Placas de impresión fotosensibles con película deslizante mejorada que contiene silicatos estratificados.

Una placa de impresión fotosensible que comprende:

a) una capa de soporte;



b) una o más capas de un material fotocurable depositado sobre la capa de soporte;

c) una capa de película deslizante colocada sobre una o más capas de material fotocurable, comprendiendo la capa de película deslizante:

(i) uno o más aglutinantes poliméricos;

(ii) un silicato estratificado; y

(iii) opcionalmente, un surfactante;

en el que la concentración del silicato estratificado en la composición de película deslizante es del 2 % al 8 % en peso basándose en el peso total de los constituyentes secos; y

d) opcionalmente, una lámina de cubierta retirable.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2005/024185.

Solicitante: MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 245 FREIGHT STREET WATERBURY, CONNECTICUT 06702 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.

Inventor/es: VEST,Ryan, CHOI,JONGHAN.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03C1/815 FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03C MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS FOTOGRAFICOS, p. ej. PROCESOS CINEMATOGRAFICOS, DE RAYOS X, EN COLORES o ESTEREOFOTOGRAFICOS; PROCESOS AUXILIARES EN FOTOGRAFIA (procesos fotográficos caracterizados por el uso o la manipulación de aparatos, pueden ser clasificados en sí en la subclase G03B o ver G03B). › G03C 1/00 Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles para procesos multicolores G03C 7/00; para procesos de difusión por transferencia G03C 8/00). › caracterizados por medios para filtrar o absorber la luz ultravioleta, p. ej. agentes para el blanqueo óptico (para la reproducción fotográfica G03C 5/10; para intensificar las imágenes obtenidas mediante rayos X G03C 5/17).
  • G03F7/075 G03 […] › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos que contienen silicio.
  • G03F7/11 G03F 7/00 […] › con capas de recubrimiento o capas intermedias, p. ej. capas de anclaje.

PDF original: ES-2649729_T3.pdf

 

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