SISTEMA DE REOSTRICCION DE PLASMA Y METODO PARA USAR EL MISMO.

SISTEMA DE REOSTRICCION DE PLASMA Y METODO PARA USAR EL MISMO.

UN SISTEMA DE REOSTRICCION DE PLASMA INCLUYE UN DISPOSITIVO DE PLASMA CONSISTENTE EN UNA NUBE PREACONDICIONADORA DE VAPOR TENUE QUE RODEA A UNA CORRIENTE DE FLUIDO FINA FLUYENTE CENTRAL, ESTRECHA, DE FLUIDO BAJO PRESION. CONECTADO ELECTRICAMENTE AL DISPOSITIVO DE REOSTRICCION DEL CHORRO DE FLUIDO SE ENCUENTRA UN DISPOSITIVO DE DESCARGA PARA QUE APORTE UN FLUJO ELECTRICO A TRAVES DE UNA PARTE DE LA CORRIENTE DE FLUIDO, PARA ESTABLECER UNA LUZ INCOHERENTE EMISORA DE PLASMA PARA FABRICAR SEMICONDUCTORES INCLUYE LA EXPOSICION DE UNA PASTILLA SEMICONDUCTORA A LA LUZ INCOHERENTE EMITIDA POR EL PLASMA, PARA FINES DE RECOCIDO O DE MORDENTADO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: GERENTES DE LA UNIVERSIDAD DE CALIFORNIA.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 1320 HARBOR BAY PARKWAY, SUITE 150 ALAMEDA CALIFORNIA 94501.

Inventor/es: ASMUS, JOHN F., LOVBERG, RALPH H.

Fecha de Solicitud: 5 de Diciembre de 1988.

Fecha de Publicación: .

Fecha de Concesión: 27 de Septiembre de 1989.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01L21/268 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › utilizando radiaciones electromagnéticas, p. ej. rayos láser.
SISTEMA DE REOSTRICCION DE PLASMA Y METODO PARA USAR EL MISMO.

Patentes similares o relacionadas:

Procedimiento de fabricación de un dispositivo semiconductor con una capa de pasivación y dispositivo semiconductor correspondiente, del 15 de Julio de 2020, de Hanwha Q.CELLS GmbH: Procedimiento de fabricación de un dispositivo semiconductor, comprendiendo las siguientes etapas de procedimiento: - puesta a disposición […]

Formación de contactos óhmicos en semiconductores de banda prohibida ancha, del 10 de Abril de 2019, de United Silicon Carbide Inc: Un método que comprende: depositar una película metálica ópticamente fina sobre la superficie inferior de un sustrato de una lámina u oblea semiconductora, […]

Método para la producción de un dispositivo semiconductor que usa el recocido láser para activar selectivamente los adulterantes implantados, del 28 de Marzo de 2012, de ABB TECHNOLOGY AG: Un método para producir un dispositivo semiconductor con una superficie modelada que comprende almenos una zona parcial adulterada con un adulterante de un primer […]

PROCEDIMIENTO DE INTERRUPCION DE PELICULAS METALICAS., del 1 de Diciembre de 2005, de PACIFIC SOLAR PTY LTD: Un método para aislar eléctricamente regiones de una película metálica situada sobre una delicada estructura subyacente partiendo la película […]

PROCEDIMIENTO DE MANDO DEL ESTADO DE CONDUCCION DE UN TRANSISTOR MOS Y UN CIRCUITO INTEGRADO QUE PONE EN OPERACION DICHO PROCEDIMIENTO., del 1 de Abril de 1997, de BULL S.A.: EL ESTADO DE CONDUCCION DE UN TRANSISTOR MOS 11 ESTA GOBERNADO DEFINITIVAMENTE POR UN HAZ LASER 21 FORMANDO ENTRE LA REJILLA 16 Y LA PARTE SUBYACENTE […]

MAQUINA DE MICRO-RAYO LASER DE INTERVENCION SOBRE OBJETOS DE CAPA DELGADA, EN PARTICULAR PARA EL GRABADO O LA DEPOSICION DE MATERIA POR VIA QUIMICA EN PRESENCIA DE UN GAS REACTIVO., del 16 de Abril de 1994, de FRANCE TELECOM BERTIN & CIE: LA MAQUINA, SEGUN EL INVENTO, CONSTA DE UN RECINTO ESTANCO EN EL QUE SE HALLA FIJADO UN OBJETIVO DE MICROSCOPIO QUE RECIBE UN RAYO LASER MEDIANTE UN TRAGALUZ […]

ELIMINACION DE CONTAMINANTES SUPERFICIALES POR IRRADIACION DE UNA FUENTE DE ALTA ENERGIA., del 16 de Noviembre de 1993, de CAULDRON LIMITED PARTNERSHIP: METODO Y APARATO PARA ELIMINAR LOS CONTAMINANTES SUPERFICIALES DE LA SUPERFICIE DE UN SUBSTRATO MEDIANTE LA IRRADIACION DE UNA FUENTE DE ALTA ENERGIA. EL INVENTO […]

Imagen de 'DOPADO CON LASER DE CUERPOS SOLIDOS CON UN RAYO LASER LINEALMENTE…'DOPADO CON LASER DE CUERPOS SOLIDOS CON UN RAYO LASER LINEALMENTE ENFOCADO Y FABRICACION DE EMISORES DE CELULAS SOLARES BASADA EN EL MISMO, del 16 de Marzo de 2009, de WERNER, JURGEN H. KOHLER, JURGEN: Procedimiento para producir una zona dopada en un cuerpo sólido, en el que - un medio que contiene una sustancia dopante es puesto en contacto con una superficie del […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .