UN MODELO CLICHE PREDETERMINADA CON EL USO DE DICHO RAYO DE ENERGIA ACTIVA A CONSECUENCIA FORMA UNA REGION VULCANIZADA DESDE DICHA VETA, LA COMPOSICION DE RESINA SIENDO UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA CURABLE INCLUYENDO: A) COMPRENDE UN POLIMERO DE INJERTO COPOLIMERIZADO: LINEA DE CADENAS COMPUESTAS GENERALMENTE DE UNIDADES ESTRUCTURALES UN MONOMERO REPRESENTADO EN LA FORMULA GENERAL (1) MOSTRADA ABAJO: EN QUE R1 A R2 REPRESENTADO CADA UNO O HIDROGENO O UN GRUPO METILICO) Y DE LINEA DE MINIMA RESISTENCIA UN MONOMERO ESCOGIDO DESDE EL GRUPO COMPUESTO DE ALQUILICO METACRILATO, ACRILOMITUIDO Y ESTIRENO, HABIENDO CADENAS DE INJERTO COMPUESTAS GENERALMENTE DE UNIDADES ESTRUCTURALES DERIVADAS DESDE LA LINEA MINIMA RESISTENCIA A UN MONOMERO ESCOGIDO DESDE EL GRUPO COMPUESTO DE (A) HIDROXILO CONTENIENDO MONOMEROS DE METACRILATO, (B) DE AMINO O AMINOALQUILICO CONTENIENDO MONOMERO DE METACRILATO, (C) MONOMEROS DE CARBOXILICO CONTENIENDO METACRILATO O VINILO, (D) N-VINILICOPIRRITINA, (E) VINILOCOPIRIDINA DE OTRO MODO SUS DERIVADOS Y (F) DERIVADOS DE METACRILAMIDA REPRESENTADOS POR LA FORMULA GENERAL (II) SIGUIENTE: EN QUE R ES HIDROGENO O GRUPO METILICO, Y R2 ES HIDROGENO O GRUPO ALQUILICO A (ACY) TENIENDO DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO QUE PUEDEN TENER UN GRUPO DE HIDROXILO) SATURADAS DICHAS LINEAS DE CADENAS; Y B) UN MONOMERO TENIENDO UNIDO DE ETILENO NO SATURADO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CANON KABUSHIKI KAISHA.

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 30-2, 3-CHOME, SHIMOMARUKO, OHTA-KU, TOKYO.

Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI, SATO, YASUFUMI, MUNAKATA, MEGUMI.

Fecha de Publicación: 16 de Julio de 1994.

Fecha Concesión Europea: 9 de Septiembre de 1992.

Clasificación Internacional de Patentes:

G03C1/72 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03C MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS FOTOGRAFICOS, p. ej. PROCESOS CINEMATOGRAFICOS, DE RAYOS X, EN COLORES o ESTEREOFOTOGRAFICOS; PROCESOS AUXILIARES EN FOTOGRAFIA (procesos fotográficos caracterizados por el uso o la manipulación de aparatos, pueden ser clasificados en sí en la subclase G03B o ver G03B). › G03C 1/00 Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles para procesos multicolores G03C 7/00; para procesos de difusión por transferencia G03C 8/00). › Composiciones fotosensibles no cubiertas por los grupos G03C 1/005 - G03C 1/705.
G03F7/032 G03 […] › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › con aglutinantes.

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