Antorcha de plasma.

Antorcha de plasma (1) con:

- un cuerpo de antorcha (2),

- un electrodo (3) dispuesto en el cuerpo de antorcha (2),



- una boquilla (4) que presenta una abertura central de boquilla (4a) y está dispuesta de tal manera que cubre el electrodo (3) separadamente por medio de un canal de gas de plasma (6a) que está formado entre estos,

- una tapa protectora de boquilla (7) que presenta una abertura de descarga (7a) dispuesta en su extremo delantero de manera opuesta a la abertura de boquilla (4a) y un canal de gas secundario (9) con forma anular dentro de la tapa protectora de boquilla (7) que está conectado con la abertura de descarga (7a), estando dispuesta la tapa protectora de boquilla (7) respecto al electrodo (3) y a la boquilla (4) de manera eléctricamente aislada,

- una tapa de boquilla (5), que cubre la boquilla (4) con excepción al menos de la abertura de boquilla (4a) y está dispuesta dentro de la tapa protectora de boquilla (7) y separada de esta en su extremo delantero por el canal de gas secundario (9),

- una pieza de conducción de gas secundario (8) que presenta al menos un paso (8a) en forma de perforaciones, estando dispuesta la pieza de conducción de gas secundario (8) en el canal de gas secundario (9) entre una entrada de gas secundario (8b) y el extremo delantero del canal de gas secundario (9) y estando configurado el canal de gas secundario (9) entre la pieza de conducción de gas secundario (8) y su extremo delantero de tal manera que guía el gas secundario SG tras pasar la pieza de conducción de gas secundario (8) y una parte de canal de gas secundario (9a) en lo esencial paralela al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) oblicuamente al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) en dirección del extremo delantero de la antorcha de plasma (1) y después, en un ángulo en lo esencial recto respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1), lo alimenta a un haz de plasma, y la tapa de boquilla (5), que cubre la boquilla (4) con excepción al menos de la abertura de boquilla (4a) y está dispuesta dentro de la tapa protectora de boquilla (7) y separada de esta en su lado extremo delantero por el canal de gas secundario (9), presenta en la zona de la pieza de conducción de gas secundario (8) una primera superficie de envoltura que está inclinada en un ángulo en el intervalo de 0 ± 15° respecto al eje longitudinal L de la antorcha de plasma (1) y se une en dirección del extremo delantero de la antorcha de plasma (1) a una segunda superficie de envoltura de la tapa de boquilla (5) en lo esencial con forma cónica que se reduce en dirección del extremo delantero de la antorcha de plasma (1).

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/DE2005/001714.

Solicitante: KJELLBERG FINSTERWALDE PLASMA UND MASCHINEN GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: LEIPZIGER STRASSE 82 03238 FINSTERWALDE ALEMANIA.

Inventor/es: REINKE,RALF-PETER, LAURISCH,FRANK, KRINK,VOLKER, STEUDTNER,THOMAS.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H05H1/34 SECCION H — ELECTRICIDAD.H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26). › H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00). › Detalles, p. ej. electrodos, toberas.

PDF original: ES-2641235_T3.pdf

 

Patentes similares o relacionadas:

Disposición de electrodos para soplete para corte con chorro de plasma, del 1 de Febrero de 2019, de Kjellberg-Stiftung: Disposición de electrodos para soplete para cortar con chorro de plasma, en el caso de la cual, para el alojamiento de un inserto de emisión, está […]

Soplete de plasma, del 16 de Enero de 2019, de Kjellberg-Stiftung: Soplete de plasma, preferentemente un soplete de corte con plasma en el que se conduce con la ayuda de al menos una alimentación un gas […]

Sistema y método para el mecanizado térmico de una pieza a trabajar mediante el uso de un soplete de plasma o de un soplete de oxifuel para el montaje intercambiable en un receptáculo del quemador, del 16 de Noviembre de 2018, de Messer Cutting Systems Inc: Un sistema para el mecanizado térmico de una pieza a trabajar , que comprende: Un cuerpo de soplete con un primer extremo axial […]

Boquilla térmica optimizada y método de uso de la misma, del 21 de Septiembre de 2018, de Oerlikon Metco (US) Inc: Una boquilla para una pistola de pulverización térmica que comprende: un orificio central que comprende un orificio cónico y un orificio […]

Tubos de refrigeración, portaelectrodos y electrodo para un soplete de arco de plasma y conjuntos fabricados de los mismos y un soplete de arco de plasma que comprende los mismos, del 21 de Febrero de 2018, de KJELLBERG FINSTERWALDE PLASMA UND MASCHINEN GMBH: Tubo de refrigeración para un soplete de arco de plasma, que comprende un cuerpo alargado que tiene un extremo que puede disponerse en el extremo abierto […]

Antorcha de plasma con inyector lateral, del 2 de Agosto de 2017, de SAINT-GOBAIN CENTRE DE RECHERCHES ET D'ETUDES EUROPEEN: Antorcha de plasma que comprende: - un generador de plasma que incluye: -un cátodo que se extiende según un eje X y un ánodo , estando el cátodo y el ánodo […]

Antorcha de plasma de arco con aislamiento eléctrico mejorado, del 26 de Abril de 2017, de AIR LIQUIDE WELDING FRANCE: Antorcha de plasma de arco que comprende: - un cabezal de antorcha alimentado con corriente y que comprende un electrodo y al […]

PROCEDIMIENTO DE CORTE CON CHORRO DE PLASMA, del 13 de Junio de 2011, de KJELLBERG FINSTERWALDE PLASMA UND MASCHINEN GMBH: Procedimiento de corte con chorro de plasma por medio de un soplete para corte con chorro de plasma con empleo de un gas de plasma o de una mezcla […]

Otras patentes de KJELLBERG FINSTERWALDE PLASMA UND MASCHINEN GMBH