Dispositivo de recubrimiento.

Dispositivo (10) para el recubrimiento continuo de substratos (30) discretos planos,

en particular de forma basetetragonal, que comprende:

* al menos una banda de recubrimiento (20) flexible que está configurada para transferir material derecubrimiento sobre una cara superior de los substratos planos;

* medios (21a, 21b) para el movimiento de la banda de recubrimiento flexible;

* medios de transporte (33) para mover los substratos planos;

* al menos un rodillo de aplicación (11) rotativo que está configurado para transferir material de recubrimientosobre la banda de recubrimiento (20) flexible, y

* medios (12, 13, 16) para el suministro de material de recubrimiento hacia el rodillo de aplicación rotativo, en elqueel rodillo de aplicación (11) está provisto en su superficie de al menos una escotadura (14) que está configuradade modo que en la transferencia de material de recubrimiento del rodillo (11) a la banda (20) se genera unhueco de recubrimiento correspondiente en la banda de recubrimiento que está esencialmente libre de materialde recubrimiento,

caracterizado porque la escotadura (14) del rodillo de aplicación (11) es una ranura que se extiende en paraleloal eje de rotación del rodillo y al menos uno de los bordes exteriores de la ranura está achaflanado.

Dispositivo de recubrimiento.

1. Campo de la invención La presente invención se refiere a un dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos.

2. Antecedentes Bajo el recubrimiento de substratos discretos planos se entiende aquí en particular el recubrimiento de placas de material de madera, que se utilizan por ejemplo como pared o paneles de suelo o como elementos constructivos en la industria del mueble. Las placas de material de madera pueden estar hechas por ejemplo de MDF, HDF o placas de virutas de madera, pero también de madera maciza o placas OSB. En el recubrimiento industrial de substratos semejantes, los substratos individuales, es decir, discretos planos se conduce de forma continua mediante, por ejemplo, cintas transportadoras o rodillos transportadores a través de una instalación de recubrimiento. En la instalación de recubrimiento se aplica un recubrimiento o barnizado apropiados, como por ejemplo, un recubrimiento superficial resistente a la abrasión de resinas fenólicas o acrílicas. El recubrimiento se aplica habitualmente de forma líquida y se endurece o seca en una etapa posterior. Del estado de la técnica se conocen una pluralidad de procedimientos de recubrimiento; entonces el recubrimiento, por ejemplo, se puede pulverizar o se puede arrollar mediante rodillos.

Del documento WO 90/15673 se conoce previamente una instalación de recubrimiento en la que los substratos planos de un plástico termoplástico se proveen de un recubrimiento endurecible por radiación. Después de la aplicación de la masa de recubrimiento se transportan los substratos planos de manera continua a un dispositivo de endurecimiento. Este dispositivo de endurecimiento se compone de una banda de plástico circulante que se mueve con la misma velocidad que los substratos planos. La banda de plástico se presiona sobre el recubrimiento todavía húmedo, de modo que se origina un cierre hermético al aire. Luego el recubrimiento todavía húmedo se irradia mediante una fuente de radiación dispuesta detrás de la banda de plástico a través de la banda, a fin de endurecer el recubrimiento y a continuación la banda de plástico se aparta del recubrimiento endurecido. La banda de plástico del documento WO 90/15673 es una banda sin fin y está provista de una estructura tridimensional, de modo que el recubrimiento acabado presenta una estructura superficial tridimensional correspondiente.

En el documento WO 02/068189 A2 divulga igualmente un procedimiento y un dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos. Los substratos son, por ejemplo, placas de fibras de madera cuya superficie se debe proveer de un recubrimiento liso. Los substratos se transportan uno tras otro mediante un sistema de rodillos de transporte a través de las diferentes etapas de una instalación de recubrimiento. En una primera etapa se aplica el recubrimiento en los substratos individuales. En una segunda etapa se dispone una lámina permeable a la radiación sobre el recubrimiento todavía húmedo de los substratos y se desplaza en la dirección de transporte de los substratos planos con los mismos. Para ello la lámina permeable a la radiación se desplaza mediante rodillos de accionamiento y desvío. Durante esta segunda etapa la lámina descansa sobre el recubrimiento húmedo y representa un cierre hermético al aire. Al mismo tiempo se utiliza una fuente de radiación que a través de la lámina permeable a la radiación endurece el recubrimiento sobre los substratos. Después del endurecimiento total o parcial del recubrimiento se retira de nuevo la lámina y los substratos se transportan hacia otras etapas del procesamiento. El recubrimiento y el endurecimiento se efectúan de forma continua, es decir, los substratos se transportan sin parar con velocidad uniforme a través de la instalación de recubrimiento.

Del documento DE 10 2005 006 084 A1 se conoce un procedimiento similar para el recubrimiento de paneles, por ejemplo, paneles de suelo. Los paneles se conducen sobre las cintas transportadoras de forma continua, es decir, sin parar, a través de una instalación de recubrimiento. En un primer paso los paneles se proveen de un recubrimiento endurecible por radiación. En un segundo paso la banda sin fin se pone en contacto con el recubrimiento todavía húmedo. La banda sin fin se conduce para ello en la misma dirección y con la misma velocidad que los paneles revestidos, de modo que entre los paneles móviles y la banda de recubrimiento no existe una velocidad relativa. La banda sin fin se presiona mediante dispositivos de presión apropiados sobre el recubrimiento todavía húmedo y en esta disposición se endurece el recubrimiento mediante una radiación que actúa a través de la lámina.

El documento EP 0 578 886 A1 describe un dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos planos, por ejemplo, de la superficie decorativa impresa de un papel. Con esta finalidad el dispositivo presenta un aparato de recubrimiento que comprende una banda de recubrimiento giratoria así como dos rodillos de aplicación. El primer rodillo de aplicación está provisto de una escotadura a lo largo de su borde longitudinal que genera un hueco de recubrimiento correspondiente sobre la banda de aplicación.

El estado de la técnica arriba descrito tiene la desventaja de que el recubrimiento verdadero de los substratos supone una etapa adicional de procedimiento. Por ello en el estado de la técnica se han realizado reflexiones para aplicar el

recubrimiento mediante la lámina circulante o de la banda circulante. Para ello el material de recubrimiento se aplica sobre la superficie exterior de la banda misma y a continuación, si la banda así revestida se presiona o dispone sobre la superficie de los substratos movidos, se transfiere de la banda sobre los substratos. La banda sirve por consiguiente al mismo tiempo para la aplicación del recubrimiento y para el cierre hermético al aire para el endurecimiento directamente subsiguiente. No obstante, en el recubrimiento continuo de substratos discretos planos se produce el problema de que en el hueco irremediable entre dos substratos sucesivos no se puede entregar un material de recubrimiento de la lámina y por consiguiente queda sobre la lámina. En este caso se puede constituir un recubrimiento pegajoso, no completamente polimerizado. Debido a ello la lámina no se puede utilizar una segunda vez si no se quiere tener deterioros superficiales. En el paso de endurecimiento se endurece este material que ha quedado sobre la lámina lo que conduce a que la lámina no se pueda utilizar una segunda vez.

Partiendo de este estado de la técnica se plantea el objetivo de proporcionar un dispositivo para el recubrimiento continuo que reduzca o evite las desventajas mencionadas del estado de la técnica. En particular se plantea el objetivo de proporcionar un dispositivo en el que una banda de recubrimiento se pueda utilizar varias veces.

Este y otros objetivos, que se mencionan durante la lectura de la descripción siguiente o se pueden ser reconocidos por el experto en la materia, se resuelven con un dispositivo según la reivindicación 1 y 9.

3. Descripción detallada de la invención El dispositivo según la invención está configurado de modo que es posible un uso múltiple de la banda de recubrimiento. El dispositivo según la invención es apropiado en particular para el recubrimiento de substratos planos de forma base tetragonal y que se conducen preferentemente sin fin y a una distancia variable mediante el dispositivo. Como material de recubrimiento entran en consideración los materiales utilizados habitualmente en el estado de la técnica, como por ejemplo diferentes resinas acrílicas que se aplican y procesan preferentemente en estado fluido. Indicaciones más próximas de posibles materiales de recubrimientos se encuentran en los documentos arriba mencionados del estado de la técnica, cuyo contenido se incorpora por la presente mediante referencia. La presente invención presenta ventajas especiales en el recubrimiento de paneles de material derivada de madera para la fabricación de paneles de suelo o pared. El dispositivo según la presente invención comprende una banda de recubrimiento flexible que está configurada para transferir el material de recubrimiento sobre una cara superior de los substratos planos, medios para el movimiento de la banda de recubrimiento flexible, así como medios de transporte para mover los substratos planos. La banda de recubrimiento flexible es por ejemplo una lámina de plástico que preferentemente es permeable a la radiación, y en particular para radiaciones ultravioletas y/o radiaciones electrónicas. Los medios de transporte para el movimiento de los substratos planos pueden componerse, por ejemplo, de una... [Seguir leyendo]

1. Dispositivo (10) para el recubrimiento continuo de substratos (30) discretos planos, en particular de forma base tetragonal, que comprende:

• al menos una banda de recubrimiento (20) flexible que está configurada para transferir material de 5 recubrimiento sobre una cara superior de los substratos planos;

• medios (21a, 21b) para el movimiento de la banda de recubrimiento flexible;

• medios de transporte (33) para mover los substratos planos;

• al menos un rodillo de aplicación (11) rotativo que está configurado para transferir material de recubrimiento sobre la banda de recubrimiento (20) flexible, y

• medios (12, 13, 16) para el suministro de material de recubrimiento hacia el rodillo de aplicación rotativo, en el que el rodillo de aplicación (11) está provisto en su superficie de al menos una escotadura (14) que está configurada de modo que en la transferencia de material de recubrimiento del rodillo (11) a la banda (20) se genera un hueco de recubrimiento correspondiente en la banda de recubrimiento que está esencialmente libre de material

de recubrimiento,

caracterizado porque la escotadura (14) del rodillo de aplicación (11) es una ranura que se extiende en paralelo al eje de rotación del rodillo y al menos uno de los bordes exteriores de la ranura está achaflanado.

2. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según la reivindicación 1, caracterizado porque la banda (20) está provista de una estructura tridimensional que provoca que, durante la transferencia de material de recubrimiento de la banda (20) sobre el substrato (30) , el recubrimiento transferido adquiera una estructura tridimensional correspondiente.

3. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según la reivindicación 1 ó 2, caracterizado porque la banda (20) es permeable a la radiación, en particular para la radiación ultravioleta y/o radiación por electrones.

4. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque el dispositivo además comprende • medios (34) para la generación de radiación, en particular para la generación de radiación ultravioleta y/o radiación por electrones, en el que • estos medios para la generación de radiación están dispuestos de modo que irradian en la dirección de 30 aquella cara de la banda (20) que no está recubierta por el rodillo de aplicación.

5. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque la banda es una banda sin fin.

6. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según una de las reivindicaciones

precedentes, caracterizado porque los medios (21a, 21b) para el movimiento de la banda (20) están 35 configurados a fin de conducir la banda de forma síncrona con los substratos (30) movidos.

7. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según la reivindicación 1, caracterizado porque el chaflán está configurado de modo que la relación de la anchura de la base de ranura (d) respecto a la mayor anchura de la abertura de ranura (D) es como sigue:

/ 4 : d/D : 1 / 2,

preferiblemente:

/ 3, 5 : d/D : 1 / 2, 5.

8. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque la superficie del rodillo de aplicación (11) está engomada.

9. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos (30) discretos planos, en particular de forma base 45 rectangular, que comprende:

• al menos una banda de recubrimiento (20) flexible que está configurada para transferir material de recubrimiento sobre una cara superior de los substratos planos;

• medios (21a, 21b) para el movimiento de la banda de recubrimiento flexible;

• medios de transporte (33) para mover los substratos planos;

• al menos un rodillo de aplicación (11) rotativo que está configurado para transferir material de recubrimiento sobre la banda de recubrimiento flexible, y

• medios (12, 13, 16) para el suministro de material de recubrimiento hacia el rodillo de aplicación (11) rotativo,

caracterizado porque el dispositivo presenta más medios (41, 42; 42, 43, 45) para la aplicación de una banda cobertora (40) sobre los bordes dirigidos uno hacia otro de dos substratos (30, 30’) sucesivos para franquear la hendidura entre estos substratos sucesivos.

10. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según la reivindicación precedente, caracterizado porque los medios (42, 45) para la aplicación de una banda cobertora (40) están concebidos móviles de forma síncrona respecto a la dirección de movimiento de los substratos (30, 30’) a fin de poder aplicar la banda cobertora sobre los substratos en movimiento.

11. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según la reivindicación 9, caracterizado porque los medios (41, 42) para la aplicación de una banda cobertora (40) presentan un sistema de carril (41) que discurre de forma inclinada respecto a la dirección de movimiento de los substratos (30, 30’) , a lo largo del que está concebido móvil un dispositivo (42) para la deposición de la banda cobertora (40) a fin de poder recubrir la hendidura entre dos substratos (30, 30’) sucesivos durante el movimiento de los substratos.

12. Dispositivo para el recubrimiento continuo de substratos discretos planos según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque los medios (12, 13, 16) para el suministro de material de recubrimiento hacia el rodillo de aplicación (11) rotativo comprenden un primer (13) y un segundo (12) rodillo de dosificación que están dispuestos en paralelo al eje de rotación del rodillo de aplicación (11) y entre ellos definen una hendidura de dosificación (16) , pudiéndose suministrar el material de recubrimiento desde arriba entre los dos rodillos de dosificación (12, 13) y estando dispuesto el segundo rodillo de dosificación (12) respecto al rodillo de aplicación (11) de modo que transfiere de su superficie material de recubrimiento sobre la superficie del rodillo de aplicación.