SISTEMAS DE POLÍMEROS Y COMPOSICIONES LIMPIADORAS QUE LOS COMPRENDEN.

Un sistema polimérico que comprende: A.) un polímero aniónico seleccionado del grupo que consiste en (i) polímeros aniónicos que comprenden:

a.) un primer resto derivado de monómeros C3-C8 monoetilénicamente insaturados que comprenden al menos un grupo ácido carboxílico, sales de dichos monómeros y mezclas de los mismos; y b.) un segundo resto seleccionado del grupo que consiste en: (1) restos derivados de monómeros insaturados modificados que tienen las fórmulas R - Y - L y R - Z en donde: i.) R se selecciona del grupo que consiste en C(X)H=C(R 1 )- en donde R 1 es H o alquilo C1-C4; y X es H, CO2H o CO2R2 en donde R2 es hidrógeno, metales alcalinos, metales alcalinotérreos, bases amonio y amina, alquilo C1-C20 saturado, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; ii.) Y se selecciona del grupo que consiste en -CH2-, -CO2-, -OCO- y -CON(R a )-, -CH2OCO-; en donde R a es H o alquilo C1-C4; iii.) L se selecciona del grupo que consiste en hidrógeno, metales alcalinos, metales alcalinotérreos, bases amonio y amina, alquilo C1-C20 saturado, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; y iv.) Z se selecciona del grupo que consiste en arilo C6-C12 y arilalquilo C7-C12; y (2) restos que tienen la fórmula J-G-D en donde: i.) J se selecciona del grupo que consiste en C(X)H=C(R1)- en donde R1 es H o alquilo C1-C4; X es H, CO2H o CO2R2 en donde R2 es hidrógeno, metales alcalinos, me-tales alcalinotérreos, bases amonio y amina, alquilo C2-C20 saturado, arilo C6-C12, alquilarilo C7-C20; ii.) G se selecciona del grupo que consiste en alquilo C1-C4, -O-, -CH2O-, -CO2-. iii.) D se selecciona del grupo que consiste en -CH2CH(OH)CH2O(R 3 O)dR4; -CH2CH[O(R 3 O)dR 4 ]CH2OH; -CH2CH(OH)CH2NR 5 (R 3 O)dR 4 ; -CH2CH[NR 5 (R 3 O)dR 4 ]CH2OH y mezclas de los mismos; en donde R 3 se selecciona del grupo que consiste en etileno, 1,2-propileno, 1,3-propileno, 1,2- butileno, 1,4-butileno y mezclas de los mismos; R 4 es una unidad de protección terminal seleccionada del grupo que consiste en H, alquilo C1-C4, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; R 5 se selecciona del grupo que consiste en H, alquilo C1-C4, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; y el subíndice d es un número entero de 1 a 100; (ii) copolímeros de injerto que comprenden un primer resto derivado de monómeros C3-C8 monoetilénicamente insaturados que comprenden al menos un grupo ácido carboxílico, sales de dichos monómeros y mezclas de los mismos, estando dichos primeros restos injertados en un poli(óxido de alquileno) de C1-C4 carbonos y mezclas de los mismos; y B.) un polímero de poliamina modificada seleccionado del grupo que consiste en polímeros que tienen las siguientes fórmulas: (Ver fórmula) y mezclas de los mismos.

Sistemas de polfmeros y composiciones limpiadoras que los comprenden CAMPO DE LA INVENCION

La presente invención se refiere a sistemas de polfmeros que comprenden polfmeros de poliamina aniónicos y modificados, composiciones limpiadoras que comprenden sistemas de polfmeros y metodos para limpiar superficies y tejidos utilizando dichas composiciones limpiadoras.

ANTECEDENTES DE LA INVENCION

Se sabe que cuando se ponen en contacto fntimo polfmeros aniónicos y polfmeros catiónicos o de ion hfbrido, en forma s6lida o de solución, las cargas opuestas de dichos materiales reducen la estabilidad del producto. Por ejemplo, la combinación de polfmeros aniónicos y polfmeros catiónicos o de ion hfbrido en composiciones limpiadoras lfquidas da lugar de forma típica a separación de fases. Sin pretender imponer ninguna teorfa, se cree que la combinación de dos moleculas de carga opuesta generalmente produce una reducción de hidrofilicidad y solvatación en agua que produce precipitación. Como resultado, los sistemas de polfmeros en los que polfmeros aniónicos y polfmeros catiónicos o de ion hfbrido estan en contacto fntimo no se emplean generalmente en campos tales como el campo de las composiciones limpiadoras.

De forma sorprendente, los solicitantes han descubierto que determinadas combinaciones de polfmeros aniónicos y polfmeros catiónicos o de ion hfbrido son de hecho estables cuando se ponen en contacto fntimo. Asimismo, los solicitantes han descubierto que cuando dichos sistemas de polfmeros se emplean en composiciones limpiadoras, dichas composiciones limpiadoras presentan propiedades blanqueadoras e inhibidoras de redeposición de suciedad inesperadamente mejoradas.

Son conocidas las composiciones detergentes que comprenden agentes para liberar la suciedad de tipo policarboxilato y poliamina polimericos, tal omo se describe en US-6.066.612. Sin embargo, estas composiciones no describen los sistemas de polfmeros de la presente invención.

SUMARIO DE LA INVENCION

La presente invención se refiere a sistemas de polfmeros que comprenden un polfmero aniónico y un polfmero de poliamina modificada. La presente invención se refiere ademas a composiciones limpiadoras que comprenden dichos sistemas de polfmeros y metodos de uso de dichas composiciones limpiadoras para limpiar un sitio tal como un tejido o superficie dura.

DESCRIPCION DETALLADA DE LA INVENCION

La presente invención se refiere a sistemas de polfmeros que comprenden polfmeros de poliamina aniónicos y modificados, composiciones limpiadoras que comprenden sistemas de polfmeros y metodos para limpiar superficies y tejidos utilizando dichas composiciones limpiadoras.

Definiciones y metodos de ensayo En la presente memoria, la expresión "peso molecular promedio en peso" es el peso molecular promedio en peso determinado mediante cromatograffa de filtración en gel segun el protocolo descubierto en Colloids and Surfaces A. Physico Chemical & Engineering Aspects, vol. 162, 2000, pag. 107-121.

En la presente memoria, los artículos "un" y "una" cuando se utilizan en la presente memoria, por ejemplo, "un polfmero aniónico" o "una poliamina modificada" se entiende que significan uno o mas del material que se reivindica o describe.

Todos los porcentajes y relaciones se calculan en peso, salvo que se indique lo contrario. Todos los porcentajes y relaciones se calculan con respecto a la composición total, salvo que se indique lo contrario.

Salvo que se indique lo contrario, todos los niveles de componentes o composiciones son en referencia al nivel activo de dicho componente o composición, y es excluyente de impurezas, por ejemplo, disolventes o subproductos residuales, que puedan estar presentes en las fuentes comerciales.

Todos los documentos citados se incorporan, en sus partes relevantes, como referencia en la presente memoria; la mención de cualquier documento no debe ser considerada como una aceptación de que forma parte del estado de la tecnica con respecto a la presente invención.

Sistemas de polfmeros Los sistemas de polfmeros de los solicitantes comprenden un polfmero aniónico y un polfmero de poliamina modificada segun la reivindicación 1. En los sistemas de polfmeros de los solicitantes, la relación entre polfmero aniónico y polfmero de poliamina modificada puede ser de aproximadamente 1:20 a aproximadamente 20:1. En otro aspecto de la invención de los solicitantes, la relación entre polfmero aniónico y polfmero de poliamina modificada puede ser de aproximadamente 1:10 a aproximadamente 10:1. En otro aspecto aun de la invención de los solicitantes, la relación entre polfmero aniónico y polfmero de poliamina modificada puede ser de aproximadamente 3:1 a aproximadamente 1:3. En otro aspecto aun de la invención de los solicitantes, la relación entre polfmero aniónico y polfmero de poliamina modificada puede ser aproximadamente 1:1.

Polfmeros aniónicos Los polfmeros aniónicos adecuados incluyen polfmeros aleatorios, polfmeros de bloques y mezclas de los mismos. Dichos polfmeros comprenden de forma típica un primer resto y un segundo en una relación de aproximadamente 100:1 a aproximadamente 1:5. Los primeros restos adecuados incluyen restos derivados de mon6meros C

3. C8 monoetilenicamente insaturados que comprenden al menos un grupo acido carboxflico, sales de dichos mon6meros y mezclas de los mismos. Ejemplos no limitativos de mon6meros adecuados incluyen acidos monocarboxflicos C3-C8 y acidos dicarboxflicos C4-C8 monoetilenicamente insaturados seleccionados del grupo que consiste en acido acrflico, acido metacrflico, acido beta-acriloxipropiónico, acido acetico de vinilo, acido propiónico de vinilo, acido crot6nico, acido etacrflico, acido alfa-cloroacrflico, acido alfa-cianoacrflico, acido maleico, anhfdrido maleico, acido fumarico, acido itac6nico, acido citrac6nico, acido mesac6nico, acido metilenmal6nico, sus sales y mezclas de los mismos. En un aspecto de la invención del solicitante, los primeros restos adecuados comprenden mon6meros que se seleccionan en su totalidad del grupo que consiste en: acido acrflico, acido metacrflico, acido maleico y mezclas de los mismos.

Los segundos restos adecuados incluyen:

amonio y amina, alquilo C1-C20 saturado, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20;

b.) Yse selecciona del grupo que consiste en -CH2-, -CO2-, -OCO-, y -CON (Ra) -, -CH2OCO-; en donde Ra es H o alquilo C1-C4; c.) L se selecciona del grupo que consiste en hidr6geno, metales alcalinos, metales alcalinoterreos, bases amonio y amina, alquilo C1-C20 saturado, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; y d.) Z se selecciona del grupo que consiste en arilo C6-C12 y arilalquilo C7-C12. En otro aspecto de la invención de los solicitantes: a.) Rse selecciona del grupo que consiste en C (X) H=C (R1) -en donde

(i) R1es H y

(ii) X esHoCO2H; b.) Y es -CO2-; c.) L se selecciona del grupo que consiste en hidr6geno, metales alcalinos, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; y d.) Z se selecciona del grupo que consiste en arilo C6-C12 y arilalquilo C7-C12. En otro aspecto aun de la invención de los solicitantes, las variables R, R1, Y, L y Z son como se ha descrito

inmediatamente arriba y la variable X es H. Los polfmeros aniónicos adecuados que comprenden dichos restos primeros y segundos tienen, de forma típica, pesos moleculares promedio en peso de aproximadamente 1000 Da a aproximadamente 100.000 Da. Ejemplos de dichos polfmeros incluyen, Alcosperse® 725 y Alcosperse® 747 comercializados por Alco Chemical de Chattanooga, Tennessee, EE. UU. y Acusol® 480N de Rohm & Haas Co. de Spring House, Pennsylvania, EE. UU.

Otra clase de segundos restos adecuados incluye restos derivados de mon6meros etilenicamente insaturados que contienen de 1 a 100 unidades repetitivas seleccionadas del grupo que consiste en alc6xidos de C1-C4 carbonos y mezclas de los mismos. Un ejemplo de dicho mon6mero insaturado esta representado por la fórmula J-G-Den donde:

1.) J se selecciona del grupo que consiste en C (X) H=C (R1) -en donde a.) R1 es H o alquilo C1-C4; b.) X es H, CO2H o CO2R2 en donde R2 es hidr6geno, metales alcalinos, metales alcalinoterreos, bases amonio y amina,... [Seguir leyendo]

1. Un sistema de polfmeros que comprende: A) un polfmero aniónico seleccionado del grupo que consiste en 5 (i) polfmeros aniónicos que comprenden:

a.) un primer resto derivado de mon6meros C3-C8 monoetilenicamente insaturados que comprende al menos un grupo acido carboxflico, sales de dichos mon6meros y mezclas de los mismos; y b.) un segundo resto seleccionado del grupo que consiste en:

(1) restos derivados de mon6meros insaturados modificados que tienen las fórmulas R - Y - L y R -Z, en 10 donde:

i.) R se selecciona del grupo que consiste en C (X) H=C (R1) -en donde R1 es H, o alquilo C1-C4; y X es H, CO2H, o CO2R2, en donde R2 es hidr6geno, metales alcalinos, metales alcalinoterreos, bases de amonio y amina, alquilo C1-C20 saturado, arilo C6-C12, y alquilarilo C7-C20;

ii.) Y se selecciona del grupo que consiste en -CH2-, -CO2-, -OCO-, y -CON (Ra) -, -CH2OCO-; en donde Ra es 15 H o alquilo C1-C4;

iii.) L se selecciona del grupo que consiste en hidr6geno, metales alcalinos, metales alcalinoterreos, bases de amonio y amina, alquilo C1-C20 saturado, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; y iv.) Z se selecciona del grupo que consiste en arilo C8-C12 y arilalquilo C7-C12; y (2) restos que tienen la fórmula J-G-D en donde: 20 i.) J se selecciona del grupo que consiste en C (X) H=C (R1) -en donde R1 es H o alquilo C1-C4; X es H, CO2H

o CO2R2 en donde R2 es hidr6geno, metales alcalinos, metales alcalinoterreos, bases de amonio y amina, alquilo C2-C20 saturado, arilo C6-C12, alquilarilo C7-C20; ii.) G se selecciona del grupo que consiste en alquilo C1-C4, -O-, -CH2O-, -CO2-.

iii.) D se selecciona del grupo que consiste en25 -CH2CH (OH) CH2O (R3O) dR4;

-CH2CH[O (R3O) dR4]CH2OH;

-CH2CH (OH) CH2NR5 (R3O) dR4;

-CH2CH[NR5 (R3O) dR4]CH2OH, y mezclas de los mismos; en donda R3 se selecciona del grupo que consiste en etileno, 1, 2-propileno, 1, 3-propileno, 1, 2-butileno, 1, 4-butileno 30y mezclas de los mismos;

R4 es una unidad de protección terminal seleccionada del grupo que consiste en H, alquilo C1-C4, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20;

R5 se selecciona del grupo que consiste en H, alquilo C1-C4, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; y el subfndice d es un numero entero de 1 a 100.

(ii) copolfmeros de injerto que comprenden un primer resto derivado de mon6meros C3-C8 monoetilenicamente insaturados que comprenden al menos un grupo acido carboxflico, sales de dichos mon6meros y mezclas de los mismos, estando dichos primeros restos injertados en un poli (6xido de alquileno) de C1-C4 carbonos y mezclas de los mismos; y B.) Un polfmero de poliamina modificada que tienen la siguiente fórmula:

2. Una composición limpiadora que comprende el sistema de polfmeros de la reivindicación 1.

3. Un metodo de limpieza de un sitio que comprende poner en contacto dicho sitio, o una parte manchada del mismo, con la composición limpiadora de la reivindicación 2 o con una solución diluida que comprende la composición limpiadora de la reivindicación 2 y a continuación, de forma opcional, aplicar un lavado seguido, de forma opcional, de aclarado de dicho sitio.