Baño de galvanoplastia de cobre ácido acuoso y método para depositar electrolíticamente un revestimiento de cobre.
Baño de galvanoplastia de cobre ácido acuoso que comprende:
- iones cobre;
- al menos un ácido;
- iones haluro;
- al menos un compuesto que contiene azufre seleccionado del grupo que consiste en 3-mercaptopropilsulfonato de sodio, disulfuro de bis(sodiosulfopropilo), ácido 3-(N,N-dimetiltiocarbamoil)-tiopropanosulfónico o la sal de sodio respectiva de los mismos y mezclas de los mencionados anteriormente;
- al menos un producto de reacción de amina de dietilamina con epiclorhidrina o un producto de reacción de amina de isobutilamina con epiclorhidrina o mezclas de estos productos de reacción en donde el al menos un producto de reacción de amina de dietilamina con epiclorohidrina o isobutilamina con epiclorhidrina comprende una mezcla de al menos compuestos de amonio terciarios y/o cuaternarios;
- al menos un compuesto de etilendiamina seleccionado del grupo que tiene polímeros de bloque EO-PO ligados, polímeros de bloque EO-PO ligados y grupos sulfosuccinato y mezclas de los mismos; y
- al menos un producto de reacción aromático de cloruro de bencilo con al menos una polialquilenimina en donde el al menos un producto de reacción aromático comprende una polialquilenimina bencilada o polialquileniminas benciladas que forman una mezcla.
Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E17176308.
Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: Erasmusstraße 20 10553 Berlin ALEMANIA.
Inventor/es: KRETSCHMER, STEFAN, WACHTER,PHILIPP.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- C25D3/38 QUIMICA; METALURGIA. › C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS. › C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › de cobre.
- C25D3/58 C25D 3/00 […] › que contienen más del 50% en peso de cobre.
PDF original: ES-2761883_T3.pdf
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