MÉTODO DE OBTENCIÓN DE UNA NANOMALLA DE GRAFENO.

La presente invención es un método para la obtención de una nanomalla de grafeno,

que comprende la irradiación de una superficie de grafeno con radiación láser ultrarrápida en presencia de especies oxidativas, en el que un pulso de energía de radiación láser de un haz de láser pulsado se configura por debajo del umbral de ablación de un enlace de carbono de dos dimensiones, y se dirige el haz de láser sobre el grafeno para obtener una estructura de grafeno poroso que forma dicha nanomalla. Este es un método para la formación local directa de una nanomalla de grafeno de alta pureza sin máscara.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/ES2018/070025.

Solicitante: ASOCIACION DE INVESTIGACION METALURGICA DEL NOROESTE.

Nacionalidad solicitante: España.

Inventor/es: ROMERO ROMERO,PABLO, BOBRINETSKIY,Ivan, OTERO RAMUDO,Nerea, EMELIANOV,Aleksei.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C01B32/194
  • H01S3/00 SECCION H — ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01S DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN LA EMISION ESTIMULADA.Láser, es decir, dispositivos para la producción, amplificación, modulación, demodulación o el cambio de frecuencia utilizando la emisión estimulada de ondas infrarrojas, visibles o ultravioletas (láseres de semiconductor H01S 5/00).

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