Procedimiento de fabricación de un cuerpo de múltiples capas.

Procedimiento para la fabricación de un cuerpo de múltiples capas (100,

100') con una primera capa parcialmente moldeada (3m), en el que

en una primera zona de una capa de replicación (3) del cuerpo de múltiples capas se moldea una primera estructura de relieve difractiva (4),

caracterizado por

que la primera capa (3m) se aplica sobre la capa de replicación (3) en la primera zona y en una segunda zona, en la que la primera estructura de relieve no está moldeada en la capa de replicación (3), con una densidad superficial constante con respecto a un plano extendido por la capa de replicación (3), por que sobre la primera capa (3m) se aplica una capa fotosensible (8) o como capa de replicación se aplica una máscara de lavado fotosensible, por que la capa o la máscara de lavado fotosensible (8) se irradia a través de la primera capa (3m), de modo que la capa o la máscara de lavado fotosensible (8) se irradia de manera condicionada por la primera estructura de relieve en la primera y en la segunda zona de manera distinta, y por que la primera capa (3m) con el uso de la capa o máscara de lavado fotosensible irradiada (8) se separa como capa de máscara en la primera zona, sin embargo no en la segunda zona o en la segunda zona, sin embargo no en la primera zona.

Procedimiento de fabricación de un cuerpo de múltiples capas La invención se refiere a un procedimiento para la fabricación de un cuerpo de múltiples capas con una capa de replicación y al menos una primera capa parcialmente moldeada dispuesta sobre la misma en el registro con respecto a una primera estructura de relieve de acuerdo con la reivindicación 1.

Los elementos de construcción de este tipo son adecuados como elementos de construcción ópticos o también como sistemas de lentes en el sector de la telecomunicación. El documento GB 2 136 352 A describe un procedimiento de fabricación para la fabricación de una lámina de sello dotada de un holograma como característica de seguridad. Según esto se metaliza por toda la superficie una lámina de plástico tras la estampación de una estructura de relieve difractiva y luego se desmetaliza por zonas de manera exacta al registro con respecto a la estructura de relieve difractiva estampada.

La desmetalización exacta al registro es costosa y la resolución que puede conseguirse está limitada mediante las tolerancias de ajuste y el procedimiento usado.

El documento EP 0 537 439 B2 describe procedimientos para la fabricación de un elemento de seguridad con patrones de filigrana. Los patrones están formados de estructuras difractivas cubiertas con una capa metálica y están rodeados de zonas transparentes, en las que se ha separado la capa metálica. Está previsto colocar el contorno del patrón de filigrana como concavidad en un material de soporte revestido con metal, a este respecto dotar al mismo tiempo la base de las concavidades de las estructuras difractivas y luego rellenar las concavidades con una laca protectora. La laca protectora en exceso debe separarse por medio de una cuchilla rascadora. Tras la aplicación de la laca protectora está previsto separar la capa metálica en las zonas transparentes no protegidas mediante grabado al agua fuerte. Las concavidades ascienden a de aproximadamente 1 μm a 5 μm, mientras que las estructuras difractivas pueden tener diferencias de altura de más de 1 μm. En caso de estructuras más finas fracasa este procedimiento, que en caso de etapas de repetición requiere etapas de ajuste para la alineación exacta al registro. Además son difíciles de realizar las zonas metálicas continuas planas, dado que para la eliminación de la laca protectora faltan los “espaciadores”.

El documento EP 1 501 045 A1 describe distintas posibilidades de individualizar un elemento de seguridad holográfico. Según esto se ha descrito también dotar un elemento de seguridad holográfico de este tipo de una capa de reflexión metálica parcial.

El documento WO 01/00426 A1 describe un elemento de seguridad, que presenta una primera estampación que, en caso de un ángulo de observación determinado según el tipo de imagen volteada, oculta una parte de una segunda estampación.

El documento DE 41 30 896 A1 describe un material compuesto de capas con estructuras de difracción que están moldeadas entre una primera capa de laca y una segunda capa de laca. Este material compuesto de capas presenta además una capa de adhesivo que está cubierta hasta la fijación sobre un documento por una lámina de soporte.

El documento WO 99/56964 describe un procedimiento, en el que una placa de impresión de una impresora se 45 colorea y con ello se imprime una lámina de soporte, de modo que se produce una aplicación de color. Sobre la lámina de soporte impresa se forma una capa de cubierta delgada, que se separa por zonas a continuación entonces mediante un procedimiento de lavado en las zonas en las que se ha realizado la aplicación de color. El sustrato puede presentar según esto una estructura de difracción y en caso de la capa de cubierta puede tratarse de una capa metálica.

El documento US 4.882.477 describe un procedimiento para la fabricación de un objeto electrónico, en forma de tarjeta. En una capa de cubierta de este objeto se estampa un patrón de elevaciones y las zonas opuestas a estas elevaciones se rellenan, de modo que el lado trasero de la capa de cubierta opuesto a las elevaciones forma una superficie plana. Mediante esto se consigue una superficie plana entre esta capa de cubierta y el dispositivo de 55 conexión posterior del objeto.

Es objetivo de la presente invención indicar un procedimiento para la fabricación de un cuerpo de múltiples capas, en el que puede aplicarse en el registro con alta exactitud y de manera económica una capa que presenta zonas en las que no está presente la capa.

De acuerdo con la invención se soluciona este objetivo mediante un procedimiento según la reivindicación 1.

El uso de un cuerpo de múltiples capas como máscara de exposición para la fabricación de otro cuerpo de múltiples capas con otra capa parcialmente moldeada es ideal. A este respecto está previsto que la máscara de exposición 65 presente una capa de replicación, que en una primera zona de la capa de replicación esté moldeada una primera estructura de relieve difractiva, que en una segunda zona de la capa de replicación no esté moldeada la primera

estructura de relieve en la capa de replicación y que una primera capa esté aplicada sobre la capa de replicación en la primera zona y en una segunda zona, en la que la primera estructura de relieve no está moldeada en la capa de replicación, de modo que una capa fotosensible o máscara de lavado fotosensible irradiada a través de la primera capa se irradia de manera condicionada por la primera estructura de relieve en la primera y en la segunda zona de manera distinta.

La invención se basa en el conocimiento de que mediante la estructura de relieve difractiva en la primera zona se ven influidas las propiedades físicas de la primera capa aplicada sobre la capa de replicación en esta zona, por ejemplo espesor eficaz o densidad óptica, de modo que se diferencian las propiedades de transmisión de la primera capa en la primera y segunda zona. La primera capa se usa ahora en un procedimiento de exposición como “capa de máscara” para la separación parcial de la propia primera capa, irradiándose una capa fotosensible colindante con la primera capa a través de la primera capa (o sea la capa funcional) . Mediante esto se consigue, en comparación con las capas de máscara aplicadas con procedimientos convencionales, la ventaja de que la capa de máscara está alineada de manera exacta al registro sin gasto de ajuste adicional. La primera capa es parte constituyente integral

de la estructura moldeada en la capa de replicación. Por tanto, sólo las tolerancias de esta estructura de relieve tienen influencia sobre las tolerancias de la posición de la primera capa. No se produce un desplazamiento lateral entre la primera estructura de relieve y las zonas de la primera capa con iguales propiedades físicas. La disposición de zonas de la primera capa con iguales propiedades físicas es exacta en el registro con la primera estructura de relieve. No se producen tolerancias adicionales. En el caso de la primera capa se trata de una capa que cumple una doble función. Ésta aporta por un lado la función de una máscara de exposición sumamente exacta para el proceso de fabricación, por otro lado ésta forma al final del proceso de fabricación una capa funcional colocada de manera sumamente exacta, por ejemplo una capa OVD o un circuito impreso o una capa funcional de un elemento de construcción eléctrico, por ejemplo de un elemento de construcción semiconductor orgánico.

Además pueden conseguirse por medio de la invención capas estructuradas de muy alta resolución. El registro y la resolución que pueden conseguirse puede conseguirse aproximadamente en el factor de 100 mejor que mediante procedimientos de desmetalización conocidos. Dado que la anchura de los elementos de estructura de la primera estructura de relieve puede encontrarse en el intervalo de la longitud de onda de la luz visible (aproximadamente de 380 a 780 nm) , sin embargo también por debajo de éste, pueden configurarse zonas de patrón con contornos muy finos. Con ello se generan también en este sentido grandes ventajas en comparación con los procedimientos de desmetalización usados hasta ahora, y es posible con la invención fabricar elementos de seguridad con seguridad frente a la copia y la falsificación más alta que hasta ahora.

Pueden generarse líneas y/o puntos con alta resolución, por ejemplo con una anchura o un diámetro inferior a 5 μm,

en particular hasta aproximadamente 200 nm. Preferentemente se generan resoluciones en el intervalo de aproximadamente 0, 5 μm a 5 μm, en particular en el intervalo de aproximadamente 1 μm. Por el contrario con procedimientos que prevén... [Seguir leyendo]

1. Procedimiento para la fabricación de un cuerpo de múltiples capas (100, 100’) con una primera capa parcialmente moldeada (3m) , en el que en una primera zona de una capa de replicación (3) del cuerpo de múltiples capas se moldea una primera estructura de relieve difractiva (4) ,

caracterizado por que la primera capa (3m) se aplica sobre la capa de replicación (3) en la primera zona y en una segunda zona, en la que la primera estructura de relieve no está moldeada en la capa de replicación (3) , con una densidad superficial constante con respecto a un plano extendido por la capa de replicación (3) , por que sobre la primera capa (3m) se aplica una capa fotosensible (8) o como capa de replicación se aplica una máscara de lavado fotosensible, por que la capa o la máscara de lavado fotosensible (8) se irradia a través de la primera capa (3m) , de modo que la capa o la máscara de lavado fotosensible (8) se irradia de manera condicionada por la primera estructura de relieve en la primera y en la segunda zona de manera distinta, y por que la primera capa (3m) con el uso de la capa o máscara de lavado fotosensible irradiada (8) se separa como capa de máscara en la primera zona, sin embargo no en la segunda zona o en la segunda zona, sin embargo no en la primera zona.

2. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado por que la primera capa (3m) se aplica sobre la capa de replicación (3) por toda la superficie, en particular se metaliza por evaporación.

3. Procedimiento según la reivindicación 1 o 2, caracterizado por que la primera capa (3m) se aplica sobre la capa de replicación (3) en un espesor, en el que la primera capa (3m) tiene una densidad óptica superior a 1, 5.

4. Procedimiento según la reivindicación 1 o 2, caracterizado por que la primera capa (3m) se aplica sobre la capa de replicación (3) por toda la superficie en un espesor, en el que la primera capa (3m) tiene una densidad óptica entre 2 y 7.

5. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) se forma de una capa metálica o de una capa compuesta de una aleación metálica.

6. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que en la segunda zona está moldeada una segunda estructura de relieve en la capa de replicación y por que como primera estructura de relieve se moldea una estructura de relieve difractiva en la capa de laca de replicación, que eleva la transmisión, en

particular la transparencia de la primera capa (3m) en la primera zona en comparación con la transmisión, en particular la transparencia de la primera capa (3m) en la segunda zona.

7. Procedimiento según la reivindicación 6, caracterizado por que la primera estructura de relieve tiene una profundidad de relieve más grande que la segunda estructura de relieve.

8. Procedimiento según una de las reivindicaciones 6 o 7, caracterizado por que el producto de la frecuencia espacial y la profundidad de relieve de la primera estructura de relieve es mayor que el producto de la frecuencia espacial y la profundidad de relieve de la segunda estructura de relieve.

9. Procedimiento según una de las reivindicaciones 6 a 8, caracterizado por que la primera o segunda estructura de relieve está configurada como micro o nanoestructura ópticamente activa, reflectante o de transmisión difringente y/o refringente y/o de dispersión de luz, por ejemplo como estructura de rejilla, tal como rejilla lineal o rejilla cruzada, como estructura mate isotrópica o anisotrópica, como lente de Fresnel binaria o continua, como microprisma, como rejilla de Blaze, como estructura de combinación o como macroestructura.

10. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que en la primera zona como primera estructura de relieve se moldea una estructura de relieve difractiva con una alta proporción de profundidad con respecto a anchura de los elementos de estructura individuales, en particular con una proporción de profundidad con respecto a anchura de > 0, 3.

11. Procedimiento según la reivindicación 10, caracterizado por que la segunda estructura de relieve se configura como estructura de relieve con proporción de profundidad con respecto a anchura más baja.

12. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que en la segunda zona la capa límite entre la capa de replicación y la primera capa es en gran parte plana.

13. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que como capa fotosensible (8)

o como máscara de lavado fotosensible se aplica un material fotosensible con una característica binaria y por que la capa fotosensible o la máscara de lavado fotosensible se irradia a través de la primera capa en una intensidad de 65 exposición y tiempo de exposición, por que la capa fotosensible (8) o la máscara de lavado fotosensible en la primera zona, en la que se ha elevado la transmisión de la primera capa (3m) mediante la primera estructura de

relieve, se activa y en la segunda zona no se activa.

14. Procedimiento según la reivindicación 13, caracterizado por que la capa o la máscara de lavado fotosensible (8) se irradia a través de la primera capa (3m) por medio de radiación UV. 5

15. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que las zonas activadas mediante la exposición de la máscara de lavado fotosensible y las zonas allí dispuestas de la primera capa (3m) se separan en un proceso de lavado.

16. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la capa fotosensible (8) irradiada a través de la primera capa (3m) se revela y por que la capa fotosensible revelada (8) forma una máscara de grabado para la primera capa (3m) .

17. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la capa fotosensible se

activa mediante la exposición en la primera zona, en la que la transmisión de la primera capa (3m) se ha elevado mediante la primera estructura de relieve, y por que la capa fotoactivable activada forma un medio de grabado para la primera capa (3m) .

18. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la capa fotosensible (8) se forma de un material fotorresistente.

19. Procedimiento según la reivindicación 18, caracterizado por que el material fotorresistente se configura como material fotorresistente positivo.

20. Procedimiento según la reivindicación 18, caracterizado por que el material fotorresistente se configura como material fotorresistente negativo.

21. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la capa fotosensible (8) se configura como un fotopolímero.

22. Procedimiento según una de las reivindicaciones 16 a 21; caracterizado por que se separan los restos de las máscaras de grabado.

23. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que en las zonas, en las que se 35 separa la primera capa (3m) , se coloca una segunda capa (3p) .

24. Procedimiento según la reivindicación 23, caracterizado por que se separan las zonas que quedan aún de la primera capa (3m) y se sustituyen por una tercera capa (3p’) .

25. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la segunda capa (3p) y/o la tercera capa (3p’) se refuerzan galvánicamente.

26. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado por que la segunda zona se moldea en forma de patrón

y la primera zona y la segunda zona se disponen de manera directamente adyacente una junto a otra, 45 preferentemente la segunda zona se rodea por la primera zona o la primera zona se rodea por la segunda zona.

27. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado por que la segunda zona está constituida por dos o más zonas parciales rodeadas por la primera zona, por que en la segunda zona se moldea una segunda estructura de relieve ópticamente activa en la capa de replicación, y por que la primera capa es una capa de reflexión que se ha separado en la primera zona y se dispone así de manera exacta al registro con respecto a la segunda estructura de relieve.

28. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado por que la primera zona está constituida por dos o más zonas parciales rodeadas por la segunda zona o a la inversa, y por que la primera capa es una capa de reflexión

que se ha separado en la segunda zona y está dispuesta así de manera exacta al registro con respecto a la primera estructura de relieve.

29. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que las zonas parciales de la segunda zona o las zonas parciales de la primera zona presentan una anchura inferior a 2 mm, preferentemente inferior a 1 mm.

30. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que una segunda capa (3p) se dispone en las zonas de la capa de replicación (3) , en las que no está presente la primera capa (3m) .

31. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la segunda capa (3p) se forma/forman de un material dieléctrico, por ejemplo de TiO2 o ZnS.

32. Procedimiento según la reivindicación 31, caracterizado por que la primera capa (3m) y la segunda capa (3p) están configuradas con distintos índices de refracción.

33. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la segunda capa (3p) se forma/forman de un polímero.

34. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la segunda capa (3p) se configura/configuran como capa de color.

35. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la segunda capa (3p) se forma/forman de varias capas parciales.

36. Procedimiento según la reivindicación 35, caracterizado por que las capas parciales forman un sistema de 15 capas de película delgada.

37. Procedimiento según la reivindicación 35 o 36, caracterizado por que las capas parciales se forman de distintos materiales.

38. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la segunda capa (3p) forma/forman un patrón óptico.

39. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la

segunda capa (3p) forma/forman una imagen tramada. 25

40. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la segunda capa (3p) forman una o varias características de seguridad ópticas.

41. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la segunda capa (3p) forman o forma un elemento de construcción electrónico, por ejemplo una antena, un condensador, una bobina o un elemento de construcción semiconductor orgánico.

42. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que el cuerpo de múltiples

capas es un elemento de lámina, en particular una lámina de transferencia, una lámina de estampación en caliente o 35 lámina estratificada.

43. Procedimiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por que la primera capa (3m) y/o la segunda capa (3p) forman una capa de orientación para la alineación de cristales líquidos.

44. Procedimiento según la reivindicación 43, caracterizado por que la capa de orientación presenta estructuras difractivas para la orientación de los cristales líquidos, que están alineados localmente de distinta manera, de modo que los cristales líquidos observados con luz polarizada representan una información, tal como por ejemplo un logotipo.

45. Procedimiento según la reivindicación 1 para la fabricación de un cuerpo de múltiples capas (200) con una segunda capa parcialmente moldeada (31 m) , caracterizado por que en una primera zona de una capa de replicación (30) se moldea una primera estructura de relieve difractiva (40) , por que una primera capa (30m) se aplica sobre la capa de replicación (30) en la primera zona y en una segunda zona, en la que la primera estructura de relieve no está moldeada en la capa de replicación (30) , con una densidad superficial constante con respecto a un plano extendido por la capa de replicación (30) , por que una capa fotosensible o máscara de lavado fotosensible (8) se irradia a través de la primera capa (30m) , de modo que la capa o máscara de lavado fotosensible (8) se irradia de manera condicionada por la primera estructura de relieve en la primera y en la segunda zona de manera distinta, y por que la segunda capa (31m) con el uso de la capa o máscara de lavado fotosensible irradiada (8) se separa como capa de máscara en la primera zona, sin embargo no en la segunda zona o en la segunda zona, sin embargo 55 no en la primera zona.

46. Procedimiento según la reivindicación 45, caracterizado por que la capa fotosensible o máscara de lavado fotosensible (8) se irradia a través de la segunda capa.

47. Procedimiento según la reivindicación 45 o 46, caracterizado por que la capa de replicación se aplica sobre una capa de soporte de una máscara de exposición.

48. Procedimiento según una de las reivindicaciones 45 a 47, caracterizado por que la capa fotosensible se aplica

sobre la segunda capa. 65

49. Procedimiento según una de las reivindicaciones 47 a 48, caracterizado por que la segunda capa se aplica

sobre la máscara de lavado fotosensible.