PROCEDIMIENTO PARA LA ELIMINACION DE UNA CAPA PROTECTORA.
La presente invención se refiere a un procedimiento para el decapado de un material persistente con una l mina adhesiva sensible a la presión que supone la mejora de la retirada del material persistente o el realce de la pelabilidad del material persistente para eliminar con seguridad el material persistente del objeto sin tener en cuenta las propiedades o el estado tratado del material persistente.
El proceso consiste en: (1) después de la aplicación de la l mina adhesiva sensible a la presión, efectuar un tratamiento de fuerza que provoca la contracción o la expansión de la l mina adhesiva sensible a la presión de manera a desarrollar una fuerza en la interfase entre el material persistente y el objeto, efectuar un tratamiento en superficie sobre el objeto de manera que la superficie del objeto tenga superficie libre de energía no superior a 60 dina/cm.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: NITTO DENKO CORPORATION.
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 1-2, SHIMOHOZUMI 1-CHOME IBARAKI-SHI,OSAKA.
Inventor/es: TOYODA, EIJI, NITTO DENKO CORPORATION, NAMIKAWA, MAKOTO, NITTO DENKO CORPORATION, OKEYUI, TAKUJI, NITTO DENKO CORPORATION.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 19 de Marzo de 2003.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/42 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Eliminación de reservas o agentes a este efecto.
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