UNIDAD DE DEPOSITO DE MEMBRANA-ELECTRODIALISIS PARA PROCESO DE AUMENTO DE CAMARAS.

EL INVENTO CONSISTE EN UNA UNIDAD DE DEPOSITO DE MEMBRANA PARA PROCESO DE AUMENTO DE CAMARAS DE LA ELECTRODIALISIS FORMADO POR UN AUMENTO DE LAS MEMBRANAS SELECTIVAS DE IONES,

PLACAS FINALES CON DISPOSICION PARA LA ENTRADA Y SALIDA DE LAS DISOLUCIONES A MANIPULAR, DEL CORRESPONDIENTE SISTEMA DE ABASTECIMIENTO Y CONEXION Y DE LOS ELECTRODOS COMO MARCOS DE CELULAS DE DOS PARTES, EN UNA DE CUYAS SUPERFICIES SE FIJA LA MEMBRANA SELECTIVA DE IONES CORRESPONDIENTE, MIENTRAS QUE SOBRE OTRA SUPERFICIE DE MARCO DE CELULAS ENTRE DOS MEMBRANAS LIMITROFES SE CONSTRUYE UNA CAMARA DE DIALISIS, CARACTERIZADA PORQUE CADA UNA VECINA A LA OTRA, UNA CAMARA DE ELECTRODIALISIS DEL DEPOSITO DE MEMBRANAS FORMADO POR PARTES DEL MARCO DE CELULAS (3) REFLEJADO EN OTRO, REFERIDO A UNO ENTRE SU PARALELO HACIA LA SUPERFICIE QUE SE EXTIENDE HACIA LA MEMBRANA (30), TODAS LAS PARTES DEL MARCO DE CELULAS (3) DE LA UNIDAD DE DEPOSITO DE LA MEMBRANA OPUESTAS A OTRAS DOS, ADEMAS COMO LA SUPERFICIE COMPRIMIDA DE LOS BORDES (1,2) ACTIVOS DE LOS TALADROS DE ABASTECIMIENTO Y CONEXION (8,9) Y (10,11) PRESENTA UNA FORMA DE CORTE TRANSVERSAL APROPIADA SESGADA A LA SUPERFICIE DE LA MEMBRANA, QUE TIENEN INDIVIDUALMENTE UN CORTE TRANSVERSAL HIDRAULICO DE APROX. 100 A 500 MM2 Y ALTERNANDO CON LAS UNIDADES DE ENTRADA Y SALIDA (33,34) DE LAS PLACAS FINALES (35,36), UNA DE CADA DOS CAMARAS DE ELECTRODIALISIS PRESENTA EL MARCO DE CELULAS (3) DE LA UNIDAD DE DEPOSITO DE MEMBRANA PARALELO A LA SUPERFICIE COMPRIMIDA DEL SISTEMA DE TALADRO DE DISTRIBUCION (4,5), QUE UNEN LOS TALADROS DE ABASTECIMIENTO (8,9) Y (10,11) EN FORMA DE RAYOS CON EL INTERIOR DE LA CAMARA (6) Y TIENEN UN SOLO CORTE TRANSVERSAL HIDRAULICO DE 0,04 A 6,5 MM2 POR TALADRO Y EL CUAL SE DEFINE DESDE AMBAS PARTES DEL MARCO DE CELULAS (3) REFLEJADAS EN OTRAS HASTA LA MITAD Y LOS TALADROS DE ABASTECIMIENTO Y CONEXION (8,9) Y (10,11) ASI COMO EL SISTEMA DE TALADRO DISTRIBUTIVO (4,5) ESTAN CERRADOS HERMETICAMENTE A TRAVES DE LOS MARCOS UNO CONTRA OTRO Y CONTRA EL CONTORNO SIN CIERRE DE PERFIL Y LOS MARCOS Y PLACAS FINALES SOLO SE ENCUENTRAN DE DOS TIPOS DIFERENTES, QUE SE PUEDEN COLOCAR EN EL DEPOSITO CON HASTA CUATRO DIFERENTES CORRIENTES DE PROCESO, ASI COMO EL EMPLEO DE TAL UNIDAD DE DEPOSITO DE MEMBRANA PARA DESALINIZACION DEL AGUA Y LIMPIEZA DE AGUA ASI COMO PARA RECUPERACION DE MATERIA PRIMA DE CLASE IONICA DE LAS DISOLUCIONES ACUOSAS.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: STANTECH GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: KLAUS-GROTH-STRASSE 25, W-2000 HAMBURG 26.

Inventor/es: STRATHMANN, HEINER, SCHMOLDT, HARM.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 7 de Enero de 1993.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B01D61/50 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B01 PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL.B01D SEPARACION (separación de sólidos por vía húmeda B03B, B03D, mesas o cribas neumáticas B03B, por vía seca B07; separación magnética o electrostática de materiales sólidos a partir de materiales sólidos o de fluidos, separación mediante campos eléctricos de alta tensión B03C; aparatos centrifugadores B04B; aparato de vórtice B04C; prensas en sí para exprimir los líquidos de las sustancias que los contienen B30B 9/02). › B01D 61/00 Procedimiento de separación que utilizan membranas semipermeables, p. ej. diálisis, ósmosis o ultrafiltración; Aparatos, accesorios u operaciones auxiliares, especialmente adaptados para ello (separación de gases o vapores por difusión B01D 53/22). › Apilamientos del tipo con placa y marco.
  • C02F1/46 QUIMICA; METALURGIA.C02 TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS.C02F TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS (procedimientos para transformar las sustancias químicas nocivas en inocuas o menos perjudiciales, efectuando un cambio químico en las sustancias A62D 3/00; separación, tanques de sedimentación o dispositivos de filtro  B01D; disposiciones relativas a las instalaciones para el tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla en los buques, p. ej. para producir agua dulce, B63J; adición al agua de sustancias para impedir la corrosión C23F; tratamiento de líquidos contaminados por radiactividad G21F 9/04). › C02F 1/00 Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla (C02F 3/00 - C02F 9/00 tienen prioridad). › por procesos electroquímicos.

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