Antorcha de plasma.
Antorcha de plasma (1) con:
- un cuerpo de antorcha (2),
- un electrodo (3) dispuesto en el cuerpo de antorcha (2),
- una boquilla (4) que presenta una abertura central de boquilla (4a) y está dispuesta de tal manera que cubre el electrodo (3) separadamente por medio de un canal de gas de plasma (6a) que está formado entre estos,
- una tapa protectora de boquilla (7) que presenta una abertura de descarga (7a) dispuesta en su extremo delantero de manera opuesta a la abertura de boquilla (4a) y un canal de gas secundario (9) con forma anular dentro de la tapa protectora de boquilla (7) que está conectado con la abertura de descarga (7a), estando dispuesta la tapa protectora de boquilla (7) respecto al electrodo (3) y a la boquilla (4) de manera eléctricamente aislada,
- una tapa de boquilla (5), que cubre la boquilla (4) con excepción al menos de la abertura de boquilla (4a) y está dispuesta dentro de la tapa protectora de boquilla (7) y separada de esta en su extremo delantero por el canal de gas secundario (9),
- una pieza de conducción de gas secundario (8) que presenta al menos un paso (8a) en forma de perforaciones, estando dispuesta la pieza de conducción de gas secundario (8) en el canal de gas secundario (9) entre una entrada de gas secundario (8b) y el extremo delantero del canal de gas secundario (9) y estando configurado el canal de gas secundario (9) entre la pieza de conducción de gas secundario (8) y su extremo delantero de tal manera que guía el gas secundario SG tras pasar la pieza de conducción de gas secundario (8) y una parte de canal de gas secundario (9a) en lo esencial paralela al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) oblicuamente al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) en dirección del extremo delantero de la antorcha de plasma (1) y después, en un ángulo en lo esencial recto respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1), lo alimenta a un haz de plasma, y la tapa de boquilla (5), que cubre la boquilla (4) con excepción al menos de la abertura de boquilla (4a) y está dispuesta dentro de la tapa protectora de boquilla (7) y separada de esta en su lado extremo delantero por el canal de gas secundario (9), presenta en la zona de la pieza de conducción de gas secundario (8) una primera superficie de envoltura que está inclinada en un ángulo en el intervalo de 0 ± 15° respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) y se une en dirección del extremo delantero de la antorcha de plasma (1) a una segunda superficie de envoltura de la tapa de boquilla (5) en lo esencial con forma cónica que se reduce en dirección del extremo delantero de la antorcha de plasma (1).
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/DE2005/001714.
Solicitante: KJELLBERG FINSTERWALDE PLASMA UND MASCHINEN GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: LEIPZIGER STRASSE 82 03238 FINSTERWALDE ALEMANIA.
Inventor/es: REINKE,RALF-PETER, LAURISCH,FRANK, KRINK,VOLKER, STEUDTNER,THOMAS.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- H05H1/34 ELECTRICIDAD. › H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26). › H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00). › Detalles, p. ej. electrodos, toberas.
PDF original: ES-2641235_T3.pdf
Patentes similares o relacionadas:
Cartucho consumible reemplazable para un sistema de corte por arco de plasma, del 22 de Julio de 2020, de HYPERTHERM, INC: Cartucho reemplazable para un soplete de arco de plasma, comprendiendo el cartucho reemplazable: un cuerpo de cartucho reemplazable y estando […]
Conector, sistema de conexión y métodos relacionados para conectar un soplete de plasma a un generador, del 26 de Febrero de 2020, de Trafimet Group S.p.A: Conector adecuado para conectarse a un soplete de plasma o bien a un generador para permitir el paso de corriente eléctrica, el paso […]
Dispositivo para la generación de un chorro de plasma atmosférico y procedimiento para el tratamiento de la superficie de una pieza de trabajo, del 25 de Septiembre de 2019, de PLASMATREAT GMBH: Dispositivo para la generación de un chorro de plasma atmosférico para el tratamiento de la superficie de una pieza de trabajo,
- con una carcasa tubular […]
Electrodo para un soplete de soldadura para soldadura al volframio bajo protección de gas y soplete de soldadura con tal electrodo, del 28 de Agosto de 2019, de LINDE AKTIENGESELLSCHAFT: Electrodo con una tobera de gas protector para un soplete de soldadura para la soldadura al volframio bajo gas inerte, en […]
Procedimiento de soldadura al volframio bajo protección de gas, del 28 de Agosto de 2019, de LINDE AKTIENGESELLSCHAFT: Procedimiento para la soldadura al volframio bajo protección de gas - en el que un electrodo y una pieza de trabajo son alimentados […]
Boquilla de larga duración para una pistola de pulverización térmica y método de fabricación y uso de la misma, del 4 de Abril de 2019, de Oerlikon Metco (US) Inc: Una pistola de pulverización térmica estructurada y dispuesta para aplicar un recubrimiento que comprende: un cuerpo de boquilla; un material […]
Electrodo para soplete de corte por chorro de plasma, así como su uso, del 3 de Abril de 2019, de Kjellberg-Stiftung: Electrodo para soplete de corte por chorro de plasma, el cual está formado por un portaelectrodos y un inserto de emisión , los cuales […]
Disposición de electrodos para soplete para corte con chorro de plasma, del 1 de Febrero de 2019, de Kjellberg-Stiftung: Disposición de electrodos para soplete para cortar con chorro de plasma, en el caso de la cual, para el alojamiento de un inserto de emisión, está […]