CIP-2021 : C23C 16/00 : Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos,
no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
Notas[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto
C23C 16/01 · sobre sustratos temporales, p. ej., sobre sustratos que posteriormente se eliminan por ataque químico.
C23C 16/02 · Pretratamiento del material a revestir (C23C 16/04 tiene prioridad).
C23C 16/04 · Revestimiento de partes determinadas de la superficie, p. ej. por medio de máscaras.
C23C 16/06 · caracterizado por la deposición de un material metálico.
C23C 16/08 · · a partir de haluros metálicos.
C23C 16/10 · · · Deposición solamente de cromo.
C23C 16/12 · · · Deposición solamente de aluminio.
C23C 16/14 · · · Deposición de solo otro elemento metálico.
C23C 16/16 · · a partir de carbonilos metálicos.
C23C 16/18 · · a partir de compuestos organometálicos.
C23C 16/20 · · · Deposición solamente de aluminio.
C23C 16/22 · caracterizado por la deposición de materiales inorgánicos, distintos de los materiales metálicos.
C23C 16/24 · · Deposición solamente de silicio.
C23C 16/26 · · Deposición solamente de carbono.
C23C 16/27 · · · solamente diamante.
C23C 16/28 · · Deposición de solo otro elemento no metálico.
C23C 16/30 · · Deposición de compuestos, de mezclas o de soluciones sólidas, p. ej. boruros, carburos, nitruros.
C23C 16/32 · · · Carburos.
C23C 16/34 · · · Nitruros.
C23C 16/36 · · · Carbo-nitruros.
C23C 16/38 · · · Boruros.
C23C 16/40 · · · Oxidos.
C23C 16/42 · · · Siliciuros.
C23C 16/44 · caracterizado por el proceso de revestimiento (C23C 16/04 tiene prioridad).
C23C 16/442 · · utilizando procesos en lechos fluidizados.
C23C 16/448 · · caracterizado por el proceso utilizado para producir corrientes de gases reactivos, p. ej. por evaporación o sublimación de los materiales precursores.
C23C 16/452 · · · por activación de corriente de gases reactivos antes de la introducción en la cámara de reacción, p. ej. por ionización o por adición de especies reactivas.
C23C 16/453 · · haciendo pasar los gases de reacción a través de quemadores o de antorchas, p. ej. CVD a presión atmosférica (C23C 16/513 tiene prioridad; para la pulverización de material de revestimiento en estado fundido con ayuda de una llama o de un plasma C23C 4/00).
C23C 16/455 · · caracterizado por el proceso utilizado para introducir gases en la cámara de reacción o para modificar las corrientes de gas en la cámara de reacción.
C23C 16/458 · · caracterizado por el método usado para sujetar los sustratos en la cámara de reacción.
C23C 16/46 · · por la forma de calentar el sustrato (C23C 16/48, C23C 16/50 tienen prioridad).
C23C 16/48 · · por irradiación, p. ej. por fotolisis, radiolisis o radiación corpuscular.
C23C 16/50 · · por medio de descargas eléctricas.
C23C 16/503 · · · utilizando descargas con corriente continua o alterna.
C23C 16/505 · · · utilizando descargas con radiofrecuencia.
C23C 16/507 · · · · utilizando electrodos externos, p. ej. en reactores de tipo túnel.
C23C 16/509 · · · · utilizando electrodos internos.
C23C 16/511 · · · utilizando descargas con microondas.
C23C 16/513 · · · utilizando chorros de plasma.
C23C 16/515 · · · utilizando descargas impulsadas.
C23C 16/517 · · · utilizando una combinación de descargas cubiertas por varios de los grupos C23C 16/503 - C23C 16/515.
C23C 16/52 · · Control o regulación de los procesos de revestimiento.
C23C 16/54 · · Aparatos especialmente adaptados para el revestimiento en continuo.
C23C 16/56 · Tratamiento posterior.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Proceso y planta para obtener un acristalamiento de color.
(22/04/2020) Proceso para depositar un revestimiento en un sustrato de vidrio, dicho proceso estando caracterizado porque comprende las siguientes etapas sucesivas:
a) pasar dicho sustrato a través de un dispositivo para deposición al vacío por pulverización catódica,
b) introducir un gas en dicho dispositivo para deposición al vacío y generar un plasma a partir de dicho gas,
c) co-pulverización simultáneamente, en una y la misma cámara del dispositivo para deposición al vacío,
- de un primer componente hecho de un material que consiste en un óxido, un nitruro o un oxinitruro de un primer elemento y
- de un segundo componente que consiste en la forma…
Sistema de alimentación de líquido a base de presión para recubrimientos por pulverización de plasma en suspensión.
(25/03/2020) Un aparato para inyectar un líquido en un área de un cañón de pulverización térmica , comprendiendo el aparato:
un dispositivo de limpieza de inyector que comprende:
una entrada conectable a al menos una línea de suministro de materia prima ;
una entrada conectable a al menos una línea de suministro de gas ;
una entrada conectable a al menos una línea de suministro de medio líquido ;
un paso de suministro de materia prima; y
una cámara de atomización que recibe gas a través de la al menos una línea de suministro de gas y líquido de limpieza a través de la al menos una línea de suministro de medio líquido con el fin de producir una neblina de purgado que pueda alimentarse al paso de suministro de materia prima;
un orificio de inyector en comunicación…
Recubrimiento de superficie para productos valiosos de línea blanca y/o gris.
(19/06/2019). Solicitante/s: BSH HAUSGERÁTE GMBH. Inventor/es: JORDENS,FRANK, MALEIKA,Marek, EDER,FLORIAN, NTOURMAS,FELIX.
Recubrimiento de superficie sobre una superficie metálica o metalizada estructurada,
caracterizado porque el recubrimiento de superficie muestra propiedades hidrófobas y/u oleófobas y el grosor del recubrimiento de superficie es inferior a la profundidad de la estructura de superficie de la citada superficie metálica o metalizada estructurada, siendo la profundidad de la estructura la rugosidad de la estructura de superficie y encontrándose en la gama de Ra = 5 - 100 μm.
PDF original: ES-2738682_T3.pdf
Soluciones electrolíticas de ácido sulfónico de pureza elevada.
(03/04/2019). Solicitante/s: ARKEMA INC.. Inventor/es: MARTYAK, NICHOLAS, MICHAEL, NOSOWITZ,MARTIN, SMITH,GARY S, JANNEY,PATRICK KENDALL, OLLIVIER,JEAN-MARIE.
Uso en un procedimiento electroquímico de una solución acuosa que comprende un ácido metanosulfónico y concentraciones bajas de compuestos de azufre (II) de valencia baja y compuestos de azufre (VI) de valencia superior que son susceptibles de reducción, en que la concentración total de compuestos de azufre reducidos es menor que 5 mg/litro, y en que dichos compuestos de azufre (II) de valencia baja y compuestos de azufre (VI) de valencia superior se escogen entre metanotiosulfonato de metilo (MMTS) y triclorometilsulfona (TCMS).
PDF original: ES-2726013_T3.pdf
Sistemas para revestir el interior de un recipiente.
(27/03/2019) Un sistema que comprende:
(a) un recipiente , del cual al menos una porción de la superficie de la pared interior se va a revestir, que comprende un extremo abierto , un segundo extremo en posición opuesta al extremo abierto , y una pared que se extiende entre ambos, teniendo la pared una superficie de la pared exterior y una superficie de la pared interior , y teniendo el recipiente una cámara dentro de un área definida por la superficie de la pared interior entre el extremo abierto y el segundo 10 extremo del recipiente, en el que la cámara está sellada del exterior del recipiente , y el recipiente actúa como su propia cámara de vacío;
(b) una fuente de suministro de gas monomérico que contiene al menos un gas monomérico ;
(c) un conducto de entrada de gas colocado en el extremo abierto…
Método para la fabricación de artículos revestidos que tienen un revestimiento de barrera al oxígeno y artículos revestidos fabricados de este modo.
(27/12/2017) Un articulo, que comprende:
un sustrato de vidrio;
un revestimiento funcional, incluyendo una o mas peliculas de revestimiento antirreflectantes que comprenden materiales dielectricos o antirreflectantes y una o mas peliculas reflectantes del infrarrojo que comprenden un metal reflectante, depositado sobre al menos una parte del sustrato; y
un revestimiento de barrera depositado sobre al menos una parte del revestimiento funcional para definir una pila de revestimiento,
en donde el revestimiento funcional comprende una primera capa formada sobre el revestimiento funcional y una segunda capa formada sobre la primera capa, incluyendo la primera capa del 50 % en peso al 60 % en peso de…
Artículo recubierto con un patrón de recubrimientos con nanocapas.
(25/10/2017) Artículo recubierto, en particular una pieza de inserción de corte para su uso en una operación de retirada de material con formación de virutas, donde el artículo comprende:
un sustrato y un patrón de recubrimiento resistente al desgaste, en donde el patrón de recubrimiento resistente al desgaste comprende:
un patrón de recubrimiento de nanocapas intermedias con multi-periodicidad que contiene titanio, aluminio, cromo y nitrógeno; y
el patrón de recubrimiento de nanocapas intermedias con multi-periodicidad que comprende una pluralidad de conjuntos de disposiciones de capas alternas, en donde cada una de las disposiciones de capas alternas comprende una capa base que comprende titanio, aluminio y nitrógeno, y una región de nanocapas que comprende…
NANOTUBOS DE CARBONO DE PARED MULTIPLE (MWCNT) PARA ADSORCION DE HIDROGENO, METODO DE OBTENCION Y METODO DE PURIFICACION.
(14/09/2017). Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE CHILE. Inventor/es: MOSQUERA VARGAS,Edgar Eduardo, MOREL ESCOBAR,Mauricio, CARVAJAL HERRERA,Nicolas Antonio, TAMAYO CALDERON,Rocio Maria, CABRERA PAPAMIJA,Gerardo.
La presente invención se refiere a nanotubos de carbono de pared múltiple (MWCNT de sus siglas en inglés, Multi-Wall Carbon Nanotubes) para adsorción de hidrógeno molecular, método de obtención de los nanotubos por técnica de deposición química en fase vapor asistida por aerosol (AACVD, de sus siglas en inglés, Aerosol Assisted Chemical Vapor Deposition) utilizando como catalizador mineral magnetita con una pureza >85%, y método de purificación de dichos nanotubos obtenidos para incrementar su capacidad de adsorción de hidrógeno.
Recubrimiento DCL con una capa de entrada.
(13/09/2017). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: GUIMOND,SEBASTIEN, WURZER,MANFRED, WIDOWITZ,FRANZ.
Capa de materia dura sobre un componente, comprendiendo la capa de materia dura una capa DLC con una dureza de al menos 10 GPa, caracterizada por que sobre la capa de carbono como diamante está prevista una capa en gradiente DLC con un grosor de al menos 300 nm, estando implementada la capa en gradiente DLC con una densidad decreciente y por tanto con una dureza decreciente, y no diferenciándose la capa en gradiente DLC de la capa DLC con respecto a los elementos químicos que comprenden.
PDF original: ES-2650379_T3.pdf
Recubrimiento decorativo de color negro intenso.
(13/09/2017). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: GUIMOND,SEBASTIEN, WURZER,MANFRED, WIDOWITZ,FRANZ.
Capa de materia dura sobre un componente, comprendiendo la capa de materia dura una capa DLC con una dureza de al menos 10 GPa y un índice de refracción nDLC de nDLC>2,1, caracterizada por que sobre la capa de carbono como diamante está prevista una capa en gradiente con un grosor de al menos 300 nm que presenta un gradiente de índice de refracción, no quedando el índice de refracción de la capa en gradiente, promediado sobre 30 nm, en la zona de la capa límite respecto a la capa DLC por debajo del valor de 2,0 y no superando el índice de refracción de la capa en gradiente, promediado sobre 30 nm, en la zona de la transición respecto al aire el valor de 1,85 y situándose preferiblemente en n≥1,7.
PDF original: ES-2650401_T3.pdf
Estructura de múltiples capas como reflector.
(21/06/2017). Solicitante/s: Covestro Deutschland AG. Inventor/es: OSER,RAFAEL, KUHLMANN,TIMO.
Estructura de múltiples capas que contiene
A) una lámina funcional que contiene una capa metálica que refleja VIS/IR sobre una lámina de soporte, en donde la lámina de soporte puede realizarse en una sola capa o en forma de una capa de múltiples estratos que refleja UV y/o UV/VIS, así como al menos una capa adhesiva, en donde la capa adhesiva es un adhesivo sensible a la presión, así como opcionalmente al menos una capa resistente al rayado,
B) una capa funcional que contiene una capa seleccionada de al menos uno del grupo de los nitruros metálicos, óxidos metálicos o semimetálicos, óxidos mixtos o metales, pudiendo presentar la capa adicionalmente un barnizado,
C) opcionalmente una lámina de soporte,
D) opcionalmente una capa adhesiva, y
E) una capa de sustrato termoplástica.
PDF original: ES-2640919_T3.pdf
NANOESTRUCTURA DE LÁMINAS CONCÉNTRICAS.
(12/12/2016). Solicitante/s: FUNDACIÓ INSTITUT DE RECERCA EN ENERGIA DE CATALUNYA. Inventor/es: MORATA GARCÍA,Alejandro, TARANCÓN RUBIO,Alberto, GADEA DÍEZ,Gerard.
Nanoestructura de láminas concéntricas.
La presente invención se refiere a una nanoestructura caracterizada porque está compuesta por una o múltiples láminas concéntricas alrededor de un núcleo de carbono o vacío, comprendiendo dicha al menos una o múltiples láminas concéntricas al menos uno entre los siguientes componentes en forma cristalina o policristalina: silicio intrínseco, germanio intrínseco, silicio dopado p o n, germanio dopado p o n, aleaciones de silicio y germanio intrínsecos, aleaciones de silicio y germanio dopados p o n, óxido de silicio, óxido de germanio, nitruro de silicio y nitruro de germanio, o una combinación de los mismos. Así mismo, la presente invención también se refiere a la fabricación y a los usos de dicha nanoestructura.
PDF original: ES-2593656_B1.pdf
PDF original: ES-2593656_R1.pdf
PDF original: ES-2593656_A2.pdf
Sistema de manipulación de sustrato.
(06/07/2016). Solicitante/s: PERKINELMER, INC. Inventor/es: HILL, DAVID R., SHAVER,NORMAN L, ELLIS,TIMOTHY A.
Un sistema de manipulación de planchas de impresión incluyendo:
un mandril de gas para producir una película de gas entre la plancha de impresión y el mandril de gas ;
un mandril magnético configurado para alternativamente atraer la plancha de impresión a la película de gas y para liberar la plancha de impresión ; y
un subsistema accionador para aproximar y alejar el mandril magnético del mandril de gas para alternativamente tomar la plancha de impresión y liberar la plancha de impresión , respectivamente;
donde el mandril de gas está montado de forma móvil con respecto al mandril magnético ; y donde, cuando la plancha de impresión es tomada por el mandril magnético , la plancha de impresión es elevada contra la fuerza de gravedad y se mantiene en un estado sin contacto con respecto a ambos mandriles.
PDF original: ES-2582937_T3.pdf
Procedimiento para el suministro de corriente a un reactor.
(11/05/2016) Procedimiento para el suministro de corriente a un reactor en el que uno o varios electrodos conducidos a través de una pared del reactor de una red de energía eléctrica aislada galvánicamente contra el contacto a tierra están unidos respectivamente a un elemento eléctricamente conductor, con lo que se aplica una tensión de servicio en el al menos un elemento eléctricamente conductor y la corriente eléctrica pasa por el mismo, encontrándose entre la pared del reactor y el electrodo respectivamente una junta de un material eléctricamente aislante, insertándose en al menos una de estas juntas un núcleo de impermeabilización eléctricamente conductor, conectándose este núcleo de impermeabilización eléctricamente conductor a un equipo de control de aislamiento o a una red de tensión…
Procedimiento para la preparación de una capa barrera dieléctrica de óxido de silicio (SiOx) y capa así preparada.
(27/03/2015) Procedimiento para la preparación de una capa barrera dieléctrica de óxido de silicio (SiOx) sobre un sustrato, para lo cual se realiza, una vez limpiado el sustrato, una deposición de una capa de SiOx por la técnica de PECVD y otra deposición de SiOx por el método sol-gel. La composición de recubrimiento (sol) utilizada en la etapa sol-gel es preparada a partir de los siguientes componentes: MTES, entre 30 y 50% en peso; TEOS, entre 7% y 12% en peso; N, N' -DMS, entre 11 y 19% en peso; PEG, entre 19 y 31% en peso; agua destilada, entre 7 y 12% en peso y acido ortofosfórico, entre 0,6% y 0,9% en peso. Una vez preparada la composición de recubrimiento, se deposita y se densifica para formar la capa de óxido correspondiente.
DLC hidrófilo sobre sustrato con tratamiento de pirólisis de descarga de barrera.
(18/10/2013) Un método de fabricación de un artículo recubierto, el método comprendiendo:
el depósito una capa que comprende carbono tipo diamante (DLC) sobre un sustrato;
después de dicho depósito, el sometimiento de la capa que comprende DLC a un tratamientode descarga de barrera en una atmósfera que contiene oxígeno con el fin de reducir unángulo de contacto θ de la capa que comprende DLC en el cual el tratamiento de descarga debarrera comprende la proporción de un primer electrodo por encima del sustrato y un segundoelectrodo por debajo del sustrato de modo que el sustrato esté entre los electrodos primero ysegundo,
en el cual dichos electrodos están cubiertos con un dieléctrico en sus lados estandoorientados hacia el sustrato, y provocando que se genere un plasma entre los electrodosprimero y segundo, en el cual el plasma está al menos parcialmente…
Fuente de iones con hueco en el electrodo.
(08/10/2013) Una fuente de iones capaz de emitir un haz de iones, comprendiendo:
un ánodo y un cátodo , teniendo uno del ánodo y cátodo una brecha dedescarga definida en el mismo y teniendo el otro del ánodo y cátodo un hueco definido en el mismo en una ubicación cercana a la brecha de descarga , teniendo elhueco una pared de base (25a) y primera y segunda pared lateral (25b);al menos un imán capaz de generar un campo magnético cerca de la brecha dedescarga ; y
un suministro de energía en comunicación eléctrica con el ánodo y/o el cátodo ,caracterizado porque el hueco tiene una profundidad de 2,5 a 10 mm y una anchura…
Método de fabricación de un artículo de vidrio recubierto resistente al rayado que incluye capa(s) resistente(s) a agente(s) de grabado a base de fluoruro, utilizando deposición química de vapor por combustión.
(14/08/2013) Un método de fabricación de un artículo recubierto, el método que consiste en:
producir un sustrato de vidrio;
utilizar pirólisis de llama para depositar al menos una capa sobre el sustrato de vidrio;y
formar una capa antigrabado encima del sustrato de vidrio sobre la capa depositadapor pirólisis de llama, en la que la pirólisis de llama se utiliza para depositar una capaque comprende óxido de silicio sobre el sustrato de vidrio, y en la que la pirólisis dellama utiliza gas TEOS que se introduce al menos en un quemador para depositar lacapa que comprende óxido de silicio y donde el artículo recubierto es una ventana, enla que la capa antigrabado comprende oxicarburo de circonio.
REVESTIMIENTO DE CAPA DE BARRERA Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACIÓN.
(12/07/2012). Ver ilustración. Solicitante/s: ASOCIACION DE LA INDUSTRIA NAVARRA AIN. Inventor/es: BELLIDO-GONZALEZ, VICTOR, GARCIA FUENTES,GONZALO, GARCIA LORENTE,JOSE ANTONIO, RODRÍGEZ TRÍAS,Rafael.
Revestimiento de capa de barrera y procedimiento de fabricación, para recubrir un sustrato base , comprendiendo dicha capa de barrera un grupo de, al menos, una capa inorgánica (2a) y una capa polimérica , donde una capa de interfase rica en metal (2ay) está dispuesta entre la capa inorgánica (2a) y la capa polimérica.
Sustratos revestidos con subcapas de revestimiento que presentan actividad fotocatalítica mejorada.
(11/04/2012) Un sustrato revestido que comprende:
un sustrato de vidrio;
una subcapa de revestimiento que comprende por lo menos una capa seleccionada de entre(a) una mezcla de sílice y óxido de circonio que comprende del 60 al 95% en volumen de sílice ydel 40 al 5% en volumen de óxido de circonio y con un espesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm;
(b) una mezcla de sílice y alúmina que comprende del 50 al 99% en volumen de sílice y del 50 al1% en volumen de alúmina y con un espesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm; o
(c) una mezcla de sílice, alúmina y óxido de titanio que comprende del 30 al 80% en volumen desílice, del 1 al 15% en volumen de alúmina y del 69 al 5% en volumen de óxido de titanio y con unespesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm, que cubre por lo menos una parte del sustrato;…
LAMINA CON RECUBRIMIENTO DE BRONCE METALICO DE PLATINO, PROCEDIMIENTODE OBTENCION Y SUS APLICACIONES.
(25/11/2010) Lámina con recubrimiento de bronce metálico de platino, procedimiento de obtención y sus aplicaciones.La producción de los bronces metálicos del platino requiere de procedimientos químicos costosos que conducen a la producción de cantidades reducidas de estos compuestos y mezclas. La actual invención proporciona una lámina con recubrimiento de bronce metálico de platino y método para sintetizar estos compuestos, así como, para depositar estas mezclas en superficies grandes en forma de recubrimiento con un alto grado de especificidad, siendo este un factor determinante en aplicaciones concretas. El modo de obtención de los recubrimientos consiste en la reducción térmica parcial del dióxido de platino en atmósfera libre, acompañado de una difusión…
ENDOPROTESIS CON UNA CAPA DE PLATA GALVANIZADA.
(16/05/2007). Solicitante/s: IMPLANTCAST GMBH. Inventor/es: GOSHEGER, GEORG, SASS, JENS.
Endoprótesis para reemplazo de huesos, que comprende una estructura de soporte metálica constituida por una aleación de fundición o forjable, caracterizada porque por lo menos una parte de la superficie se ha plateado por electrodeposicón y porque, por debajo de la capa de plata, está prevista una capa de adhesión, que preferentemente comprende oro, no estando expuesto el oro en la superficie de la endoprótesis para reemplazo de huesos.
REVESTIMIENTOS DE POLIMEROS.
(01/04/2007). Solicitante/s: MICROCOATING TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: DESHPANDE, GIRISH, HUNT, ANDREW, TYE, SHANMUGHAM, SUBRAMANIAM, YURTKURAN, ERIC, J., POLLEY, TODD, OLJACA, MIODRAG, HWANG, TZYY-JIUAN, JAN, PODA, AIMEE, NEUMAN, GEORGE, ANDREW.
Un método para depositar un revestimiento de polímero en la superficie de un substrato que consiste de: el abastecimiento de un líquido que es una dispersión o una solución de dicho polímero en un medio líquido, formando un aerosol finamente atomizado del dicho líquido y aplicando el dicho aerosol a la superficie del dicho substrato para revestir dicha superficie con el dicho líquido y aplicando sustancialmente simultáneamente una fuente de gas caliente a la superficie revestida para quitar el dicho medio líquido de la superficie.
TRATAMIENTO DE DESACIDIFICACION DE MATERIALES CELULOSICOS IMPRESOS.
(16/03/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: SMITH, RICHARD DANIEL. Inventor/es: SMITH, RICHARD DANIEL.
Una composición para desacidificar un material celulósico impreso que comprende en solución: 0, 1-4% en peso de al menos uno de un carbonato de magnesio orgánico, un carbonato de aluminio orgánico, y un carbonato de zinc orgánico; 0-10% en peso de un alcohol C1-C4 que tiene un contenido de humedad menor que 100 ppm; y 86 - 99% en peso de un disolvente que tiene un contenido de humedad menor que 100 ppm, que comprende un hidrocarburo alifático y/o un hidrofluorocarbono.
PROCEDIMIENTO Y APARATO PARA LA PREPARACION DE CAPAS Y RECUBRIMIENTOS POR MEDIO DE DEPOSICION QUIMICA EN FASE DE VAPOR ASISTIDA POR COMBUSTION.
(01/11/2003). Solicitante/s: GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION. Inventor/es: HUNT, ANDREW T., COCHRAN, JOE K., CARTER, WILLIAM BRENT.
SE PRESENTA UN METODO PARA APLICAR REVESTIMIENTOS A SUBSTRATOS UTILIZANDO DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO DE COMBUSTION MEZCLANDO ENTRE SI UN REAGENTE Y UNA SOLUCION PORTADORA PARA FORMAR UNA MEZCLA DE REAGENTES. ENCENDIENDO LA MEZCLA DE REAGENTES PARA CREAR UNA LLAMA O HACIENDO FLUIR LA MEZCLA DE REAGENTES A TRAVES DE UNA ANTORCHA DE PLASMA, EN LA CUAL EL REAGENTE SE VAPORIZA AL MENOS PARCIALMENTE EN UNA FASE DE VAPOR, Y PONIENDO EN CONTACTO LA BASE DE VAPOR DEL REAGENTE CON UN SUBSTRATO RESULTANDO LA DEPOSICION, AL MENOS EN PARTE DESDE LA FASE DE VAPOR, DE UN REVESTIMIENTO DEL REAGENTE QUE PUEDE CONTROLARSE DE MANERA QUE TENGA UNA ORIENTACION PREFERIDA SOBRE EL SUBSTRATO, TAMBIEN SE PRESENTA UN APARATO PARA LLEVAR A CABO EL METODO. LA FIGURA MUESTRA UN ESQUEMA DE UN APARATO CCVD EN DONDE EL SUBSTRATO PUEDE COLOCARSE DENTRO DE UNA REGION DE REDUCCION DEL SEPARADOR DE SMITHELL ENTRE LA LLAMA INTERNA (18A) Y LA LLAMA EXTERIOR (18B).
SISTEMA DE HORNO DE DIFUSION HORIZONTAL Y ALTO RENDIMIENTO.
(16/09/2003). Solicitante/s: THERMTEC, INC. Inventor/es: PECK, KEVIN, B., ERICKSON, RONALD, E., MATTHEWS, STEPHEN, H.
LA EJECUCION DE UN HORNO DE DIFUSION DE ALTA TEMPERATURA ES MEJORADA POR UN DISEÑO DE MODULO MULTI HORNO. EL HORNO ESTA CONSTRUIDO DE MATERIALES ADECUADOS PARA ENTORNOS DE CUARTO LIMPIO CON UNA JUNTA DE ARMAZON DE NIVELACION AJUSTABLE. UNA JUNTA EXTERNA LATERAL Y MECANISMO DE ALINEAMIENTO DE ELEMENTO CALENTADOR DE MODULOS DE TUBO DE HORNO INDIVIDUAL CON UN MECANISMO DE ELEVACION DE ELEMENTO CALENTADOR PERMITE MANTENIMIENTO MEJORADO. LA EJECUCION DEL TRATAMIENTO DE CALOR ES MEJORADA POR UN ELEMENTO CALENTADOR SELLADO CON SISTEMA DE REFRIGERACION DE MODULO DE HORNO INDIVIDUAL. ACOPLAMIENTO TERMICO MEJORADO ESTA COLOCADO PARA MEJORAR EL CONTROL DE PROCESO DE TRATAMIENTO DE CALOR Y EL MANTENIMIENTO DEL ELEMENTO DE CALENTAMIENTO.
PRODUCCION DE PELICULAS DE BARRERA REVESTIDAS CON CARBONO QUE TIENEN UNA CONCENTRACION AUMENTADA DE CARBONO CON COORDINACION TETRAEDRICA.
(01/12/2001). Solicitante/s: MOBIL OIL CORPORATION. Inventor/es: WAGNER, JOHN RALPH, JR.
SE DEPOSITA CARBONO SOBRE UN SUSTRATO A TRAVES DE DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO MEJORADO DE PLASMA DE UN PROCESADOR QUE SE PUEDE DESCOMPONER QUE CONTIENE UN ADITIVO DE MATERIAL DE SEMILLAS. EL MATERIAL DE SEMILLA ES UN HIDROCARBURO QUE TIENE UNA ALTA CONCENTRACION DE CARBONO SP{SUP,3} COORDINADO EN FORMA DE TETRAEDRO. EL MATERIAL DE SEMILLA PROPORCIONA UNA MUESTRA PARA LA REPLICACION DE LOS ATOMOS DE CARBONO SP{SUP,3} COORDINADOS EN FORMA DE TETRAEDRO EN EL REVESTIMIENTO DE CARBONO AMORFO DEPOSITADO.
METODO DE RECUBRIMIENTO DE CRISTAL Y CRISTAL RECUBIERTO CON EL MISMO.
(01/11/2001). Solicitante/s: LIBBY-OWENS-FORD CO. Inventor/es: SOUBEYRAND, MICHEL, J.
SE PRESENTA UN SUBSTRATO DE CRISTAL SE RECUBRE MEDIANTE CVD CON UN REVESTIMIENTO ESTRATIFICADO QUE COMPRENDE CAPAS DE BASE, INTERMEDIAS Y SUPERIORES (58, 60, Y 62), RESPECTIVAMENTE, EN DONDE LAS CAPAS SON SILICE, OXIDO DE METAL, NITRURO DE METAL, CARBURO DE METAL Y COMPLEJO DE SILICE, ETC. EN EL CVD DEL REVESTIMIENTO QUE CONTIENE SILICE SOBRE EL SUBSTRATO DE METAL SE COMBINA SILANO, OXIGENO, UN GAS DEPURADOR DE RADICALES TAL COMO EL ETILENO Y UN GAS PORTADOR COMO MEZCLA PRECURSORA.
APARATO Y PROCEDIMIENTO PARA LA DESCARGA DE REACTIVOS NO VOLATILES.
(16/06/1998) SE PRESENTA UN PROCESO Y UN APARATO PARA SUMINISTRAR UN MATERIAL REAGENTE DE UNA FUENTE DE SOLIDO NO VOLATIL QUE TIENE UNA PRESION DE VAPOR INFERIOR A ALREDEDOR DE 0.1 TORR EN CONDICIONES DE 25 (GRADOS) C Y UNA ATMOSFERA DE PRESION, Y QUE ES TERMICAMENTE ESTABLE A SU TEMPERATURA DE VAPORIZACION, COMO VAPOR DEL MATERIAL REAGENTE DE LA FUENTE EN UN REACTOR CVD QUE COMPRENDA UNA ZONA DE VAPORIZACION Y UNA ESTRUCTURA DE MATRIZ DE VAPORIZACION PARA VAPORIZAR POR DESTELLO EL MATERIAL REAGENTE DE LA FUENTE DE SOLIDO NO VOLATIL. LA INVENCION ES PARTICULARMENTE UTIL PARA EL SUMINISTRO DE REAGENTES DE GRUPO II Y DE COMPUESTOS Y COMPLEJOS DE METALES DE BAJA TRANSICION TALES COMO EL ZIRCONIO Y EL HAFNIO, Y PUEDE…
APARATO DE PROCESAMIENTO EN VACIO, TENIENDO RENDIMIENTO PERFECCIONADO.
(16/10/1996) EL DESCUBRIMIENTO SE REFIERE A UN METODO PARA DEPOSITAR PELICULAS FINAS SOBRE SUSTRATOS DE VIDRIO MEDIANTE DEPOSICION UNICA DE SUSTRATOS, COMPRENDIENDO LA CARGA DE UN LOTE DE SUSTRATOS EN UNA CAMARA DE CIERRE DE CARGA Y EVACUANDO LA CAMARA, TRANSFIRIENDO LOS SUSTRATOS A UNA CAMARA DE CALENTAMIENTO DE LOTES PARA CALENTAR LOS SUSTRATOS A TEMPERATURAS ELEVADAS; TRANSFIRIENDO LOS SUSTRATOS DE VIDRIO DE UNO EN UNO A UNA O MAS CAMARAS DE PROCESAMIENTO DE SUSTRATOS UNICOS Y TRANSFIRIENDO SECUENCIALMENTE LOS SUSTRATOS DE RETORNO A LA CAMARA DE CIERRE DE CARGA, DONDE SON ENFRIADOS EN LOTES. EL DESCUBRIMIENTO TAMBIEN SE REFIERE A UN SISTEMA DE VACIO PARA REALIZAR EL METODO, E INCLUYE UNA CAMARA DE ENFRIAMIENTO/CIERRE DE CARGAS (14A, 14B) PARA EVACUAR UNA PLURALIDAD DE SUSTRATOS DE VIDRIO; UNA CAMARA DE CALENTAMIENTO PARA CALENTAR UNA PLURALIDAD…
METODO MEJORADO PARA PRODUCIR ARTICULOS MEDIANTE DEPOSITACION DE VAPOR QUIMICO Y MANDRILES DE SOPORTE USADOS EN EL MISMO.
(01/05/1996). Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Inventor/es: ANTHONY, THOMAS RICHARD, ETTINGER, ROBERT HELMUT, FLEISCHER, JAMES FULTON.
SE PRESENTA UN METODO MEJORADO PARA PRODUCIR UN TUBO DE DIAMANTE MEDIANTE DEPOSITACION QUIMICA DE VAPOR Y EL MANDRIL HUECO DE SOPORTE QUE SE USA EN EL MISMO. EL METODO COMPRENDE LA DEPOSITACION DE UNA PELICULA DE DIAMANTE SOBRE UNA CARA EXTERIOR DEL MANDRIL HUECO MEDIANTE EL PROCESO CVD. POSTERIORMENTE EL MANDRIL SE ATACA QUIMICAMENTE MEDIANTE LA EXPOSICION DEL LADO INTERNO DEL MANDRIL A LA ACCION DEL ATAQUE QUIMICO. SORPRENDENTEMENTE, SE HA COMPROBADO QUE EL TIEMPO DE ATAQUE QUIMICO SE REDUCE DE FORMA DRASTICA MEDIANTE EL USO DE MANDRILES HUECOS.
HERRAMIENTA DE DIAMANTE POLICRISTALINO Y METODO PARA PRODUCIR LA MISMA.
(01/04/1996). Solicitante/s: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LIMITED. Inventor/es: TANABE, KEIICHIRO, FUJIMORI, NAOJI.
UN DIAMANTE POLICRISTALINO TIENE UNA CONCENTRACION DE IMPUREZAS NO UNIFORME A LO LARGO DE LA DIRECCION DE SU GROSOR. EL DIAMANTE CERCA DE LA SUPERFICIE INCLINADA TIENE UNA CONCENTRACION DE IMPUREZAS MENOR. EL DIAMENTE CERCA DE LA SUPERFICIE DE FIJACION TIENE UNA ALTA CONCENTRACION DE IMPUREZAS. EL DIAMANTE CON MAYOR CONCENTRACION DE IMPUREZAS CERCA DE LA SUPERFICIE DE FIJACION ALIVIA UNA FUERTE TENSION Y ABSORBE LOS GOLPES EXTERNOS. DEBIDO A LA MAYOR CONCENTRACION DE IMPUREZAS DEL DIAMANTE CERCA DE LA SUPERFICIE DE FIJACION, LA HERRAMIENTA DE DIAMANTE PRESENTA GRAN DUREZA Y UNA ALTA RESISTENCIA AL DESCASCARILLAMIENTO . EL DIAMANTE CON UNA ALTA CONCENTRACION DE IMPUREZAS CERCA DE LA SUPERFICIE INCLINADA ELEVA SU RESISTENCIA A LA ABRASION, SU RESISTENCIA A LA ADHESION Y SU FUERZA.
