CONTACTO EN UN HUECO DE CONTACTO DE UN SEMICONDUCTOR Y METODO DE PRODUCCION DEL MISMO.

UN CONTACTO ESTABLE, DE BAJA RESISTENCIA, SE FORMA EN UN HUECO DE CONTACTO (16) EN UNA CAPA AISLANTE (14),

POR EJEMPLO DIOXIDO DE SILICIO, FORMADA SOBRE LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO SEMICONDUCTOR (12), POR EJEMPLO SILICIO, HASTA UNA PARTE DE UN AREA IMPURIFICADA (10) EN DICHA SUPERFICIE DEL SEMICONDUCTOR. EL CONTACTO COMPRENDE: A) UNA CAPA DE ADHESION Y CONTACTO (18), DE TITANIO, FORMADA A LO LARGO DE LAS PAREDES DE LA CAPA AISLANTE Y EN CONTACTO CON LA PORCION DEL AREA IMPURIFICADA, B) UNA CAPA DE BARRERA (20) FORMADA SOBRE LA CAPA ADHERENTE DE CONTACTO Y C) UN MATERIAL CONDUCTOR (22) FORMADO SOBRE LA CAPA DE BARRERA Y QUE LLENA EL REFERIDO HUECO DE CONTACTO. UNA LAMINA PATRON DE METAL (26) FORMA UN CONTACTO OHMICO INTERCONECTADO CON OTROS DISPOSITIVOS Y CIRCUITOS EXTERNOS. LA CAPA DE ADHESION Y CONTACTO Y LA DE BARRERA SON FISICA O QUIMICAMENTE DEPOSITADAS EN FORMA DE VAPOR SOBRE LA SUPERFICIE DEL OXIDO. LA CAPA CONDUCTORA CONSTA DE WOLFRAMIO (CVD) O PULVERIZADO POR BOMBARDEO IONICO, MOLIBDENO O POLISILICIO (CVD) IMPURIFICADO IN SITU. EL CONTACTO EVITA PROBLEMAS DE INTERFERENCIA EN LA INTERFAZ OXIDO-SILICIO Y AGUJEROS HELICOIDALES ASOCIADOS CON OTROS ESQUEMAS DE CONTACTOS, PERO MANTIENE LA SIMPLICIDAD DEL PROCESO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: ADVANCED MICRO DEVICES INC..

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 901 THOMPSON PLACE P.O. BOX 3453, SUNNYVALE, CA 94088.

Inventor/es: FARNAAM, MOHAMMAD, SLIWA, JACK, SANDER, CRAIG S., KLEIN, RICHARD K., DIXIT, PANKAJ.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 24 de Agosto de 1994.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01L21/60 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › Fijación de hilos de conexión o de otras piezas conductoras, para conducir la corriente hacia o desde el dispositivo durante su funcionamiento.

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